DE1621117A1 - Process for the electrolytic deposition of nickel coating - Google Patents
Process for the electrolytic deposition of nickel coatingInfo
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Description
Beschreibung
zur Patentanmeldung derdescription
to the patent application of
MSsS Chemicals Inc., Hew York, HOY0* VoSt0A0 MSsS Chemicals Inc., Hew York, HOY 0 * VoSt 0 A 0
betreffend
Verfahren zur elektrolytiöchen Abscheidung von Hlekelüberzugenconcerning
Process for the electrolytic deposition of handle coatings
Prioritätχ 26,10»1966Priority χ 26.10 »1966
Die Erfindung bezieht sich auf ein neues Elektroplattierungsverfahren«, Sie besieht sich insbesondere auf ein neuee Verfahren zur elektrolytiaohen Abscheidung eines Hickelüberzugs, der sich dadurch auszeichnet, daß er-eine gute Schutzwirkung ergibt und mit Chrom plattiert werden kann, wobei ein Produkt erhalten wird, das gegenüber Korrosion äußerst beständig ist«,The invention relates to a new electroplating process «, In particular, it is looking at a new procedure for the electrolytic deposition of a hickel coating, which is characterized by the fact that it has a good protective effect results and can be plated with chrome, being a product is obtained that is extremely resistant to corrosion «,
¥i© es allgemein bekannt ists kann, maa ein mit Chrom plattiertas Produkt dadurch herstelX©n, ämß man auf ein. Gxus&imetall¥ i © it is generally known s may maa a plattiertas with chrome product characterized herstelX © n, one ämß a. Gxus & imetall
SADSAD
2-2-
100816/1701100816/1701
«3 2 β» ■«3 2 β» ■
eine erste Plattiemng aus einem iialbglänzenden NiekeHp dar eich durch seino DtiktUität und Einebnung auszeichnet, ein© zweXte Plattierung aus Glanznickel und ©ine abschließende Öhrom.-plattierung aufbringt« Zwar kann man mit diesem System ein Produkt erzielen, das sich durch verbessert© Korrosionsbeständigkeit auszeichnet^ es wurde jedoch gefunden, daß es unter extremen Bedingungen nicht zufriedenstellend ist„ Wenn beispielsweise ein solches System drei Zyldsii dea Standard-CASS-Test (ASTM B380-61T) unterworfen wird, dann wird gefunden* daß ddöJOberfläche Anzeichen von Korrosion zeigt 3 was einen Terlust des Oberflächenglanzes und eine Tfers chi echt erung des optischen Aussehens zur Folge hat«, Diese Erscheinungen zeigen also ein unzufriedenstellendes Verhalten während des Verlaufs der drei Zyklen des Tests an« Für viele Anwendungen ist es jedoch erwünscht, einen chromplattierten Gegenstand herzustellen^ der sich dadurch auszeichnet, daß er nach einer längeren Zeitdauer, die den drei Zyklen dieses Teats entspricht, gegenüber der Atmosphäre beständig ist« A first plating made of a shiny nickel-plated steel that is characterized by its specificity and leveling, a second plating of bright nickel and a final ohrom plating however, it has been found to be unsatisfactory under extreme conditions. For example, if such a system is subjected to three cylinders of the standard CASS test (ASTM B380-61T) it is found that the surface shows signs of corrosion 3 which is a loss the surface gloss and the surface gloss and a surface finish of the optical appearance. "These phenomena thus indicate unsatisfactory behavior during the course of the three cycles of the test that after a long period of time, the three Cycles of this Teat, to which the atmosphere is resistant «
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine neue JTickelplattierung zu schaffen, die sich dadurch auszeichnet» daß man darauf eine Ohromplattierung mit verbesserter Korrosionsbeständigkeit abscheiden kann» Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, eine neue Chroinplattisrung zu schaffen..The present invention is based on the object of creating a new nickel plating which is characterized by "that an ear plating with improved corrosion resistance can be deposited on it". A further object of the invention is to create a new chromium plating.
109816/1701 bad original109816/1701 bad original
die sich durch eins hohe Korrosionsbeständigkeit und zwar insbosondere einer lange anhaltenden Korrosionsbeständigkeit aua-which is characterized by a high level of corrosion resistance, in particular long-lasting corrosion resistance based on
seichnete .pleaded.
Die vorliegende Erfindung betrifft also ein neues Verfahren zur Herstellung von Nickeloberflächen, die sich dadurch auszeichnen, daß sie eine Chromplattierung mit einer hohen Korrosionsbeetändigkeit aufnehmen können« Das Verfahren wird dadurch ausgeführt, daß man auf ein Grundmetall eine erste schwefelhaltige Qlanznickelplattierung elektrolytisch abscheidet, die erete schwefelhaltige Glanzniekelplattierung in ein wäßriges Elektroplattieningsbad eintaucht, daa ungefähr 120-187 g/l Ni4+, 110-225 g/l NiGl2,6H2O und 500-900 g/l Ni(BF4)2 enthält, und mindestens 0,SyM. einer äußeren mikroris eigen Nickelplatt ierung aus diesen Bad abscheidete The present invention thus relates to a new process for the production of nickel surfaces, which are characterized in that they can accept a chrome plating with a high resistance to corrosion Bright nickel plating is immersed in an aqueous electroplating bath, since it contains about 120-187 g / l Ni 4+ , 110-225 g / l NiGl 2 , 6H 2 O and 500-900 g / l Ni (BF 4 ) 2 , and at least 0, SyM. an outer microris nickel plating from this bath is deposited e
Das Qrundmetall, das erfindungsgemäß plattiert werden kann, kann Eisen einschließlich Eisenlegierungen, wie z.B„ Stahl, Kupfer, Nickel, Messing, Bronze, Zink oder eine Legierung aus diesen Metallen sein« Die außergewöhnlichen Resultate des erfindungsgeraäßen Verfahrens werden dann besonders deutlich, wenn das Grundmetall Stahl ist„ Es ist ein besonderes Merkmal des neuen erfindtingsgemäßen Verfahrens, daß es di<3 Herstellung von plattierten. Produkten mit außergewöhnlichen und unerwartetenThe base metal that can be plated according to the present invention can Iron including iron alloys, such as "steel, copper, Nickel, brass, bronze, zinc or an alloy of these metals be «The extraordinary results of the invention The process becomes particularly clear when the base metal is steel. “It is a special feature of the new process according to the invention that there is di <3 production of plated. Products with extraordinary and unexpected
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BADBATH
Eigenschaften erlaubt, wenn das Material, auf dem die Plattierung abgeschieden wird, ein Gußstück auf Zinkbaeie ist,Properties allowed if the material on which the plating is deposited is a zinc base casting,
Boi einer besonderen Äusftihrungsform des erfindungegemäßen Verfahrene kann die erste Stufe darin bestehen, daß man auf das Basismetall einen Niederschlag aus Kupfer abscheidet« der in der Folge als "Kupferbasisplattierung" bezeichnet wirdB Im Falle von Gußstücken auf Zinkbäsis kann diese wesentlich sein«, Xm Falle von anderen Basismetallen, wie ζ.B0 Stahl, kann sie weggelassen werdenο Die Abscheidung der gewünschten Kupferbaslsplattierung auf ein Gußstück auf Zinkbasis kann dadurch aus·* geführt werden, daß man Kupfer beispielsweise aus einem cyanidhaltigen Kupferplattierungsbad abscheidet» In typisoher Weise kann ein solches Bad die in der folgenden Tabelle I angegebene Zusammensetzung besitzen, worin alle Werte in g/l ausgedrückt sind, sofern nichts anderes angegeben ist*Boi a particular Äusftihrungsform of erfindungegemäßen traversed, the first stage consist in depositing a precipitate of copper on the base metal "is referred to as" Kupferbasisplattierung "B In the case of castings on Zinkbäsis these can be substantially" Xm case it can be omitted from other base metals, such as ζ.B 0 steel have the composition given in Table I below, in which all values are expressed in g / l, unless otherwise stated *
VO CMVO CM
1852
18th
freies KGKGu *
free KGK
1515th
(oder NaCN)(or NaCN)
* zugegeben als Kupfercyanid CuCH0 * added as copper cyanide CuCH 0
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ORIGINALORIGINAL
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Die Abscheidung de.? Kupferbasisplattierung kann durch 8*12 min» beispielsweise 10 tain, dauernde Elektrolyse bei 60-7O0G, beispielsweise 650C, und bei einer Kathodenatromdichte von 3-6 A/dm , beispielsweise 4»5 A/dm , ausgeführt werden0 Vorzugsweise wird das Bad gerührt» beispielsweise durch Luftrührung oder durch Kathoderibewegung. Während dieser Zeit kann Kupfer in einer Dicke von 7*5—15/^. » beispielsweise 12/*» abgeschieden werden,The deposition de.? Copper base plating can be carried out by 8 * 12 min »for example 10 tain, continuous electrolysis at 60-7O 0 G, for example 65 0 C, and at a cathode atom density of 3-6 A / dm, for example 4» 5 A / dm 0 Preferably if the bath is stirred, for example, by stirring the air or by moving the cathode. During this time copper can be used in a thickness of 7 * 5-15 / ^. »For example 12 / *» are deposited,
Bas Basismetall» in typischer Weise entweder (a) ein Gußstück auf Zinkbasis, das die oben angegebene Kupferplattierung trägt» oder (b) ein Stahlbasismetall, welches ggfe eine Kupferbasisplattierung tragen kann, wird dann weiter gemäß der Erfindung behandelt. Vorzugsweise wird auf das Basismetall, wie z.Bο das Oußstttck auf Zinkbasis, welches die Kupferbaeisplattierung trägt, eine erste Schicht aus einer schwefelfrelen, duktilen p halbglänzenden Kickelplattierung abgeschieden«» Die halbgiänzande Nickelplattierung kann beispielsweise durch elektrolyt Ische Abscheidung aus einem Bad der tfatte-fype, einem SuIfamatbad, einem Bad der Fluoborat-Typej, einem chloridfreien Sulfatbad, einem chloridfreien Sulfamatbad usw. oder durch andere Verfahren einschließlich Zersetzung von Nickelcarbonyl unter Abscheidung von Nickel hergestellt werden«.Bas base metal "(a) a casting zinc-based, carrying the above mentioned copper plating" or (b) a steel-based metal, which optionally may bear one e Kupferbasisplattierung typically either is then further treated according to the invention. Preferably p semi-gloss Kickelplattierung is applied to the base metal such as ο the Oußstttck zinc-based, carrying the Kupferbaeisplattierung, a first layer schwefelfrelen from a ductile deposited "" The halbgiänzande nickel plating, for example, by electrolytic ischemia deposition from a bath of the tfatte-fype, a sulfamate bath, a fluoborate type bath, a chloride-free sulfate bath, a chloride-free sulfamate bath, etc., or by other processes including the decomposition of nickel carbonyl with the deposition of nickel ".
-6--6-
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Sin typisches Watta-Bad, daa gemäß der Erfindung verwendet wer· den kann, enthält ZoB0 die folgenden Komponenten in wäßriger LöBung, wobei alle Werte in g/l mit Ausnahme des pH-Werte ausgedrückt sind. (Das verwendete Nlckelohlorid istIn a typical Watta bath that can be used according to the invention, ZoB 0 contains the following components in aqueous solution, all values being expressed in g / l with the exception of the pH values. (The hollow chloride used is das verwendete Nickelsulfat ist NiSO > .6KLO. Wenn also in diesen Tabellen von Nickelohlorid oder Nickelsulfat gesprochen wird, dann wird das Hexshydrat gemeint).the nickel sulfate used is NiSO> .6KLO. So when we speak of nickel chloride or nickel sulphate in these tables then the hexhydrate is meant).
4,0 ■ ψ Μ ^
4.0
Ein typisches Fluoboratbad, welches erfiädungsgemäö verwendet werden kann, enthält die folgenden Komponenten:A typical fluoborate bath used according to the invention contains the following components:
Wie es den Fachleuten auf dieBern Gebiet bekannt ist, kann man hier (wie auch sonstwo) entweder reines Nickelfluoborat oder handelsübliches Nickelfluoborat verwenden, welches Borsäure enthält, das das Fluoboration stabilisierteAs is known to those skilled in the Bern art, one can here (as elsewhere) either pure nickel fluorate or Use commercially available nickel fluorate, which contains boric acid, which stabilizes the fluoborate
Ein typisches chloridfreies Sulfatbad, welches gemäß der Erfindung verwendet werden kann, enthält die folgenden Komponenten:A typical chloride-free sulfate bath made in accordance with the invention contains the following components:
\~- ξ v-4.0
\ ~ - ξ v-
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Ein typisches chloridfreies Sulfamatbad, welches gemäß der Erfindung verwendet werden kann, enthält die folgenden Komponenten: A typical chloride-free sulfamate bath, which according to the Invention can be used contains the following components:
Nickelsulfamat 300 600 350Nickel sulfamate 300 600 350
Borsäure 35 55 45Boric acid 35 55 45
Halbglanzzusatz 0,2 3 * 0,75 Blektrometrischer pH 3 5 4,0Semi-gloss additive 0.2 3 * 0.75 Blectrometric pH 3 5 4.0
Selbstverständlich können die genannten Bäder die Komponenten in Mengen enthalten, die außerhalb der angegebenen bevorzugten Minima und Maxima fallen« Jedoch kann normalerweise das zufriedenstellendste und ökonomischste Arbeiten dann ausgeführt werden, wenn die Komponenten in den angegebenen Mengen in den Bädern vorhanden sindo Of course, the baths mentioned may contain the components in amounts that fall outside the stated preferred minimum and maximum "However, normally the most satisfactory and economical work will be carried out when the components in the indicated amounts are present in the bathrooms o
Halbglanzzusätze, die bei der ersten Stufe des erfindungsgemäßen Verfahrens (unter Verwendung der Bäder der Type II-VI) verwendet werden können, sind Z0B0 Cumarin, Butindiol, Chloralhydrat, Formaldehyd, Piperonal, diäthoxyliertes Butindiol, Bromalhydrat usw0 Der bevorzugte Halbgla^szusatz ist Cumarin, das in einer Konzentration von 0,2-3 g/l* typischerweise 0,75 g/l verwendet wird»Semi-gloss additives that can be used in the first stage of the process according to the invention (using the baths of type II-VI) are Z 0 B 0 coumarin, butynediol, chloral hydrate, formaldehyde, piperonal, diethoxylated butynediol, bromoalhydrate, etc. 0 The preferred half-glass The additive is coumarin, which is used in a concentration of 0.2-3 g / l * typically 0.75 g / l »
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Die elektrolytische Abscheidung der ersten, aehwefelfreien, duktilen halbglänzenden Nickelplattierung kann mit den Halbglanzbädern der Tabelle H-VX unter Verwendung einer Kathodenstromdichte von 1-10 A/dm, beispielsweise 5 A/dm, bei Temperaturen von 50-6O0G, beispielsweise 550O, während 20-30 min, beispielsweise 25 min, ausgeführt werden«. Während dieeer Zeit ist es möglich, auf das basische Metall eine Abscheidung von halbglänzendem Nicke,! mit einer Dicke von 5-40/t,, beispielsweise 25X4, » niederzuschlagen-The electrolytic deposition of the first, sulfur-free, ductile semi-glossy nickel plating can be carried out with the semi-gloss baths in Table H-VX using a cathode current density of 1-10 A / dm, for example 5 A / dm, at temperatures of 50-6O 0 G, for example 55 0 O, can be carried out for 20-30 minutes, for example 25 minutes ". During this time it is possible to deposit a semi-glossy nickel on the basic metal! with a thickness of 5-40 / t ,, for example 25X4, »to be knocked down-
Die halbglänzende ifickelplattieruag ist im wesentlichen echwefelfrei, doh« daß sie ungefähr 0,004$ Schwefel und typiseherweise 0,002 - 0,004% Schwefel und manchmal auch nur 0,0010 - 0,0015# Schwefel enthalte Die Duktilität der halbglänzenden Plattierung kann derart sein, daß T/2R den Wert von 0,5 besitzt, gemessen mit dem allgemein bekannten Standard~Ghrysler-Mikromet@r-Seßt. The semi-glossy nickel plating is essentially sulfur free, doh «that they are about $ 0.004 sulfur and typically 0.002-0.004% sulfur and sometimes only 0.0010-0.0015 # sulfur. The ductility of the semi-gloss cladding can be such that T / 2R the value of 0.5, measured with the well-known standard ~ Ghrysler-Mikromet @ r-Sess.
ErfindungBgemäß wird bevorzugt ®lne Schicht aus glänzendem Nickel auf die erste Nickelplattierung aufgebracht. Die Ergebnisse dieeer Erfindung kßmiea durch di® Verwendung der zweiten Schicht aue g3.änaendem Niökel-mit. oder ohne der ersten oder halbglänzenden Schicht erzielt werden,. Es.wurcte jedoch gefunden» daß außergewöhnlich© und unerwärtat© ResultateIn accordance with the invention, preference is given to a glossy layer Nickel applied to the first nickel plating. the Results of the invention can be achieved through the use of the second layer aue g3.änaendem Niökel-mit. or without the first or semi-glossy layer can be achieved. It did work, however found »that exceptional © and undesirable © results
-ΙΟ-ΙΟ
Ι 0 98 18/ Vi01Ι 0 98 18 / Vi 01
in Bezug auf eine lange Korrosionsbeständigkeit dann erhalten werden, wenn sowohl die erste halbglänzende Schicht als auch die zweite Glanznickelschicht anwesend ist»in terms of long-term corrosion resistance can be obtained if both the first semi-glossy layer and the second layer of bright nickel is present »
Die elektrolytische Abscheidung von G-lanznickel kann durch Flattierung aus Bädern erfolgen, die Nickelsulfate ein Chlorid, wie ZoBo Nickelchlorid, ein Puffermittel, wie Z0B0 Borsäure, und ein Netzmittel enthalten. Solche Bäder umfassen die Watts» Bäder und die hochchloridhaltigen Bäder« Ändere Bäder können als Nickelquelle eine Kombination von Niokelfluoborat mit Kickelsulfat und Hickelchlorid oder eine Kombination von Nlokel-Bulfamat und Nickelohlorid enthalten. Typische Bäder der Watte-Type und typische hoohchloridhaltlge Bäder sind in den Tabellen VII und VIII angegeben·The electrolytic deposition of bright nickel can be done by flatting from baths that contain nickel sulfate, a chloride such as ZoBo nickel chloride, a buffering agent such as Z 0 B 0 boric acid, and a wetting agent. Such baths include the Watts "Baths and High Chloride Baths". Other baths may contain a combination of Niokelfluoborat with Kickelsulfat and Hickelchlorid or a combination of Nlokel Bulfamat and Nickelohlorid as a source of nickel. Typical baths of the wadding type and typical high chloride-containing baths are given in Tables VII and VIII.
Komponenten
Niakeleulfat ,
Niokelohlorid
Borsäure
Temperatur Components
Niakele sulfate,
Niokelorid
Boric acid
temperature
Rührung mechanisch und/oderMechanical stirring and / or
Luft oder Lösungsumpumpen uswoAir or solution pumps uswo
.".-.-- 2,5 4?5 3,5. ".-.-- 2.5 4 ? 5 3.5
10 9 8 1 6 / 1701 eAD original 10 9 8 1 6/1701 eAD original
Luft oder Lösungspumpen usw, pH ·- 2,5 45 '. ,3,5Air or solution pumps, etc., pH - 2.5 45 '. , 3.5
In den elektrolytischen Bädern der Tabellen 711 und VIII können auch primäre Nickelgfl.fonfler in Mengen ,von 0,002-0,2 g/l, beispielaveiee 0,-2 g/l, aekundSre Glänzer in Mengen von 1-3Q g/l, beispielsweise 5 g/l* und sekundfire Hilfaglünzer in Mengen von 0,5-3 g/1« beispielsweise 1 g/l, anwesend sein. Typische primäre Glänser sind z.B0 acetyleniache Verbindungen, wie Z0B0 In the electrolytic baths of Tables 711 and VIII, primary nickel flavors can also be used in quantities of 0.002-0.2 g / l, for example 0.2 g / l, and secondary shine in quantities of 1-3Q g / l, for example 5 g / l * and secondary fires in quantities of 0.5-3 g / l, for example 1 g / l, should be present. Typical primary Glänser include 0 acetyleniache compounds such as Z 0 B 0
i 9 ~ ■ i 9 ~ ■
Butindiol, dläthoxyliertes Butin&lol, Phenylpropiolamid oder Pyridiniumverbindungen, wie ζβΒο quatemierte Pyridinderivate, beispieleweise öl, ^'-Bis-tpyridiniuBijodldJ^je-lutidin·. Typische sekundäre Glänzer sind Z0B3 Sulfoeauerstofx» verbindungen, beispielsweise Saccharin, BenzölmonoBulfonat uswo Typische sekundäre Hilfsglänzer sind ζ.B0 Natriumallylsulfonat, Natriun-3-chloro-buten-i-Bulfonat. · *; *Butynediol, dlethoxylated butyne, phenylpropiolamide or pyridinium compounds, such as ζ β Β ο quaternized pyridine derivatives, for example oil, ^ '- bis-tpyridiniuBijodldJ ^ je-lutidine ·. Typical secondary Glänzer compounds are 0 B 3 Sulfoeauerstofx »Z, for example, saccharin, BenzölmonoBulfonat uswo typical secondary Hilfsglänzer are ζ.B 0 sodium allylsulfonate, Natriun-3-chloro-buten-i-Bulfonat. · *; *
-12--12-
BAD OBATH O.
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BADBATH
Die Abscheidung der glänzenden Nickelplattierung kann bei Temperaturen von 40-600C, beispielsweise 5O0G, bei einem pH von 2,5-4,5» beispielsweise 3,5 während 6-14 min, beispielsweise 10 min, ausgeführt werden, wobei eine Glanznickelplattierung mit einer Dicke von 7-12/4, , beispielsweise 1OyLc, erhalten werden kann.The deposition of the glossy nickel plating may be carried out at temperatures of 40-60 0 C, for example, 5O 0 G, such as 3.5 minutes at a pH of 2.5-4.5 "during 6-14, for example, 10 minutes can be carried out, wherein bright nickel plating with a thickness of 7-12 / 4, for example 10yLc, can be obtained.
Erfindungsgemäß wird auf die erste Niokelpiattierung (welche ggfo aber vorzugsweise eine Schicht einer zweiten oder Qlanznlokelplattierung trägt) eine äußere mikrorissige Nickelplatt ierung alt einer. Dicke von mindestens ungefähr 0,6/4, und typisohorweise O,6-3ytc » vorzugsweise ungefähr 2/-G, aufgebrachte .According to the invention, the first Niokelpiattierung (which If necessary, however, preferably a layer of a second or metallic spot plating carries) an outer micro-cracked nickel plating old one. Thickness of at least about 0.6 / 4, and Typically 0.6-3ytc »preferably about 2 / -G, applied .
Die Abscheidung der. äußeren Nickelplatt ierung wird vorzugsweise dadurch ausgeführt, daß man das Bas lerne tall, welches diese PlattierungCon) trägt, in ein Elektroplattierungsbad eintaucht, da® (a) 120-187 g/l Nickelion »it* , (b) 110-225 g/l Nickelchlorid NiCl2„ßHgO, (o) 300-900 g/l Nickelfluoborat Ni(BF^)2,' (&) einen primären Glänzer, (e) einen sekundären ulänzer und. (f) einen aus einer heterocyclischen Verbindung bestehenden Z"ma.tz9 der mindestens zwei Stickstoffatome in einer ansonsten carbocyclischen Eingetruktur enthält, eintaucht o ICypiseh® selche Bäder sind in der Tabelle IX angegebeneThe deposition of the. outer nickel plating is preferably carried out by immersing the base, which carries this plating (con), in an electroplating bath, since (a) 120-187 g / l nickel ion »it *, (b) 110-225 g / l nickel chloride NiCl 2 ßHgO, (o) 300-900 g / l nickel fluorate Ni (BF ^) 2 , '(&) a primary shimmer, (e) a secondary ulancer and. (f) a Z "ma.tz 9 consisting of a heterocyclic compound, which contains at least two nitrogen atoms in an otherwise carbocyclic single structure, is immersed o ICypiseh® such baths are given in Table IX
10 S11S/17Q 1.10 S11S / 17Q 1.
Tab^lleJXTab ^ lleJX
Luft oder Lösungspumpenmechanical and / or
Air or solution pumps
pHpH
Die primären (KLänzer* die bei dieser Stufe des erfindungsgemäßen Verfahrens verwendet werden können» umfassen solche Ma« terialien (sie sind in sehr niedrigen oder verhältnismäßig niedrigen EöBzentrationea typiseherweise O»002-0,4. g/l, beispielsweise 0*2 g/l anwesend) y die ihrerseits eine sichtbar© (Jlanzwirkung ergeben oder aueh niöht ergeben können 0 The primary (KLancers * that can be used in this stage of the method according to the invention include such materials (they are in very low or relatively low concentrations a typically 0.002-0.4 g / l, for example 0 * 2 g / l present) y which in turn result in a visible © (gloss effect or can also not result in 0
Diesthis
von gläaaenäen in SöEäbiimti©n©n mit 9 dievon Gläaaenänen in SöEäbiimti © n © n with 9 die
18/118/1
verwendet werden* können einen gewissen Q-lanz» oder Koraverfeinerungseffekt erz5ielen0 Wenn sie jedoch alleine verwendet werden, dann ergeben sie keine spiegelglänzenden Abscheidungen0 Typische primäre GKLänzsr, die "bei dieser Stufe des erfindühgsgemäßon Verfahrens verwendet werden kÖanen9 sind zoBe aeetylenische Verbindungen? beispielsweise Butindiole diäthoxyliertes Butindiolj Phenylpropiolamid, Propargylalkohol, 3-Butin-1-ol j 2-Methyl-3'»butin«2«'Oli oder Pyridiniumverbindungen,, wie Z0B0 ciuaterniesierte Pyridinderivate0 typische sekundäre Glänzer, die bei dieser Stufe des erfindungsgemäöen Verfahrens verwendet werden können, sind aoBo üulfosauerstoffverbindungen5 wie Z0Bo Saccharin, üFatriumbenzolmonosulfonat, Hatritumrinylsulfonat, HatritHBmetaben soldi $ ulf cast \in*so be used * to a certain Q-lance "or Koraverfeinerungseffekt erz5ielen 0 However, when used alone, they found no specular depositions 0 Typical primary GKLänzsr that" at this stage of the erfindühgsgemäßon method used kÖanen 9 are z o B e aeetylenische Compounds - for example, butynediols, diethoxylated butynediol, phenylpropiolamide, propargyl alcohol, 3-butyn-1-ol, 2-methyl-3 '"butyne" 2 "' Ol , or pyridinium compounds, such as Z 0 B 0 ciuaternied pyridine derivatives 0 typical secondary glossers that are used in This stage of the process according to the invention can be used, are a o B o ü ulfo-oxygen compounds 5 such as Z 0 Bo saccharin, üFatriumbenzolmonosulfonat, Hatritumrinylsulfonat, HatritHBmetaben soldi $ ulf cast \ in * s o
Die bevorzugten priiaären G-läazer sind acetyienische Verbindungen, typischerw©isa 2«-Butiadi©l-184 Vuoä die bevorzugten eekundäreh {Jlänzer sind Sulfosau©ratoffrerbindung®n, vorzugsweise Saccharizio -.The preferred priiaären G-läazer are acetyienische compounds typischerw © isa 2 "-Butiadi © l-1 8 4 Vuoä the preferred eekundäreh {Jlänzer are Sulfosau © ratoffrerbindung®n, preferably Saccharizio -.
Die. Elektroplattiermigsbädero aus denen di® mikrorissige äußere Niekelplattierung abg©seM@d©a w@rä@a isann, köimen eine ohejaiech© -hete^osvklisuhs 2u@atgf ei^iadiaag enthaltea, dieThe. Elektroplattiermigsbädero from which di® micro-cracked outer nickel plating from © seM @ d © a w @ rä @ a isann, köimen an ohejaiech © -hete ^ osvklisuhs 2u @ atgf ei ^ iadiaaghaltea, the
Sti©kst.©ffat©a© in einer ans©astea earfcozyk-Sti © kst. © ffat © a © in one ans © astea earfcozyk-
18/1701-18 / 1701-
triaykliach usWc seine- Gewöhnlich aind sie aber monozyklischo Sie können 2,3,4 usw« Stickstoffatome in einar ansonsten cyrbozyklisQhen Ringstruktur enthalten,, typische Ringstrukturen, die verwendet werden können» sind zoBe: Pyrazol (das ist 1,2~Diazol), 2-IsoamidazoX (doio 1»3~Isodiazol), 1,293~iDriazolf 1,2,4-2riasol, Pyridazin (doi„ 1 »2-Diazin), Pyrimidin (doio 1,3-Masin), Pyraain (d(i, 194«Diazin), Piperazine B-Triazin (doi» 1,3f5~2riazin), ae-Sriazin (dcio 1,2f4-Triazin)s v-»Sriazin (doio 1,2*>>Triazin), 1 f5«Pyrindin (doio 4-Pyrindin), Isoindazol (doio Benzpyrazol)» Ginnolin (dei0 1,2-Benzodiazin), Quinazolin (dei0 195-Benzo« diazin), Naphthyridin, Pyrido-(3»4-b)-pyridinf Pyrido-(3fa-b)-pyridin, Pyrido-(4»3~b)»-pyridini Purin9 Hexamethylentetramin, Bis^pyridiniiarärerbindungentriaykliach USWC Seine Usually they aind but you can monozyklischo 2,3,4 etc "contain nitrogen atoms in familiarize otherwise cyrbozyklisQhen ring structure ,, typical ring structures that can be used" are, o B e: pyrazole (which is 1.2 ~ diazole ), 2-IsoamidazoX (d o i o 1 »3 ~ isodiazole), 1,2 9 3 ~ iDriazole f 1,2,4-2riasol, pyridazine (d o i« 1 »2-diazine), pyrimidine (d o io 1,3-masin), pyraain (d ( i, 1 9 4 «diazine), piperazine B-triazine (doi» 1,3 f 5 ~ 2riazine), ae-sriazine (d c io 1,2 f 4- Triazine) s v- »sriazine (d o i o 1,2 * >> triazine), 1 f5« pyrindine (d o i o 4-pyrindine), isoindazole (doio benzpyrazole) »ginnoline (d e i 0 1,2 -Benzodiazine), quinazoline (d e 0 1 9 5-benzo «diazine), naphthyridine, pyrido (3» 4-b) pyridine f pyrido (3 f ab) pyridine, pyrido (4 »3 ~ b) "- pyridine i purine 9 hexamethylenetetramine, bis ^ pyridiniiarerbindungen
Inert substituierte Verbindungen, die die obigen Ringstrukturen besitzen, können ebenfalls verwendet werden» Typische inerte Substituenten, die an diesen Ringen vorbanden-sein, können, sind Z0B0 inerte Kohlenwasserstoffgruppsng typischerweise aromatische Gruppen, wie Z0B0 Haphthyl, Xylenyl, Solyl, oder aliphatische Gruppen 9 typischerwsise JÜLkylgruppeng wie ZeB0 Methyl-9 Äthyl-, Propyl- und Butylgruppeno Die bevorzugten Substituenten sind die niedrigen AUcylgruppisa,? beispielsweise 3enee die weniger als 5=6 Kohlenstoffat©raeInert substituted compounds which have the above ring structures can also be used. Typical inert substituents which may be attached to these rings are Z 0 B 0 inert hydrocarbon groups, typically aromatic groups such as Z 0 B 0 haphthyl, xylenyl, solyl , or aliphatic groups 9 typically JÜLkylgruppeng such as ZeB 0 methyl 9 ethyl, propyl and butyl groupso The preferred substituents are the lower AUcylgruppisa ,? for example 3ene e less than 5 = 6 carbon atoms
BAD OBtGlHBAD OBtGlH
16V 170116V 1701
aufweisen β Diese niedrigen Alkylgruppeii können an Kohlen=· stoff atomen oder an Stickstoffatomen (beispielsweise 2e6 Dirnethylpyrasin) vorhanden sein9 oder sie können Brüpkexigruppen darstellen, die zusätzliche Ringe "bilden· (wie es beispielsweise boi 1 „ 1' -lthyl©n-2 5 2' -dipyridiniiuahalogeniden, wie ζβΒβ dsm Dibromid oder dem Dichlorid der Fall ist). In den heterozyklischen Zusatzverbindungen können ein oder mehrere der Stickstoffatome quaternislert sein, wie zeB0 durch Umsetzung der h©terosyklischen Verbindung mit Salzsäure, Bromwasserstoffsäure* Schwefelsäure usw0 Im letzteren Falle werden Verbindungen, die ansonsten wegen ihrer geringen Löslichkeit von geringerer Nützlichkeit sind, durch die Quateraisierung beträchtlich löslicher gemacht werden«have β These low Alkylgruppeii can coals = · atoms or on nitrogen atoms (for example 2 e 6 Dirnethylpyrasin) available 9 or they can Brüpkexigruppen represent the additional rings "constituting · as for example boi 1 ( '1' -lthyl © n -2 5 2 '-dipyridiniiuahalogeniden as ζ β Β β dsm dibromide or the dichloride is the case). In the heterocyclic additional compounds one or more of the nitrogen atoms may be quaternislert such e B 0 terosyklischen by reacting the h © compound with hydrochloric acid , hydrobromic acid sulfuric acid, etc * 0 In the latter case, compounds which are otherwise because of their low solubility of less utility, be made considerably more soluble by the Quateraisierung "
Typische beispielhafte Verbindungen * die gensaß der Erfindung verwendet werden können^ sind: s«=Triazin, u~Triasinf v« Triazin, P^iäasin, Pyrimidine Indol„ Isobenzazol» Pyrindin? laoindazola Cinnoline Quinazoline Naphthyridin, Pyrido*-( 3»4-b pyridin, Pyrido-( 5$ 2-b)-pyridinf Pyrido-( 4,3-b)-pyridin, Hexamethylaat et ramin e Piperazin, Pyrazina 28 6-DimethylpyrazinTypical examples of compounds that can be used in accordance with the invention are: s «= triazine, u ~ triasin f v« triazine, p ^ iäasin, pyrimidines, indole, “isobenzazole,” pyrindine ? laoindazola cinnoline quinazoline naphthyridine, pyrido * - (3 »4-b pyridine, pyrido (5 $ 2-b) -pyridine f pyrido- (4 , 3-b) -pyridine, hexamethylaate et ramin e piperazine, pyrazine a 28 6 -Dimethylpyrazine
Zwar wird gefunden, daß beträchtlich verbesserte Resultate gemäß der Erfindung erhalten werden» wexrn man heterozyklischeAlthough it is found that considerably improved results According to the invention, heterocyclic ones are obtained
verwendet t die in die obigen Kategorienused t those in the above categories
BADBATH
10 9818/170110 9818/1701
fällen, aber außergewöhnliche Resultate werden durch die Verwendung dar folgenden speziellen und beispielhaften Verbindungen erhalten: ;fall, but exceptional results are achieved by the Use the following specific and exemplary Connections received:;
(I)(I)
(II)(II)
(III)(III)
HexamethylentetraminHexamethylenetetramine
PyrazinPyrazine
2S 6-Bimethylpyraaia 2 S 6-bimethylpyraaia
1,1J -»Äthylen~2 f 2 * ^ipyridinium-dichXorid1.1 J - »ethylene ~ 2 f 2 * ^ ipyridinium dichloride
OH,OH,
ITIT
HO.HO.
CH,CH,
■\■ \
-CH--CH-
CDCD
ffff
(II)(II)
108816/1701108816/1701
(III)(III)
Diese heteroayklisoheaZusatsverbindungen können in den Bädern zur Erzielung einer mikroriesigen äußeren Hickelplattierung in effektiven Mengen vorhanden sein, und swar typischerweise in Mengen von 0,1-8,0 g/1, beispielsweise ungefähr Of25 g/lo VorEUgsweise wird di© Verbindung in Form der quaternisisrten Verbindung (doho daß mindestens eines der Stickstoffatome quatemisiert ist) mit Z0B0 Salzsäure oder einem Eohlenviasseratoffhalogenide xiie Z0B0 Methyl·» Chlorid, verwendet»This heteroayklisoheaZusatsverbindungen may be present in the bath in order to achieve a micro huge outer Hickelplattierung in effective amounts, and f swar typically in amounts of 0.1-8.0 g / 1, for example, about O 25 g / lo VorEUgsweise is di © compound as quaternisisrten the compound (d o h o that at least one of the nitrogen atoms is quaternized) where Z 0 B 0 hydrochloric acid or a Eohlenviasseratoffhalogenide xiie Z 0 B 0 · methyl »chloride used»
Die "bevorzugte heterozykiisehe Zusatzverbindung ist ij^-Äthylen-ajS'-dipyridinium-dichlorid. Dieses Produkt ist von California Chemical Company unter dem Warenzeichen »Ortho di Quat" erhältlich.The "preferred additional heterocyclic compound is ij ^ -ethylene-ajS'-dipyridinium dichloride. This product is available from California Chemical Company under the trademark "Ortho di Quat".
Typische beispielhaft® Bäder,, die bsi dieser Stufe des erfindungsgemäßen Verfahrens verwendet werden i£önnenf enthalten folgendesίTypical baths beispielhaft® ,, used bsi this stage of the process of the invention include i £ f LEVERAGING folgendesί
OFlIGmALOFlIGmAL
109816/1701109816/1701
φ 0 * 002
φ
ZoBo ButindiolPrimary (KLänser,
ZoBo butynediol
KoBo SaccharinSecondary Giancer 9
KoBo saccharin
XIXI
ZoBo ButindiolPrimary Grazer
ZoBo butynediol
ZcB0 SaccharinSecondary glasses
ZcB 0 saccharin
SoBö Hexamethylen
tetraminAdditional connection
SoBö hexamethylene
tetramine
109818/1701109818/1701
ZoBo ButindiolPrimary shimmer
ZoBo butynediol
ZoBo SaccharinSecondary G-lancer
ZoBo saccharin
Z9Bo PyrazißAdditional connection
Z 9 Bo Pyraziß
Die Abscheidung des mikrorissigen Nickelniederschlags kann bsi 40-600C, beispielswQise 500O, bei einem pH iron 2*5-4o5, beispielsweise 3$ 5 f während 2-4 min, beispielsweise 2 min, erfolgeng wobei sich sine glänzende Nickelplattierwng mit einer Dicke von mindestens ungefähr OgS^H. $ vorzugsweise 9 beispielsweise 1Zt-,, eraielen läßto The deposition of the microcracked nickel precipitate can bsi 40-60 0 C, 50 0 beispielswQise O, at a pH iron 2 * 5-4o5, for example 3 $ 5 f during 2-4 min, for example 2 minutes, erfolgeng said sine shiny with Nickelplattierwng a thickness of at least about OgS ^ H. $ preferably 9 e.g. 1Zt - ,, eraielen o
Es ist ein besonderes Merkiaal der auf diese Weise niedergeschlagenen ITickelplattierung, daß sie sich durch eine mikrorissig© Struktixr auszeichnete Wenn sie beispielsweise In einer Dicke von mindestens ungefähr 0,6 j** r und Vorzugs» weiae Ο?6·»3^ , S0Bo 1 jj^ g abgeschieden wird, dann liird gefundeng daß der Niederschlag mindestens 10 JRisse/em, vorsugsweis© !00=600 Hisse/cm9 und typischenfeise ungefäSirIt is a special Merkiaal the deposited in this way ITickelplattierung that it was characterized by a micro-cracked © Struktixr If, for example, in a thickness of at least about 0.6 j ** r and Virtue "weiae Ο? 6 · »3 ^, S 0 Bo 1 jj ^ g is then found that the precipitation is at least 10% / cm, as a precaution! 00 = 600 parts / cm 9 and typically about
109816/1701109816/1701
250 Risse/cm enthalte Das Mikrorißrauster erlaubt bei der angegebenen Dicke eine glänzende bis spiegelglänzende Fickelplattierung, die sich durch eine hohe Beständigkeit gegenüber der Korrosion auszeichneto 250 cracks / cm contained The micro-crack pattern allows for a glossy to mirror-glossy fickle plating with the specified thickness, which is characterized by a high resistance to corrosion or similar
Is ist ein Merkmal dieser äußeren Nickelplattierung, daß sie spiegelglänzend sein kann^ wenn si© in der oben angegebenen Weise abgeschieden wirds und daß sie die Erzielung einer hocheingeebneten spiegelglänzenden Oberfläche erlaubt, die sich insbesondere durch ihr Vermögen auszeichnet „ daß sie eine Ghromplattierung aufnehmen kann, und daß si© die Erzie« lung eines ehromplattierten Gegenstands erlaubt, dar einen unerwarteten ©rad von Korrosionsbeständigkeit besitzt·Is is a feature of this outer nickel plating that it can be mirror-shiny ^ if si © is deposited in the above manner s and that it allows the achievement of a high leveled specular surface, which is characterized in particular by their assets "that it can accommodate a Ghromplattierung and that it allows the creation of a plated object that has an unexpected degree of corrosion resistance.
Chrom kann auf die Glanzniokelplattierung gemäß der Erfindung d-ttSOk Abscheidung ans einem Ohromplattierungsbad dar folgendes^ In fabeile SIII angegebenem Susafmaensetsimg abgeschiedenChromium can be deposited on the shiny nodule plating according to the invention by means of deposition on an ear plating bath in the following syntax set out in table SIII
22 „ .1521117 22 ".1521117
Das Sulfat kann in Form von Natriumsulfat oder Sohwefel« Satire eingebracht werden«, Im Chrosnplattierungsbad können auch andere Bestandteile·anwesend sein, wie 2„Be solche Bestandteile , die dae Bad selbstregulierand machen oder hohe . Abscheidungsgeschwindigkeiten erlauben» Typische solche andere Komponenten im Bad sind Strontiumionen (die in Form von Strontiumsulfat oder Strontiuxachlorid augegeben werden) oder SiFg==*" 9 die in Form von KalJUaasllicofluorid augegeben werden können«,The sulfate can be introduced "in the form of sodium sulfate or Sohwefel" satire In Chrosnplattierungsbad other ingredients · may be present, such as 2 "B e such ingredients that make dae Bad selbstregulierand or high. Deposition rates allow »Typical such other components in the bath are strontium ions (which are issued in the form of strontium sulfate or strontium sulfate) or SiFg == *" 9 which can be issued in the form of KalJUaasllicofluorid «,
Die ©rfindungsgemäße Chromplattierung kann bsi 45«-55°O, bei» spieleweis© 5O0C9 während 2-4 SaIn9 beispielsweise 5 min, bei einer Eathodenstromdichte von 12-20 A/dm , beispielsweise 14 A/dm ausgeführt werd@ne Dies ©klaubt in typischer Weise die Erzielung einer Chromplatti@nmg mit einer DickeThe chromium plating can © rfindungsgemäße bsi 45 "-55 ° O, wherein" play facing © 5O 0 C during 2-4 9 Sain 9, for example, 5 min / dm at a Eathodenstromdichte of 12-20 A, for example 14 A / dm @ executed expectant n e This typically means that a chromium plate with a thickness can be achieved
Ss ist ein "besonders herwrOTheben&es Merksaal der erf indungsgemäß tergestöllten Produkta«, daß sie gegenüber d@n Einfltteaen einer korrosiven Atmosphäre wäteend einer außergewöhnlich langen Zeit hochbeständig sindo Beispislsweis© vird gefundenSs is a "special highlight & es Merksaal of the invention terstollen products «that they face the infiltrations a corrosive atmosphere with an exceptional one have been found to be highly resistant for a long time, for example
ein erfinctaagsgeisSi olsromplattiertes Produkt dem orrosioasbediBgimgen^ wie sJ* im OASS-ICeet oder im G©»©clk®t©«»Tegt, unterworfen wirä^ dies© neuen Produktean invented GeisSi olsrom-plated product orrosioasbediBgimgen ^ as sJ * in the OASS-ICeet or in the G © »© clk®t ©« »Tegt, we are subject to this © new products
109818/1701109818/1701
■■ " " ■ -23- " 1521117■■ "" ■ -23- "1521117
praktisch keine sichtbare Korrosion am Bnde von drei Zyklen dieses Tests zeigen« Typische Glanzchromplattienragen zeigen auch unter den günstigsten Bedingungen einen bemerkenswerten G-rad von Korrosion nach dem ersten Zyklus des Corrodkote-practically no visible corrosion on the volume for three cycles this test shows “Typical bright chrome plate protrusions show a remarkable one even under the most favorable conditions Degree of corrosion after the first cycle of Corrodkote-
Die Erfindung -wird anhand der folgenden Beispiele näher erläutert« Alle Teile Bind in Gewicht ausgedrückt * eof em nichts anderes angegeben istoThe invention is explained in more detail with the aid of the following examples « All parts bind expressed by weight * eof em nothing else is stated o
In diesen Beispielen wurde, sofern nichts anderes angegeben ists die Plattierung auf einer Stahlplatte mit einer Dicke von ungefähr 1,5 sam und mit einer Größe von 10 χ 15 cm ausgeführt, weiche aus dem legierten Stahl 1010 bestand., In these examples, unless otherwise indicated s plating on a steel plate with a thickness of about 1, 5, and carried out with a size of 10 sam χ 15 cm, consisted of the soft alloy steel 1010th
In allen Pällen, sofern nichts anderes angegeben ist, -wurde die Stahlplatte vor d©r Behandlung zur Entfernung von RostfleekenP Fett, Öl und dgl« in der üblichen V/eise gereinigte Vor der Behandlung wurde auf den Stahl keine Kupferplattierung aufgebrachteIn all Pällen, unless otherwise specified, the steel plate before -was d © r treatment to remove Rostfleeken P grease, oil and the like "in the usual V / else cleaned before treatment was applied to the steel no copper
Yienn eine haXbglänsensä© Nlckelplattierung auf die 8auh@?e Stahlplatte aufgebracht \raräe9 dam wurde sie aus sinemYienn a haXbglänsensä © Nlckelplattierung applied to the 8auh @? E steel plate \ raräe 9 then it was made of sinem
BADBATH
109816/1701109816/1701
ITickelplattierungsbad abgeschieden» das 45 g/l Hiekelchlorid ο6H2O, 300 g/l Nickelsulfat .6H3O, 45 g/1 Borsäure und 0,2 g/l • 1,4~Butin,diol enthielt, wobei der elektrometrische pH bei ungefähr 3»5 gehalten wurde«/ Die Plattierung wurde mit einer Kathodenstromdiehte von 6 A/dm bei 550C während 35 rain ausgeführt, wobei ein Niederschlag aus einem halbglünzenden Nickel von 30yii erhalten wurde 0 A nickel plating bath deposited »which contained 45 g / l Hiekel chloride ο6H 2 O, 300 g / l nickel sulfate .6H 3 O, 45 g / l boric acid and 0.2 g / l • 1,4 ~ butyne, diol, the electrometric pH at was held approximately 3 "5" / The plating was coated with a Kathodenstromdiehte of 6 a / dm at 55 0 C for 35 rain executed, whereby a precipitate was obtained from a nickel halbglünzenden of 30yii 0
Wenn in den Beispielen von einem Glanznickelniöderschlag die · Kode ist, dann wurde dieser durch elektrolytIsche Abscheidung aus einem Plattierungsbad erhalten, das 60 g/l Nickelchlorid e6H20, 300 g/l NickelBUlfat .6HgOj 40 g/l Borsäure und O82 g/l Butindiol als primären Giänaer, 1 g/l Saccharin als eekundären ölänzer und 1 g/l Butindlol-monosulfonat als sekundären Hilfe« glänzer enthielte Das Bad wurde während der 10 min dauernden Abscheidung bei 550O auf einem pH von 3»5 gehalten, wobei eine G&anzniekelplattierung mit einer Dicke von 7 »5/*t erzielt wurde,,If, in the examples, the code is a bright nickel strike, then this was obtained by electrolytic deposition from a plating bath containing 60 g / l nickel chloride e 6H 2 0, 300 g / l nickel bilfate, 6HgO, 40 g / l boric acid and O 8 2 g / l butyne diol as the primary Giänaer, 1 g / l of saccharin as eekundären ölänzer and 1 g / l Butindlol-monosulfonate as a secondary Help "Glänzer contained the bath was during 10 min lasting deposition at 55 0 O at a pH of 3» 5 held, whereby a nickel plating with a thickness of 7 »5 / * t was achieved,
Die elektroljrtische Abscheidung der mikrorlsslgen lilckelplattierung gemäß äev Erfindung wurde in diesen Beispielen mit . einem Bad ausgeführt 9 das 150 g/l Nickelchlorid o6Hg0, 450 g/l ITickelfluorboratp 0^2 g/l "Butindiol als primärer GKUtaeer, O0 25 g/l Saccliariii als s©kimäärer G-läaser unit den Ib der Folge-The electrodeposition of the micro-sparse silver plating according to the invention was carried out in these examples. a bath carried out 9 the 150 g / l nickel chloride o 6Hg0, 450 g / l ITickelfluorboratp 0 ^ 2 g / l "butynediol as a primary GKUtaeer, 0 25 g / l Saccliariii as a s © kimaer G-läaser unit the Ib of the following -
-816/1701-816/1701
angegebenen- Mengen der heterozyklischen Zusatzverbindung enthielt» Das Bad wurde während der Plattierungsaeit auf einem elektrometrlschen pH von 4 und eine Temperatur von 550C gehal* ten0 Die Plattierungszeit wurde wie in der Folge angegeben verändert, um die gewünschte Dicke der Plattierung zu erzielen«angegebenen- amounts of heterocyclic compound additive contained "The bathroom was during Plattierungsaeit on a elektrometrlschen pH of 4 and a temperature of 55 0 C supported * th 0 The plating was changed as indicated in the sequence to achieve the desired thickness of plating"
Wenn von einer dekorativen Chromplattierung gesprochen wird» dann wurde sie durch Abscheidung aus einem Bad erhalten» daa 250 g/l Chromsäure und 25 g/l Sulfate das als Schwefelsäure zugesetzt wurde, enthielte Die Abscheidung während 1,25 min bei einer Kathodenstromdichte von 21 s 6 A/dm erlaubte die Erzielung einer dekorativen Chromplattierung mit einer Dicke vonIf there is talk of a decorative chrome plating "then it was obtained by deposition from a bath" since 250 g / l chromic acid and 25 g / l sulfates, which were added as sulfuric acid, would contain the deposition for 1.25 min at a cathode current density of 21 s 6 A / dm made it possible to obtain a decorative chrome plating with a thickness of
In diesem Vergleichsbeispiel wurde auf die Metallplatte ein® Glanzniokelplattierung und dann eine Chromplattierung aufgebracht» In this comparative example, an ® was applied to the metal plate Bright nokel plating and then a chrome plating applied »
In diesem Beispiel» welches die Durchführung dea ©rfindungsgeraäßen Verfahrens erläutert, .werde die Stamäardatsiilplatt© mit einer ©lananickelplattierung, mit mikrorissigem Ui©k@l (2 min dauernde Abscheidung in einem Bad mit elBem.QeihaXt an O925 g/1In this example "comprising conducting explained dea © rfindungsgeraäßen method, the Stamäardatsiilplatt © © .werde with a lananickelplattierung with microcracked Ui © k @ l (2 min continuous deposition in a bath containing at elBem.QeihaXt O 9 25 g / 1
-26-26
109816/1701 bad original109816/1701 bad original
15211171521117
Hexamethylentetramin) und dann mit Chrom plattiert * Hexamethylenetetramine) and then plated with chrome *
In diesem Vergleiah3beispiel "wurde die Standerdatahlplatte mit Glanznickel und dann mit Chrom plattiert,In this comparison example "the standerdatahlplatte with bright nickel and then plated with chrome,
In diesem Beispiel? welches ein Vergleichsfeeispiel ist, mirde die Standardstahlplattö mit halbglänaendem Nickel» alt G-lanznickel und mit Chrom plattiert.In this example? which is a comparison fairy example, mirde the standard steel plate with semi-polished nickel »old glossy nickel and plated with chrome.
In diesem Beispiel, welches das erfindungsgemäße Verfahren erläutert, wurde die Standardstahlplatte mit halbglänzendem Nickel, mit mikrorissigem Nickel (2 min dauernde Abscheidung in einem Bad mit einem Gehalt an 0#25 g/l Hexamethylentetramin) und dann mit Chrom plattierteIn this example, which illustrates the process of the invention, the standard steel plate with semi-bright nickel, plated nickel microcracked (2 min continuous deposition in a bath containing 0 # 25 g / l hexamethylenetetramine) and then with chromium was
In diesem Beispiel, welches ein Vergleichsbeispiel darstellt» wurde die StandarcTstahlplatte mit halbglänzendem Nickel und mit Chrom plattierteIn this example, which is a comparative example » became the standard steel plate with semi-gloss nickel and plated with chrome
109816/1701109816/1701
In diesem Beispiel, welches das erfindungegemäße Verfahren, erläutert s wurde ^ie gtandardstahlplatte mit halbglänzendem Nickel, mit mikrorissigem Nickel und mit Chrom plattiert. Das mikrorissige Nickel wurde aus einem Bad abgeschieden, welches Oe25 g/1 Isi^-Athylea. 2f2\-<5'ipyridinium-di-cnlorid enthielt. Die Abscheidung dauerte 2 min, -wobei eine Plattierung mit einer Dicke von· 1 »O/t, erhalten wurde „In this example, which explains the method according to the invention, the standard steel plate is plated with semi-bright nickel, with micro-cracked nickel and with chrome. The micro-cracked nickel was deposited from a bath, which O e 25 g / 1 Isi ^ -Athylea. 2 f 2 \ - <5'ipyridinium dichloride contained. The deposition lasted 2 minutes, whereby a plating with a thickness of 1 »O / t was obtained"
Eine jede der Stahlplatten dieser Beispiele wurde dem Stondard-CASS-Test unterworfen, von dem oben gesprochen wurde. Der lest wurde damit ausgeführt9 daß jede Platte die angegebene Zeit unter Xestbedingungen gehalten wurde, worauf die Oberfläche des Grundmetalls auf Korrosion untersucht wurdeo In den Beispielen 6 und 7 war der verwendete Test der Corrodkote-Test,Each of the steel plates of these examples was subjected to the Stondard-CASS test referred to above. The reading was carried out so that each plate 9 for the specified time was kept under Xestbedingungen was investigated whereupon the surface of the base metal for corrosion o In Examples 6 and 7 was used test of Corrodkote test,
1 (Kontrolle)1 (control)
5 (Kontrolle)5 (control)
4 (Kontrolle}4 (control)
Dauerduration
22 Stunden 107 Stunden 22 ötimden 22 Stunden22 hours 107 hours 22 ötimden 22 hours
BemerkungenRemarks
100 Rostflecke nichts100 rust spots nothing
50 EostfXeek© Z Rostfleeks50 EostfXeek © Z Rostfleeks
109Ö16/17Ö1109Ö16 / 17Ö1
BAD ORIGINAL-ORIGINAL BATHROOM
Eine Überprüfung der Proben am Bade der Zyklen des angegebenen Tests zeigte ρ daß die Kontrollproben der Beispiele 1, 3t 4 und 6 stark korrodiert waren. Alle anderen Proben zeigten praktisch keine Korrosion» Die Platten der Beispiele 2, 5 und 7 zeigten eine hohe Korrosionsbeständigkeit unter den Test·· bedingungen und eine minimale Anzahl von Oberflächenfehlern. Die Platte von Beispiel 5 zeigte eine gans außergewöhnliche Korrosionsbeständigkeit ο In der Tat war sie am Ende des strengen Tests genauso glänzend wie vor dem Test«An examination of the specimens on the bath of cycles of the specified tests showed ρ that the control samples in Examples 1, 3 and t 4 were heavily corroded. 6 All other samples showed practically no corrosion. The plates of Examples 2, 5 and 7 showed high corrosion resistance under the test conditions and a minimal number of surface defects. The plate of Example 5 showed a completely exceptional corrosion resistance ο In fact, at the end of the rigorous test it was just as shiny as before the test «
Ein Vergleich des Beispiels 4 (dieses Beispiel ist typisch fUr eine Duplemlckelverchromung gemäß dem Stande der Technik) mit den Beispielen 2* 5 und 7 (welche das erfindungsgemäße Verfahren erläutern) zeigt deutlich die Überlegenheit des erfindungs» gemäßen Verfahrens.A comparison of example 4 (this example is typical for a double cap chrome plating according to the state of the art) Examples 2 * 5 and 7 (which use the process according to the invention explain) clearly shows the superiority of the method according to the invention.
So ist aus Tabelle XIII ersichtlich, daß das erfindungsgemäße Verfahren die Erzielung eines chromplattierten Produkts erlaubt, das sich durch eine unerwartet hohe Korrosionsbeständigkeit auszeichnet. Es ist ersichtlich, daß die Platten, die durch das erfindungsgemäße Verfahren in einer bevorzugten Ausftihrungsform (Beispiel 2) erhalten wurden^ besonders gut sind.It can be seen from Table XIII that the process according to the invention allows a chrome-plated product to be obtained, which is characterized by an unexpectedly high corrosion resistance. It can be seen that the panels passing through the method according to the invention in a preferred embodiment (Example 2) were obtained ^ are particularly good.
»29-»29-
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