DE102004036441B4 - Vorrichtung und Verfahren zum Dosieren von Targetmaterial für die Erzeugung kurzwelliger elektromagnetischer Strahlung - Google Patents
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102004036441A DE102004036441B4 (de) | 2004-07-23 | 2004-07-23 | Vorrichtung und Verfahren zum Dosieren von Targetmaterial für die Erzeugung kurzwelliger elektromagnetischer Strahlung |
| JP2005202885A JP4264430B2 (ja) | 2004-07-23 | 2005-07-12 | 短波長電磁放射線の生成用のターゲット材料を測定するための装置および方法 |
| US11/182,362 US7368742B2 (en) | 2004-07-23 | 2005-07-15 | Arrangement and method for metering target material for the generation of short-wavelength electromagnetic radiation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102004036441A DE102004036441B4 (de) | 2004-07-23 | 2004-07-23 | Vorrichtung und Verfahren zum Dosieren von Targetmaterial für die Erzeugung kurzwelliger elektromagnetischer Strahlung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE102004036441A1 DE102004036441A1 (de) | 2006-02-16 |
| DE102004036441B4 true DE102004036441B4 (de) | 2007-07-12 |
Family
ID=35656182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE102004036441A Expired - Fee Related DE102004036441B4 (de) | 2004-07-23 | 2004-07-23 | Vorrichtung und Verfahren zum Dosieren von Targetmaterial für die Erzeugung kurzwelliger elektromagnetischer Strahlung |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7368742B2 (https=) |
| JP (1) | JP4264430B2 (https=) |
| DE (1) | DE102004036441B4 (https=) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US7378673B2 (en) * | 2005-02-25 | 2008-05-27 | Cymer, Inc. | Source material dispenser for EUV light source |
| US7897947B2 (en) * | 2007-07-13 | 2011-03-01 | Cymer, Inc. | Laser produced plasma EUV light source having a droplet stream produced using a modulated disturbance wave |
| US7405416B2 (en) * | 2005-02-25 | 2008-07-29 | Cymer, Inc. | Method and apparatus for EUV plasma source target delivery |
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2004
- 2004-07-23 DE DE102004036441A patent/DE102004036441B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-07-12 JP JP2005202885A patent/JP4264430B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-07-15 US US11/182,362 patent/US7368742B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20060017026A1 (en) | 2006-01-26 |
| JP2006086110A (ja) | 2006-03-30 |
| DE102004036441A1 (de) | 2006-02-16 |
| JP4264430B2 (ja) | 2009-05-20 |
| US7368742B2 (en) | 2008-05-06 |
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Legal Events
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| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee | ||
| R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |
Effective date: 20110201 |