DE102005059367A1 - Method of depositing crack-free, corrosion-resistant and hard chromium and chromium alloy layers - Google Patents

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung einer funktionellen Chromschicht aus einem chromhaltigen Elektrolyten auf einem Substrat sowie eine Elektrolytzusammensetzung. Die erfindungsgemäße Elektrolytzusammensetzung weist Sulfoessigsäure auf. Das erfindungsgemäße Verfahren lässt sich bei Stromdichten zwischen ungefähr 20 bis ungefähr 150 A/dm·2· betreiben mit einer Stromausbeute größer 30%, wobei Schichten mit einer Härte größer 800 HV 0,1 und einer Korrosionsbeständigkeit größer 200 Stunden abgeschieden werden.The present invention relates to a method for depositing a functional chromium layer from a chromium-containing electrolyte on a substrate and to an electrolyte composition. The electrolyte composition of the present invention includes sulfoacetic acid. The method according to the invention can be operated at current densities between approximately 20 to approximately 150 A / dm · 2 · with a current yield greater than 30%, layers with a hardness greater than 800 HV 0.1 and a corrosion resistance greater than 200 hours being deposited.

Description

Die vorliegende Patentanmeldung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung einer rissfreien, korrosionsbeständigen und harten Chrom- oder Chromlegierungsschicht sowie einen Elektrolyten zur Abscheidung einer solchen.The The present patent application relates to a method of deposition a crack-free, corrosion-resistant and hard chromium or chromium alloy layer and an electrolyte for the deposition of such.

Die Beschichtung von Oberflächen mittels galvanotechnischer Verfahren nimmt seit Jahrzehnten eine führende Position im Bereich der Oberflächenveredelung ein. Hierbei können die Gründe zur Beschichtung von Substratoberflächen eine Verbesserung der Oberflächeneigenschaft hinsichtlich Härte, Abrasivität oder Korrosionsbeständigkeit sein, oder auch rein ästhetisch begründet sein, um das dekorative Aussehen von Substraten gefälliger zu gestalten.The Coating of surfaces Electroplating technology has been taking a leading position for decades in the field of surface finishing one. Here you can the reasons for coating substrate surfaces an improvement of surface property in terms of hardness, abrasiveness or corrosion resistance be, or purely aesthetic justified to make the decorative appearance of substrates more pleasing shape.

Gleichfalls ist es bereits lange aus dem Stand der Technik bekannt, Oberflächen mittels chromhaltiger Elektrolyten zu verchromen. Die abgeschiedenen Chromschichten weisen in Abhängigkeit des eingesetzten Elektrolyten und der Verfahrensparameter ganz unterschiedliche Eigenschaften hinsichtlich Härte, Korrosionsbeständigkeit und Glanz auf.Likewise it has long been known from the prior art, surfaces by means Chromium-containing electrolyte to chrome. The deposited chromium layers show depending on the electrolyte used and the process parameters very different Properties in terms of hardness, corrosion resistance and shine on.

Aus dem Stand der Technik ist es bekannt, saure Chrom (VI)-haltige Elektrolytzusammensetzungen, welche darüber hinaus beispielsweise einen Sulfationenhaltigen Katalysator aufweisen, zur Abscheidung von Chromschichten auf einem Basismetall einzusetzen. Die Abscheidung erfolgt galvanisch bei Temperaturen in einem Bereich zwischen 50 und 70°C. Die hierbei eingesetzte Stromdichte liegt üblicherweise in einem Bereich zwischen 30 und 50 A/dm2. Die aus dem Stand der Technik bekannte, resultierende Stromausbeute liegt im Bereich von 12 bis 16%.It is known from the state of the art to use acidic chromium (VI) -containing electrolyte compositions which, for example, also contain a sulfate ion-containing catalyst for depositing chromium layers on a base metal. The deposition is carried out galvanically at temperatures in a range between 50 and 70 ° C. The current density used here is usually in a range between 30 and 50 A / dm 2 . The resulting current efficiency known in the art is in the range of 12 to 16%.

Der Zusatz von Fluoridionen und Alkansulfonsäuren erlaubt, wie in DE 4302564 offenbart, eine Steigerung der Stromausbeute bis auf 26%.The addition of fluoride ions and alkanesulfonic acids allowed, as in DE 4302564 discloses an increase in current efficiency down to 26%.

Im allgemeinen sind die Eigenschaften der abgeschiedenen Chromschichten insbesondere von der Abscheidegeschwindigkeit, der eingesetzten Stromdichte und der Temperatur, bei welcher abgeschieden wird, abhängig. Hierbei beeinflussen sich die einzelnen Parameter gegenseitig. So ist es z. B. bekannt bei 30°C in einem Stromdichtebereich zwischen 2 und 8 A/dm2 glänzende Chromschichten aus sulfathaltigen Elektrolyten abzuscheiden, wobei bei 40°C in vergleichbaren Elektrolyten bei Stromdichten von 3 bis 18 A/dm2, und bei 50°C sogar zwischen 6 und 28 A/dm2 glänzende Schichten erhalten werden. Demhingegen ist die Abscheidung matter Chromschichten bei Temperaturen um 30°C in einem Bereich unter 2 A/dm2 möglich. In Abhängigkeit der Temperatur steigt die Stromdichte zur Abscheidung matter Schichten bis auf 6 A/dm2 an. Aus dem Stand der Technik bekannte Heißchromverfahren wie beispielsweise ANKOR® 1141 der Firma Enthone Inc. ermöglichen bei 70°C lediglich eine Stromausbeute von 10% bei einer erhaltenen Härte der abgeschiedenen Schicht von 700 HV 0,1. Eine Erhöhung der Stromausbeute in diesem Verfahren führt zur Rißbildung, ebenso wie die mechanische Nachbearbeitung dieser Schichten.In general, the properties of the deposited chromium layers are dependent in particular on the deposition rate, the current density used and the temperature at which deposition takes place. Here, the individual parameters influence each other. So it is z. B. known to deposit at 30 ° C in a current density range between 2 and 8 A / dm 2 shiny chrome layers of sulfate-containing electrolyte, at 40 ° C in comparable electrolytes at current densities of 3 to 18 A / dm 2 , and even at 50 ° C. between 6 and 28 A / dm 2 shiny layers are obtained. In contrast, the deposition of matt chrome layers at temperatures around 30 ° C in a range below 2 A / dm 2 is possible. Depending on the temperature, the current density for depositing matt layers increases up to 6 A / dm 2 . From the prior art known hot chrome methods such as ANKOR ® 1141 Enthone Inc. only allow a current efficiency of 10% with a resulting hardness of the deposited layer of 700 HV 0.1 at 70 ° C. An increase in the current efficiency in this process leads to cracking, as well as the mechanical post-processing of these layers.

Aus dem europäischen Patent EP 0 073 568 ist die Verwendung von Chrom (VI)-haltigen Beschichtungsbädern bekannt, welche durch Zugabe eines Carboxylats zu halogenidhaltigen Beschichtungsbädern bei der Abscheidung matter bis glänzender Chromschichten Stromausbeuten um 30% ermöglicht. Als Halogenidquelle dient hier Kaliumiodat.From the European patent EP 0 073 568 the use of chromium (VI) -containing coating baths is known, which allows by adding a carboxylate to halide coating baths in the deposition of dull to shiny chromium layers current yields by 30%. The halide source is potassium iodate.

Vor dem Hintergrund des Standes der Technik ist es die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein geeignetes Verfahren zur Abscheidung korrosionsfester, rissfreier und harter Chrom- und Chromlegierungsschichten mit hoher Stromausbeute zur Verfügung zu stellen. Darüber hinaus ist es die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine entsprechende chromhaltige Elektrolytzusammensetzung zur Abscheidung rissfreier, korrosionsbeständiger und harter Chrom- und Chromlegierungsschichten auf Substraten zur Verfügung zu stellen, welche die Abscheidung rissfreier Hartchromschichten bei hohen Stromausbeuten, insbesondere größer 30% und hohen Abscheidegeschwindigkeiten ermöglicht.In front In the background of the prior art, it is the object of the present invention Invention, a suitable method for the deposition of corrosion-resistant, crack-free and hard chromium and chromium alloy layers with high Current efficiency available to deliver. About that In addition, it is the object of the present invention to provide a corresponding chromium-containing electrolyte composition for the separation of crack-free, corrosion-resistant and hard chromium and chromium alloy layers on substrates disposal which is the deposition of crack-free hard chrome layers at high current yields, in particular greater than 30% and high deposition rates allows.

Gelöst wird die Aufgabe hinsichtlich des Verfahrens durch ein Verfahren zur Abscheidung von Chrom- oder Chromlegierungsschichten auf Substraten, bei welchem zur Abscheidung das Substrat mit einer Elektrolytzusammensetzung kontaktiert wird, welche wenigstens eine Mineralsäure oder ein Mineralsäuresalz, eine Chromverbindung, eine Halogensauerstoffverbindung, eine Sulfonsäure, sowie Sulfoessigsäure und/oder ein Salz dieser und/oder einen Reaktanten, aus dem sich Sulfoessigsäure bildet, aufweist.Is solved the task with regard to the method by a method for Deposition of chromium or chromium alloy layers on substrates, in which for deposition, the substrate is provided with an electrolyte composition is contacted, which at least one mineral acid or a mineral acid salt, a chromium compound, a halo oxygen compound, a sulfonic acid, and sulfoacetic and / or a salt thereof and / or a reactant from which sulfoacetic forms, has.

Zur Abscheidung der funktionellen Chromschicht wird eine elektrische Spannung zwischen zu beschichtendem Substrat und einer Gegenelektrode angelegt. Hierbei kann erfindungsgemäß eine Stromdichte zwischen ungefähr 20 A/dm2 und ungefähr 150 A/dm2 eingestellt werden.For the deposition of the functional chromium layer is an electric voltage between to be layered substrate and a counter electrode. In this case, according to the invention, a current density between approximately 20 A / dm 2 and approximately 150 A / dm 2 can be set.

Das erfindungsgemäße Verfahren wird bei einer Temperatur zwischen ungefähr 20°C und ungefähr 90°C betrieben.The inventive method is operated at a temperature between about 20 ° C and about 90 ° C.

Die mit dem erfindungsgemäßen Verfahren erzielte Stromausbeute ist 3 30%. Die Abscheidegeschwindigkeit des erfindungsgemäßen Verfahrens ist bei einer Stromdichte von 50 A/dm2 größer als 1,3 μm/min.The current efficiency achieved by the method according to the invention is 3 30%. The deposition rate of the process according to the invention is greater than 1.3 μm / min at a current density of 50 A / dm 2 .

Die aus dem erfindungsgemäßen Elektrolyten mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens abgeschiedenen Chromschichten sind hart und weisen eine Härte größer 800 HV 0,1 auf.The from the electrolyte according to the invention by the method according to the invention deposited chromium layers are hard and have a hardness greater than 800 HV 0.1 on.

Darüber hinaus sind die erfindungsgemäß abgeschiedenen Chromschichten äußerst korrosionsbeständig und weisen eine Korrosionsbeständigkeit gemäß DIN 50021 SS bei 25 μm von mehr als 200 Stunden auf.Furthermore are the deposited according to the invention Chromium layers extremely corrosion resistant and have a corrosion resistance according to DIN 50021 SS at 25 μm of more than 200 hours up.

Aus dem erfindungsgemäßen Elektrolyten werden mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens matte, graue Chromschichten abgeschieden, welche mittels geeigneter mechanischer Bearbeitungsverfahren wie beispielsweise Schleifen oder Läppen in glänzende Chromschichten überführt werden können. Auch nach einer solchen mechanischen Bearbeitung weisen die erfindungsgemäß abgeschiedenen Schichten eine hohe Korrosionsbeständigkeit und Härte auf.Out the electrolyte of the invention be by means of the method according to the invention matt, gray chromium layers deposited, which by means of suitable mechanical processing such as grinding or lapping in shining Chrome layers are transferred can. Even after such mechanical processing, the deposited according to the invention Layers have a high corrosion resistance and hardness.

Die Erfindung wird anhand der in der nachfolgenden Tabelle aufgeführten Ausführungsbeispiele näher erläutert, wobei sich die Erfindung jedoch in keinster Weise auf die Ausführungsbeispiele beschränken läßt.The Invention is based on the embodiments listed in the following table explained in more detail, wherein However, the invention in no way on the embodiments restrict leaves.

Hinsichtlich der Elektrolytzusammensetzung wird die Aufgabe durch eine chromhaltige Elektrolytzusammensetzung zur Abscheidung einer funktionellen Chrom- oder Chromlegierungsschicht auf Substraten gelöst, welche wenigstens eine Mineralsäure oder ein Mineralsäuresalz, eine Chromverbindung, eine Halogensauerstoffverbindung, eine Sulfonsäure sowie Sulfoessigsäure und/oder ein Salz dieser und/oder einen Reaktanten, aus dem sich Sulfoessigsäure bildet, aufweist. Reaktanten können beispielsweise 3-Hydroxypropan-1-sulfonsäure, Hydroxymethansulfonsäure oder Aldehydomethansulfonsäure sein.Regarding the electrolyte composition is the object by a chromium-containing Electrolytic composition for depositing a functional chromium or chromium alloy layer on substrates, which at least one mineral acid or a mineral acid salt, a chromium compound, a halo oxygen compound, a sulfonic acid, and sulfoacetic and / or a salt thereof and / or a reactant from which sulfoacetic forms, has. Reactants can For example, 3-hydroxypropane-1-sulfonic acid, hydroxymethanesulfonic acid or Aldehydomethansulfonsäure be.

Vorteilhafterweise enthält die erfindungsgemäße Elektrolytzusammensetzung die Sulfoessigsäure oder ein Salz dieser oder einen Reaktanten, aus dem diese sich bildet, in einer Konzentration zwischen ungefähr 0,03 und ungefähr 0,3 mol/l, bevorzugt zwischen 0,05 und 0,15 mol/l, und noch bevorzugter zwischen ungefähr 0,06 und ungefähr 0,12 mol/l.advantageously, contains the electrolyte composition of the invention the sulfoacetic acid or a salt of this or a reactant from which it forms, in a concentration between about 0.03 and about 0.3 mol / l, preferably between 0.05 and 0.15 mol / l, and more preferably between approximately 0.06 and about 0.12 mol / l.

Als geeignete Halogensauerstoffverbindungen haben sich in der erfindungsgemäßen Elektrolytzusammensetzung insbesondere Alkali- und/oder Erdalkalihalogensauerstoffverbindungen erwiesen. Die Zusammensetzung kann die Alkali- oder Erdalkalihalogensauerstoffverbindung in einer Konzentration zwischen ungefähr 0,001 und ungefähr 0,1 mol/l, bevorzugt zwischen ungefähr 0,005 und ungefähr 0,08 mol/l, und noch bevorzugter zwischen ungefähr 0,007 und 0,03 mol/l enthalten.When Suitable halo-oxygen compounds are in the electrolyte composition according to the invention in particular alkali and / or alkaline earth halogen oxygen compounds proved. The composition may be the alkali or alkaline earth halo oxygen compound in a concentration between about 0.001 and about 0.1 mol / l, preferably between about 0.005 and about 0.08 mol / l, and more preferably between about 0.007 and 0.03 mol / l.

Als besonders geeignete Halogensauerstoffverbindung hat sich in der erfindungsgemäßen Elektrolytzusammensetzung Kaliumiodat erwiesen.When Particularly suitable halogenated oxygen compound has been found in the Inventive electrolyte composition Potassium iodate proved.

Der Zusatz von Halogensauerstoffverbindungen steigert die Stromausbeute und führt zu verbesserten Schichteigenschaften.Of the Addition of halogenated oxygen compounds increases the current efficiency and leads for improved layer properties.

Die Elektrolytzusammensetzung weist als Mineralsäure vorteilhafterweise Schwefelsäure auf. Der pH-Wert der Elektrolytzusammensetzung liegt erfindungsgemäß in einem Bereich von pH < 1.The Electrolyte composition advantageously comprises sulfuric acid as the mineral acid. The pH of the electrolyte composition according to the invention is in one Range of pH <1.

Die Elektrolytzusammensetzung zur Abscheidung funktioneller Chromschichten enthält die Chromverbindung in einer Konzentration zwischen ungefähr 0,5 mol/l und ungefähr 5 mol/l, bevorzugt zwischen ungefähr 1 mol/l und ungefähr 4 mol/l, noch bevorzugter zwischen ungefähr 2 mol/l und ungefähr 3 mol/l.The Electrolyte composition for depositing functional chromium layers contains the chromium compound in a concentration between about 0.5 mol / l and about 5 mol / l, preferably between about 1 mol / l and about 4 mol / l, more preferably between about 2 mol / l and about 3 mol / l.

Insbesondere Chromtrioxid hat sich als geeignete Chromverbindung in den erfindungsgemäßen Elektrolytzusammensetzungen erwiesen.Especially Chromium trioxide has proved to be a suitable chromium compound in the electrolyte compositions of the invention proved.

Vorteilhaft enthält die Elektrolytzusammensetzung als Sulfonsäuren wenigstens eine Mono- oder Disulfonsäure. Insbesondere geeignet ist Methansulfonsäure oder Methandisulfonsäure.Advantageously, the electrolyte composition contains as sulfonic acids at least one mono- or di sulfonic acid. Particularly suitable is methanesulfonic acid or methanedisulfonic acid.

Die Sulfonsäure kann in der erfindungsgemäßen Elektrolytzusammensetzung in einer Konzentration zwischen ungefähr 0,01 mol/l und ungefähr 0,1 mol/l, bevorzugt zwischen ungefähr 0,015 mol/l und ungefähr 0,06 mol/l, noch bevorzugter zwischen ungefähr 0,02 mol/l und ungefähr 0,04 mol/l enthalten sein.The sulfonic acid can in the electrolyte composition of the invention in a concentration between about 0.01 mol / l and about 0.1 mol / l, preferably between about 0.015 mol / l and about 0.06 mol / l, more preferably between about 0.02 mol / l and about 0.04 be contained mol / l.

Der Zusatz einer Sulfonsäure führt zu Erhöhung der Härte der abgeschiedenen Chromschicht, ohne die Abscheidung hinsichtlich Stromausbeute oder Abscheidegeschwindigkeit zu beeinträchtigen.Of the Addition of a sulfonic acid leads to increase the hardness the deposited chromium layer, without the deposition in terms Current efficiency or deposition rate to affect.

Ausführungsbeispieleembodiments

In der nachfolgenden Tabelle sind ausgehend von einem Grundelektrolyten unterschiedliche erfindungsgemäße Elektrolyten und die aus diesen Elektrolyten unter den angegebenen erfindungsgemäßen Verfahrensparameters abgeschiedenen Schichten angegeben.In The following table is based on a base electrolyte different electrolytes according to the invention and those from these electrolytes under the given process parameters of the invention deposited layers indicated.

Der Grundelektrolyt weist 280 g/l Chromtrioxid und 2,8 g/l Schwefelsäure auf.Of the Base electrolyte has 280 g / l chromium trioxide and 2.8 g / l sulfuric acid.

Alle abgeschiedenen Schichten weisen eine Härte größer 800 HV 0,1 und eine Korrosionsbeständigkeit gemäß DIN 5002165 von mehr als 200 Stunden auf. Als Basismaterial dient induktiv gehärteter CK45-Stahl.All Deposited layers have a hardness greater than 800 HV 0.1 and a corrosion resistance according to DIN 5002165 of more than 200 hours up. The base material is inductively hardened CK45 steel.

Figure 00070001
Figure 00070001

Claims (14)

Verfahren zur Abscheidung einer Chrom- oder Chromlegierungsschicht auf einem Substrat, wobei zur Abscheidung das Substrat mit einer Elektrolytzusammensetzung kontaktiert, welche wenigstens eine Mineralsäure oder ein Mineralsäuresalz, eine Chromverbindung, eine Halogensauerstoffverbindung, eine Sulfonsäure, sowie Sulfoessigsäure und/oder ein Salz dieser und/oder einen Rektanten, aus dem sich Sulfoessigsäure bildet, aufweist.Method of depositing a chromium or chromium alloy layer on a substrate, wherein for depositing the substrate with a Contacted electrolyte composition, which at least one mineral acid or a mineral acid salt, a chromium compound, a halo oxygen compound, a sulfonic acid, and sulfoacetic and / or a salt of this and / or a rectant that makes up Forms sulfoacetic acid, having. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Abscheidung der Chromschicht eine elektrische Spannung zwischen dem zu beschichtenden Substrat und einer Gegenelektrode angelegt wird.Method according to claim 1, characterized in that the Deposition of the chromium layer an electrical voltage between applied to the substrate to be coated and a counter electrode becomes. Verfahren gemäß Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine Stromdichte zwischen ungefähr 20 A/dm2 bis ungefähr 150 A/dm2 eingestellt wird.A method according to claim 2, characterized in that a current density of between about 20 A / dm 2 to about 150 A / dm 2 is set. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Verfahren bei einer Temperatur zwischen ungefähr 20°C und ungefähr 90°C betrieben wird.Method according to one the claims 1 to 3, characterized in that the method at a temperature between about 20 ° C and approximately 90 ° C operated becomes. Chromhaltige Elektrolytzusammensetzung zur Abscheidung einer Chrom- oder Chromlegierungsschicht auf einem Substrat, wenigstens aufweisend eine Mineralsäure oder ein Mineralsäuresalz, eine Chromverbindung, eine Halogensauerstoffverbindung, eine Sulfonsäure, sowie Sulfoessigsäure und/oder ein Salz dieser und/oder einen Rektanten, aus dem sich Sulfoessigsäure bildet.Chromium-containing electrolyte composition for deposition a chrome or Chromium alloy layer on a substrate, at least comprising a mineral acid or a mineral acid salt, a chromium compound, a halo oxygen compound, a sulfonic acid, and sulfoacetic and / or a salt of this and / or a rectant that makes up sulfoacetic forms. Elektrolytzusammensetzung gemäß Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrolytzusammensetzung die Sulfoessigsäure, deren Salz oder einen Rektanten, aus dem sich Sulfoessigsäure bildet, in einer Konzentration zwischen ungefähr 0,03 mol/l und ungefähr 0,3 mol/l, bevorzugt zwischen ungefähr 0,05 mol/l und ungefähr 0,15 mol/l, und noch bevorzugter zwischen ungefähr 0,06 mol/l und ungefähr 0,12 mol/l enthält.Electrolyte composition according to claim 5, characterized in that that the Electrolytic composition sulfoacetic acid, its salt or a Rectides from which sulfoacetic acid forms, in a concentration between about 0.03 mol / l and about 0.3 mol / l, preferably between about 0.05 mol / l and about 0.15 mol / l, and more preferably between about 0.06 mol / l and about 0.12 contains mol / l. Elektrolytzusammensetzung gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 5 und 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Halogensauerstoffverbindung eine Alkali- und/oder Erdalkalihalogensauerstoffverbindung ist.Electrolyte composition according to one or more of claims 5 and 6, characterized in that the Halogen oxygen compound is an alkali and / or alkaline earth halide oxygen compound. Elektrolytzusammensetzung gemäß Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrolytzusammensetzung die Alkali- oder Erdalkalihalogensauerstoffverbindung in einer Konzentration zwischen ungefähr 0,001 mol/l und ungefähr 0,1 mol/l, bevorzugt zwischen ungefähr 0,005 mol/l und ungefähr 0,08 mol/l, noch bevorzugter zwischen ungefähr 0,007 mol/l und ungefähr 0,03 mol/l aufweist.Electrolyte composition according to claim 7, characterized in that that the Electrolyte composition, the alkali or alkaline earth halide oxygen compound in a concentration between about 0.001 mol / l and about 0.1 mol / l, preferably between about 0.005 mol / l and about 0.08 mol / l, more preferably between about 0.007 mol / l and about 0.03 has mol / l. Elektrolytzusammensetzung gemäß einem der Ansprüche 5 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrolytzusammensetzung einen pH-Wert im Bereich von pH < 1 aufweist.An electrolyte composition according to any one of claims 5 to 8, characterized in that the electrolyte composition a pH in the range of pH <1 having. Elektrolytzusammensetzung gemäß einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Zusammensetzung die Chromverbindung in einer Konzentration zwischen ungefähr 0,5 mol/l und ungefähr 5 mol/l, bevorzugt zwischen ungefähr 1 mol/l und ungefähr 4 mol/l, noch bevorzugter zwischen ungefähr 2 mol/l und ungefähr 3 mol/l.An electrolyte composition according to any one of claims 5 to 9, characterized in that the composition the chromium compound in a concentration between about 0.5 mol / l and about 5 mol / l, preferably between about 1 mol / l and about 4 mol / l, more preferably between about 2 mol / l and about 3 mol / l. Elektrolytzusammensetzung gemäß einem der Ansprüche 5 bis 10, wobei die Elektrolytzusammensetzung als Sulfonsäure eine Mono- oder Disulfonsäure oder ein Salz dieser aufweist.An electrolyte composition according to any one of claims 5 to 10, wherein the electrolyte composition as a sulfonic acid Mono- or disulfonic acid or a salt thereof. Elektrolytzusammensetzung gemäß einem der Ansprüche 5 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Zusammensetzung die weitere Sulfonsäure oder deren Salz in einer Konzentration zwischen ungefähr 0,01 mol/l und ungefähr 0,1 mol/l, bevorzugt zwischen ungefähr 0,015 mol/l und ungefähr 0,06 mol/l, und noch bevorzugter zwischen ungefähr 0,02 mol/l und ungefähr 0,04 mol/l aufweist.An electrolyte composition according to any one of claims 5 to 11, characterized in that the composition the further sulfonic acid or its salt in a concentration between about 0.01 mol / l and about 0.1 mol / l, preferably between about 0.015 mol / l and about 0.06 mol / l, and more preferably between about 0.02 mol / l and about 0.04 has mol / l. Chromschicht, abgeschieden nach einem Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten eine Härte größer 800 HV 0,1 aufweisen.Chromium layer deposited by a process according to one the claims 1 to 4, characterized in that the layers have a hardness greater than 800 HV 0.1. Chromschicht, abgeschieden nach einem Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten eine Korrosionsbeständigkeit gemäß DIN 50021 SS von mehr als 200 Stunden aufweisen.Chromium layer deposited by a process according to one the claims 1 to 4, characterized in that the layers have a corrosion resistance according to DIN 50021 Have SS of more than 200 hours.
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