DE10155134C1 - Verfahren für die Herstellung einer Vorform für eine optische Faser und Vorform für eine optische Faser - Google Patents

Verfahren für die Herstellung einer Vorform für eine optische Faser und Vorform für eine optische Faser

Info

Publication number
DE10155134C1
DE10155134C1 DE2001155134 DE10155134A DE10155134C1 DE 10155134 C1 DE10155134 C1 DE 10155134C1 DE 2001155134 DE2001155134 DE 2001155134 DE 10155134 A DE10155134 A DE 10155134A DE 10155134 C1 DE10155134 C1 DE 10155134C1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
glass layer
cladding glass
layer
core
hydrogen
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE2001155134
Other languages
English (en)
Inventor
Heinz Fabian
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG
Original Assignee
Heraeus Tenevo GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Heraeus Tenevo GmbH filed Critical Heraeus Tenevo GmbH
Priority to DE2001155134 priority Critical patent/DE10155134C1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE10155134C1 publication Critical patent/DE10155134C1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413—Reactant delivery systems
    • C03B37/0142—Reactant deposition burners
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413—Reactant delivery systems
    • C03B37/0142—Reactant deposition burners
    • C03B37/01426—Plasma deposition burners or torches
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
    • C03B2201/03—Impurity concentration specified
    • C03B2201/04—Hydroxyl ion (OH)
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/07—Impurity concentration specified
    • C03B2201/075—Hydroxyl ion (OH)
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
    • C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
    • C03B2203/10—Internal structure or shape details
    • C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
    • C03B2203/24—Single mode [SM or monomode]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)

Abstract

Bei einem bekannten Verfahren für die Herstellung einer Vorform für eine optische Faser wird ein Kernzylinder erzeugt, der eine Kernglasschicht mit einem höheren Brechungsindex "n¶K¶" und einem Außendruchmesser "d¶K¶" aufweist, die von einer ersten Mantelglasschicht mit einem niedrigeren Brechungsindex "n¶M1¶" und einem Außendurchmesser "d¶M1¶" umgeben ist, wobei auf den Kernzylinder eine zweite Mantelgeschwindigkeit aufgebracht wird, indem SiO¶2¶-Partikel durch Erhitzen einer siliziumhaltigen Ausgangsverbindung in einer sauerstoffhaltigen Reaktionszone erzeugt und als poröse SiO¶2¶-Sootschicht auf der ersten Mantelglasschicht abgeschieden werden, wobei die SiO¶2¶-Sootschicht anschließend unter Bildung der zweiten Mantelglasschicht verglast wird. Um hiervon ausgehend ein kostengünstiges Verfahren für die Herstellung einer optischen Faser mit geringer optischer Dämpfung anzugeben und eine entsprechende Vorform bereitzustellen, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, einen Kernzylinder (2; 3) einzusetzen, bei dem das Verhältnis von "d¶M1¶" zu "d¶K¶" zwischen 1,1 und 2,2 liegt, und die poröse SiO¶2¶-Sootschicht durch Erhitzen der siliziumhaltigen Ausgangsverbindung in einer wasserstofffreien Reaktionszone abzuscheiden.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren für die Herstellung einer Vorform für eine optische Faser durch Erzeugen eines Kernzylinders, der eine Kernglasschicht mit einem höheren Brechungsindex "nK" und einem Außendurchmesser "dK" aufweist, die von einer ersten Mantelglasschicht mit einem niedrigeren Brechungsindex "nM1" und einem Außendurchmesser "dM1" umgeben ist, und Aufbringen einer zweiten Mantelglasschicht auf den Kernzylinder, indem SiO2-Partikel durch Erhitzen einer siliziumhaltigen Ausgangsverbindung in einer sauerstoffhaltigen Reaktionszone erzeugt und als poröse SiO2-Sootschicht auf der ersten Mantelglasschicht abgeschieden werden, und Verglasen der SiO2-Sootschicht unter Bildung der zweiten Mantelglasschicht.
Weiterhin betrifft die Erfindung eine Vorform für die Herstellung einer optischen Faser, die eine Kernglasschicht mit höherem Brechungsindex "nK" und einem Außendurchmesser "dK" aufweist, die umhüllt ist von einer ersten Mantelglasschicht mit niedrigerem Brechungsindex "nM1" und einem Außendurchmesser "dM1" sowie von einer zweiten Mantelglasschicht.
Der Einsatz von Lichtleitfasern zur Datenübertragung hat in den letzten 20 Jahren an wirtschaftlicher Bedeutung gewonnen. Nachdem die Lichtleitfasern zunächst hinsichtlich ihrer optischen Dämpfung und der Faserfestigkeit verbessert wurden, ist nunmehr die Kostensenkung zentrales Thema. Mögliche Ansatzpunkte hierfür sind die Erhöhung der Übertragungskapazität pro Lichtleitfaser und die Senkung der Herstellkosten der Lichtleitfasern. Die Herstellung von sogenannten Single- Mode-Lichtleitfaservorformen für kommerzielle Anwendungen erfolgt im Allgemeinen nach den bekannten OVD-(Outside-Vapor-Deposition), MCVD- (Modified-Chemical-Vapor-Deposition), PCVD-(Plasma-Chemical-Vapor- Deposition) und VAD-(Vapor-Axial-Deposition)-Verfahren. Allen Verfahren ist gemein, dass zunächst ein Kernzylinder hergestellt wird, der den Kern und einen Teil des Mantels der späteren Single-Mode-Lichtleitfaser umfasst. Auf den Kernzylinder wird weiteres Quarzglas aufgebracht, das als "Jacketmaterial" bezeichnet wird. Die Qualität dieses Jacketmaterials ist für die mechanische Festigkeit der Lichtleitfaser von Bedeutung, während der Einfluß auf die optischen Eigenschaften bisher nur eine untergeordnete Rolle spielt.
Ein Verfahren und eine Vorform der eingangs angegebenen Gattung sind aus der US-A 5,838,866 bekannt. Darin ist die Herstellung einer Quarzglas-Vorform für eine Single-Mode-Lichtleitfaser beschrieben, wobei in einem ersten Verfahrensschritt ein als "Kern-Vorform" bezeichnetes Bauteil mit Kern- Mantelstruktur nach dem sogenannten OVD-Verfahren hergestellt wird. Die Kern- Vorform besteht aus einer mit Germaniumdioxid dotierten SiO2-Kernglasschicht, die von einer inneren SiO2-Mantelglasschicht umhüllt ist. Die jeweiligen Schichtdicken sind so ausgelegt, dass nach dem Kollabieren der Innenbohrung das Verhältnis des Durchmessers "dK" der Kernglasschicht und des Außendurchmessers der ersten Mantelglasschicht "dM1" bei 2,39 liegt. Durch Abscheiden einer weiteren SiO2-Sootschicht zur Bildung einer zweiten, äußeren Mantelglasschicht wird die endgültige Vorform erhalten.
Der der Kern-Vorform zugeordnete und an die Kernglasschicht unmittelbar angrenzende Teil des Mantels wird im folgenden als "erste Mantelglasschicht" bezeichnet. Die erste Mantelglasschicht trägt wesentlich zur Lichtführung bei und hat daher einen deutlichen Einfluss auf die optischen Eigenschaften des Lichtleiters. An die erste Mantelglasschicht sind deshalb hinsichtlich Reinheit und Homogenität vergleichbare Maßstäbe anzulegen wie bei der Kernglasschicht, so dass die Herstellung der ersten Mantelglasschicht dementsprechend aufwendig ist.
Bei dem bekannten Verfahren wird für die Abscheidung der SiO2-Sootschicht zur Bildung der zweiten Mantelglasschicht auf dem Kernzylinder ein Knallgasbrenner eingesetzt. Dadurch kommt es zu einem Einbau von OH-Gruppen in die erste Mantelglasschicht. Diese OH-Gruppen sind im Quarzglas der ersten Mantelglasschicht fest gebunden und lassen sich durch die anschließende Behandlung der Soot-Schicht in chlorhaltiger Atmosphäre nicht entfernen. Die nach dem bekannten Verfahren hergestellte Vorform zeigt daher im Bereich der Grenzfläche zwischen erster und zweiter Mantelglasschicht üblicherweise eine deutlich erhöhte OH-Konzentration.
Einen typischen Verlauf der OH-Konzentration über den Durchmesser einer nach dem bekannten OVD-Verfahren hergestellten Vorform ist in Fig. 3 schematisch dargestellt. Auf der y-Achse des Diagramms ist der OH-Gehalt und auf der x- Achse der Vorformdurchmesser aufgetragen. Die Kernglasschicht 31 und der innere Bereich der ersten Mantelglasschicht 32 zeigen einen geringen OH-Gehalt. Der Bereich um die Grenzfläche 35 zwischen der ersten Mantelglasschicht 32 und der zweiten Mantelglasschicht 33 ist durch ein Maximum 34 der OH-Konzentration deutlich erkennbar.
OH-Gruppen zeigen im infraroten Spektralbereich eine besonders starke Absorptionsbande. Bereits geringe OH-Gehalte im lichtführenden Bereich einer Single-Mode-Faser können sich daher auf deren optische Dämpfung bei den üblichen Übertragungswellenlängen auswirken. Um den Einfluß des in Fig. 3 gezeigten Maximums 34 der OH-Konzentration auf die optische Dämpfung gering zu halten, liegt bei den bekannten OVD-Vorformen die Grenzfläche 35 zwischen der ersten Mantelglasschicht 32 und der zweiten Mantelglasschicht 33 weitab von der Kernglasschicht 31. Mit anderen Worten, der Außendurchmesser "dM1" der ersten Mantelglasschicht 32 ist relativ groß; bei der Vorform gemäß Fig. 3 beträgt der Außendurchmesser "dM1" der ersten Mantelglasschicht 32 das 2,39-fache des Durchmessers "dK" der Kernglasschicht 31.
Eine Verringerung des Außendurchmessers "dM1" der ersten Mantelglasschicht 32 würde das Maximum 34 der OH-Konzentration näher an die Kernglasschicht 31 heranbringen und sich daher stärker auf die Dämpfung der Faser auswirken. Es ist daher bei der bekannten Vorform nicht möglich, den Anteil der aufwendig herzustellenden, inneren Mantelglasschicht 32 ohne Inkaufnahme einer höheren optischen Dämpfung zu verringern.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein kostengünstiges Verfahren für die Herstellung einer optischen Faser mit geringer optischer Dämpfung anzugeben und eine entsprechende Vorform bereitzustellen.
Hinsichtlich des Verfahrens wird diese Aufgabe ausgehend von dem eingangs genannten Verfahren erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass ein Kernzylinder eingesetzt wird, bei dem das Verhältnis von "dM1" zu "dK" zwischen 1,1 und 2,2 liegt, und dass die poröse SiO2-Sootschicht durch Erhitzen der siliziumhaltigen Ausgangsverbindung in einer wasserstofffreien Reaktionszone abgeschieden wird.
Im allgemeinen wird im Rahmen der Herstellung einer optischen Vorform eine SiO2-Sootschicht durch Flammhydrolyse siliziumhaltiger Ausgangsverbindungen in wasserstoffhaltiger Atmosphäre erzeugt. Dabei werden jedoch OH-Gruppen in die SiO2-Sootschicht eingebaut. Die Porosität der SiO2-Sootschicht ermöglicht jedoch ein Entfernen der darin enthaltenen OH-Gruppen durch Behandlung in trocknender Atmosphäre. Demgegenüber erfolgt beim erfindungsgemäßen Verfahren die Bildung der SiO2-Partikel in einer wasserstofffreien Reaktionszone. Die Bildung von Wasser oder von OH-Gruppen wird dabei vermieden, so dass von vornherein eine im wesentlichen OH-freie SiO2-Sootschicht erhalten wird. Das Trocknen einer derartigen SiO2-Sootschicht ist daher wesentlich leichter.
Darüber hinaus werden durch das Abscheiden der SiO2-Sootschicht in einer wasserstofffreien Reaktionszone keine oder wenige OH-Gruppen in die darunter liegende, bereits verglaste erste Mantelglasschicht eingebracht. Dieser Aspekt des erfindungsgemäßen Verfahrens ist besonders wichtig, denn in der verglasten ersten Mantelglasschicht enthaltene OH-Gruppen können beim anschließenden Trocknen der SiO2-Sootschicht nicht entfernt werden.
Zur Lösung der oben genannten technischen Aufgabe trägt außerdem wesentlich bei, dass ein Kernzylinder eingesetzt wird, bei dem das Durchmesserverhältnis "dM1"/"dK" zwischen 1 und 2,2 liegt. Der Außendurchmesser der ersten Mantelglasschicht "dM1" beträgt somit weniger als das 2,2-fache des Durchmessers der Kernglasschicht "dK". Das Durchmesserverhältnis "dM1"/"dK" bezieht sich auf einen Kernzylinder ohne Innenbohrung. Bei einem rohrförmigen Kernzylinder sind die Durchmesser der jeweiligen Schichten nach dem Kollabieren der Innenbohrung maßgebend. Der Einfachheit halber beziehen sich die folgenden Erläuterungen auf einen stabförmigen Kernzylinder.
Der Volumenanteil der aufwendig herzustellenden ersten Mantelglasschicht ist zu Gunsten des übrigen, weitaus kostengünstiger herstellbaren Mantelmaterials reduziert. Diese Reduzierung wird erst durch die Kombination der oben erläuterten Maßnahmen ermöglicht, indem diese dazu beitragen, dass in der zweiten Mantelglasschicht sowie im Bereich um die Grenzfläche zwischen erster und zweiter Mantelglasschicht ein möglichst geringer OH-Gehalt erhalten wird. Denn erst ein geringer OH-Gehalt in diesem grenzflächennahen Bereich erlaubt es, den Außendurchmesser der ersten Mantelglasschicht so zu reduzieren, dass das Durchmesserverhältnis "dM1"/"dK" kleiner als 2,2 gewählt werden kann, ohne dass sich der OH-Gehalt im grenzflächennahen Bereich auf die optische Dämpfung der Faser wesentlich auswirkt. Somit ermöglicht es das erfindungsgemäße Verfahren, eine optische Faser mit geringer Dämpfung kostengünstig herzustellen.
Die vorliegende Erfindung betrifft ausschließlich die Herstellung von Standard- Single-Mode-Fasern und eine Vorform dafür. Bei den Standard-Single-Mode- Fasern handelt es sich um einfache Stufenindexfasern. Die in den Fasern geführte Lichtwelle erstreckt sich im wesentlichen über den Kernbereich und den inneren Mantelbereich. Die vorliegende Erfindung ermöglicht eine Minimierung des hochwertigen Quarzglases für den inneren Mantelbereich zu Gunsten von preiswerterem Quarzglas. Die Erfindung bezieht sich nicht auf sogenannte "dispersionsverschobene Fasern" oder "dispersionsgeglättete Fasern". Derartige Fasern weisen komplexe Brechzahlprofile mit einer radialen Abfolge mehrerer Schichten unterschiedlicher Brechzahl auf. Alle diese Schichten wirken an der Lichtführung mit, so dass dafür hochwertiges Quarzglas erforderlich ist, das nicht ohne Qualitätsverlust zu Gunsten von preiswerterem Quarzglases minimiert werden kann.
Die wasserstofffreie Reaktionszone wird vorzugsweise durch ein wasserstofffreies Plasma erzeugt. Das wasserstofffreie Plasma gewährleistet eine Bildung der SiO2- Partikel und Abscheidung der SiO2-Schichten unter weitgehendem Ausschluss von Wasser bzw. von OH-Gruppen.
In dieser Hinsicht hat sich auch eine Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens bewährt, bei der die wasserstofffreie Reaktionszone mittels eines Lasers erzeugt wird.
Eine weitere Verringerung des OH-Gehalts wird erreicht, wenn das Verglasen der SiO2-Sootschicht in einem elektrisch beheizten Ofen erfolgt. In einem elektrisch beheizten Ofen ist problemlos eine wasserstofffreie Atmosphäre einstellbar. Eine Reaktion der SiO2-Sootschicht bzw. ersten und zweiten Mantelglasschicht mit einem wasserstoffhaltigen Gas und der damit einhergehende Einbau von Hydroxylgruppen in das Quarzglas wird so vermieden. Darüber hinaus ermöglicht ein elektrisch beheizter Ofen - im Vergleich zu einer Plasmaflamme - ein Temperaturprofil mit einem relativ geringen Gradienten über der Dicke der zu verglasenden, porösen SiO2-Sootschicht. Dadurch können auch dicke SiO2- Sootschichten verglast werden, ohne dass sich über die Schichtdicke ein stofflicher Gradient oder ein Dichtegradient einstellt. Bei dem elektrisch beheizten Ofen im Sinne der Erfindung erfolgt die Beheizung durch stromdurchflossene Heizelemente. Der Stromfluss durch die Heizelemente kann direkt oder induktiv erzeugt werden, wie bei den sogenannten MF-(Mittelfrequenz)-Öfen oder Induktionsöfen.
Erfindungsgemäß wird ein Anteil der aufwendig herstellbaren ersten Mantelglasschicht am Gesamtvolumen der optischen Faser durch preiswerteres Mantelmaterial ersetzt. Der durch das preiswertere Mantelmaterial ersetzte Anteil ist umso größer, je kleiner das Durchmesserverhältnis "dM1" zu "dK" im Kernzylinder ist. Im Hinblick hierauf wird ein Kernzylinder mit einem Verhältnis von "dM1" zu "dK" von kleiner als 1,7 bevorzugt eingesetzt. Bevorzugt wird der Kernzylinder nach dem Außenabscheideverfahren (OVD) hergestellt, denn durch das OVD-Verfahren ist ein Kernzylinder mit kleinem Durchmesserverhältnis "dM1"/"dK" besonders einfach und kostengünstig herstellbar.
Vorteilhafterweise wird die zweite Mantelglasschicht von mindestens einer weiteren, dritten Mantelglasschicht umgeben, wobei die zweite Mantelglasschicht mit einem Verhältnis von Außendurchmesser zu Innendurchmesser im Bereich zwischen 1,2 und 3 erzeugt wird. Mittels der weiteren Mantelglasschicht (oder den weiteren Mantelglasschichten) wird zusätzliches Quarzglas zur Ausbildung des Mantels bereitgestellt. Die dritte und jede weitere Mantelglasschicht hat auf die Lichtführung der Faser keinen wesentlichen Einfluss, so dass die Anforderungen an die optischen Eigenschaften vergleichsweise gering sind. Das dafür benötigte Quarzglas ist daher besonders kostengünstig herstellbar. Aus diesem Grunde wird die zweite Mantelglasschicht so dünn wie möglich, jedoch so dick wie nötig ausgeführt. Im Hinblick hierauf wird eine Mantelglasschicht bevorzugt, bei der das Verhältnis von Außendurchmesser zu Innendurchmesser mindestens 1,2 und vorzugsweise mindestens 1,8 und weniger als 3 beträgt. Das Verhältnis von Außendurchmesser zu Innendurchmesser der Mantelglasschicht bezieht sich auf einen Kernzylinder ohne Innenbohrung. Bei einem rohrförmigen Kernzylinder sind für die Ermittlung des genannten Durchmesserverhältnisses der Außendurchmesser und der Innendurchmesser der Mantelglasschicht nach dem Kollabieren der Innenbohrung maßgebend.
Das Ummanteln mit der dritten Mantelglasschicht ergibt im einfachsten Fall eine Vorform, aus der anschließend eine optische Faser gezogen wird. Alternativ dazu kann die dritte Mantelglasschicht (und weitere Mantelglasschichten) in Form eines Quarzglasrohres vorliegen, das in einer koaxialen Anordnung mit dem ummantelten Kernzylinder direkt zu einer Faser gezogen wird. Die drille Mantelglasschicht kann in Form eines Quarzglas-Hohlzylinders bereitgestellt gestellt werden, der auf den ummantelten Kernzylinder aufkollabiert wird, oder in Form eines Hohlzylinders aus porösem SiO2-Soot, der auf die den Kernzylinder umhüllende, zweite Mantelglasschicht aufgeschrumpft wird. In einer ebenfalls geeigneten Verfahrensvariante wird die dritte Mantelglasschicht durch Außenabscheidung von SiO2-Soot erzeugt und anschließend verglast.
Als besonders günstig hat es sich erwiesen, eine zweite Mantelglasschicht mit einem Brechungsindex "nM2" zu erzeugen, für den gilt: "nM2" ≦ "nM1". Bei einem Brechungsindex "nM2" = "nM1" wird die Lichtführung in der Faser durch die zweite Mantelglasschicht nicht merklich beeinflußt, während bei einem Brechungsindex "nM2" < "nM1" der in der zweiten Mantelglasschicht geführte Lichtanteil weiter reduziert wird, so dass die Anforderungen an die optischen Eigenschaften des Quarzglases für diese Schicht geringer sind. Dadurch wird Herstellung des Quarzglases für die zweite Mantelglasschicht vereinfacht und die Herstellungskosten werden gesenkt.
Besonders bewährt hat sich ein Einsatz einer Mantelglasschicht, die nach dem Abscheiden mit Fluor dotiert wird. Fluor senkt den Brechungsindex von Quarzglas, so dass sich mittels einer fluordotierten Mantelglasschicht die Brechungsindex- Bedingung "nM2" < "nM1" besonders einfach und preiswert einstellen lässt.
Der Einfluss des OH-Gehalts auf die optische Dämpfung ist umso geringer, je geringer der OH-Gehalt im oberflächennahen Bereich des Kernzylinders und in der Mantelglasschicht ist. Vorzugsweise wird in der zweiten Mantelglasschicht ein mittlerer OH-Gehalt von maximal 0,1 Gew.-ppm eingestellt. Dies wird durch einen niedrigen mittleren OH-Gehalt der SiO2-Sootschicht und ein Verglasen in wasserstofffreier Atmosphäre erreicht. Der mittlere OH-Gehalt der zweiten Mantelglasschicht kann durch eine spektroskopische Messung über die Schichtdicke, und der mittlere OH-Gehalt im grenzflächennahen Bereich durch eine Differenzmessung spektroskopisch ermittelt werden.
Hinsichtlich der Vorform wird die oben angegebene Aufgabe ausgehend von der eingangs beschriebenen Vorform erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass das Verhältnis von "dM1" zu "dK" zwischen 1,1 und 2,2 beträgt, und dass die zweite Mantelglasschicht erhalten wird, indem eine poröse SiO2-Sootschicht durch Erhitzen einer siliziumhaltigen Ausgangsverbindung in einer wasserstofffreien Reaktionszone auf der ersten Mantelglasschicht abgeschieden und anschließend verglast wird.
Das Durchmesserverhältnis "dM1"/"dK" liegt bei der erfindungsgemäßen Vorform zwischen 1 und 2,2. Der Außendurchmesser der ersten Mantelglasschicht "dM1" beträgt somit weniger als das 2,2-fache des Durchmessers der Kernglasschicht "dK". Der Volumenanteil der aufwendig herzustellenden ersten Mantelglasschicht ist zu Gunsten von weitaus kostengünstiger herstellbarem Mantelmaterial reduziert.
Diese Reduzierung wird dadurch ermöglicht, dass die zweite Mantelglasschicht erhalten wird, indem eine poröse SiO2-Sootschicht durch Erhitzen einer siliziumhaltigen Ausgangsverbindung in einer wasserstofffreien Reaktionszone auf der ersten Mantelglasschicht abgeschieden und anschließend verglast wird. Dadurch wird in der zweiten Mantelglasschicht sowie im Bereich um die Grenzfläche zwischen erster und zweiter Mantelglasschicht ein geringer OH- Gehalt erhalten. Denn erst ein geringer OH-Gehalt in diesem grenzflächennahen Bereich erlaubt es, den Außendurchmesser der ersten Mantelglasschicht so zu reduzieren, dass das Durchmesserverhältnis "dM1"/"dK" kleiner als 2,2 gewählt werden kann, ohne dass sich der OH-Gehalt im grenzflächennahen Bereich auf die optische Dämpfung der Faser nachteilig auswirkt.
Vorteilhafte Weiterbildungen der erfindungsgemäßen Vorform ergeben sich aus den Unteransprüchen. Die Merkmale der Unteransprüche korrespondieren mit denen der oben bereits erläuterten Verfahrensansprüchen, so dass insoweit auf diese Erläuterungen verwiesen wird.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen und einer Zeichnung näher erläutert. In der Zeichnung zeigen in schematische Darstellung im einzelnen:
Fig. 1 eine Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorform zur Herstellung einer Single-Mode-Faser in einem radialen Schnitt,
Fig. 2 ein Ausführungsbeispiel zur Herstellung einer erfindungsgemäßen Vorform anhand eines Fließdiagramms mit einzelnen Verfahrensschritten,
Fig. 3 einen typischen Verlauf der OH-Konzentration über den Durchmesser bei einer nach dem Stand der Technik hergestellten Vorform in einem Ausschnitt, und
Fig. 4 einen typischen Verlauf der OH-Konzentration über den Durchmesser einer erfindungsgemäßen Vorform in einem Ausschnitt.
In Fig. 1 ist die Bezugsziffer 1 insgesamt einer Vorform zugeordnet. Die Vorform 1 besteht aus einer Kernglaszone 2, einer ersten Mantelglasschicht 3, einer zweiten Mantelglasschicht 4 und einer dritten Mantelglasschicht 5.
Die Kernglaszone 2 besteht aus Quarzglas, das homogen mit 5 Gew.-% Germaniumdioxid dotiert ist. Der Durchmesser "dK" der Kernglaszone 2 beträgt 7 mm. Die erste Mantelglasschicht 3 hat einen Außendurchmesser "dM1" von 13,9 mm. Das Verhältnis der Durchmesser "dM1"/"dK" beträgt somit 1,99. Die zweite Mantelglasschicht 4 besteht aus undotiertem Quarzglas. Sie hat einen Außendurchmesser von 26,8 mm. Das Verhältnis von Außendurchmesser und Innendurchmesser liegt somit in der Mantelglasschicht 4 bei 1,9. Die zweite Mantelglasschicht 4 ist von der dritten Mantelglasschicht 5 umgeben, die den größten Volumenanteil der Vorform 1 ausmacht.
Nachfolgend wird anhand den Fig. 1 und 2 das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung der Vorform beispielhaft erläutert.
Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird zunächst ein sogenannter Kernstab mittels eines Soot-Abscheideverfahrens (OVD-Verfahren) durch Flammenhydrolyse von SiCl4 und/oder GeCl4 gebildet, wobei entsprechende Oxidpartikel auf der Mantelfläche eines um seine Längsachse rotierenden Träger abgeschieden werden. Als Träger wird ein Aluminiumoxid-Rohr mit einem Durchmesser von 5 mm eingesetzt. Mittels eines Abscheidebrenners wird zunächst die Kernglaszone 2 abgeschieden, indem dem Abscheidebrenner außer SiCl4 auch GeCl4 zugeführt wird, um die oben angegebene Dotierstoff- Konzentration der Kernglaszone 2 zu erhalten. Anschließend wird die Zufuhr von GeCl4 gestoppt und auf der Kernglaszone 2 nach dem gleichen Verfahren die erste Mantelglasschicht 3 abgeschieden. Das nach Entfernen des Trägers erhaltene, poröse Quarzglasrohr wird in chlorhaltiger Atmosphäre getrocknet, anschließend gesintert und zu dem Kernstab kollabiert, wobei das Verhältnis der Durchmesser "dM1"/"dK" = 1,99 erhalten wird. Der Kernstab weist einen über seinen radialen Querschnitt homogenen OH-Gehalt von 0,004 Gew.-ppm auf. Die Herstellung des Kernstabs erfordert große Sorgfalt hinsichtlich Reinheit und Homogenität der abgeschiedenen Schichten und ist dementsprechend aufwendig und teuer.
Auf dem Kernstab wird durch Plasma-Außenabscheidung in einer Plasmakammer eine SiO2-Sootschicht erzeugt. Der Plasmakammer werden hierfür SiCl4 und Sauerstoff (und im Fall einer hier nicht näher beschriebenen Fluordotierung der zweiten Mantelglasschicht eine Ausgangsverbindung für diesen Dotierstoff) zugeführt und auf dem in einer Plasmakammer um seine Längsachse rotierenden Kernstab SiO2-Partikel schichtweise abgeschieden. Die Umsetzung von SiCl4 im Plasma zu SiO2 erfolgt in wasserstofffreier Umgebung, so dass auf dem Kernstab eine poröse, im wesentlichen OH-freie SiO2-Sootschicht mit einer Schichtdicke von etwa 13 mm abgeschieden wird.
Ein Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht darin, dass beim Abscheiden der SiO2-Sootschicht aufgrund des wasserstofffreien Plasmas in der darunter liegenden, bereits verglasten, ersten Mantelglasschicht 3 keine OH- Gruppen erzeugt werden.
Zur weiteren Reduzierung des OH-Gehalts auf einen Wert von unter 30 Gew.-ppb wird der so beschichtete Kernstab einer Chlorbehandlung bei erhöhter Temperatur in einem Induktionsofen unterzogen. Anschließend wird die poröse SiO2- Sootschicht unter Bildung der zweiten Mantelglasschicht 4 im gleichen Ofen verglast, wobei sich die Schichtdicke der Sootschicht durch das Verglasen etwa halbiert. Der mittlere OH-Gehalt der zweiten Mantelglasschicht 4 (über die Schichtdicke gemittelt) liegt bei 0,01 Gew.-ppm.
Nach dem Verglasen ist die Grenzfläche zwischen erster Mantelglasschicht 3 und zweiter Mantelglasschicht 4 mit bloßem Auge kaum zu erkennen. An dieser Grenzfläche wird keine nennenswerte Erhöhung des OH-Gehalts über 0,1 Gew.- ppm hinaus festgestellt.
Der so erhaltene, ummantelte Kernstab stellt in der späteren Lichtleitfaser den Faserkern und den zur Lichtführung beitragenden Mantel (das sogenannt "optische Cladding") dar. Er beinhaltet die homogen mit Germaniumdioxid dotierte Kernglaszone 2 mit einem Außendurchmesser von 7 mm und mit einem Brechungsindex "nK", der um ca. 0,005 über dem Brechungsindex von undotiertem Quarzglas liegt. Die Kernglaszone 2 ist von einem Mantel aus undotiertem Quarzglas mit einem Brechungsindex "nM1" von typischerweise 1,4585 umgeben. Der Mantel wird von der ersten Mantelglasschicht 3 und von der zweiten Mantelglasschicht 4, die den weitaus größten Volumenanteil des Mantels ausmacht, gebildet.
Zur Fertigstellung der Vorform wird der ummantelte Kernstab zusätzlich mit einem Überfangrohr aus undotiertem Quarzglas (dem sogenannten "Jacket-Rohr") überfangen, das die dritte Mantelglasschicht 5 bildet. Die Vorform weist danach einen Außendurchmesser von 100 mm auf. Die daraus gezogene Faser hat bei einer Wellenlänge von 1385 nm eine Dämpfung von 0,6 dB/km.
Fig. 4 zeigt schematisch einen typischen Verlauf der OH-Konzentration über den Durchmesser bei einer Vorform gemäß der Erfindung. Zum Vergleich ist der Verlauf der OH-Konzentration gemäß Fig. 3 als punktierte Linie eingezeichnet.
Auf der y-Achse des Diagramms ist der OH-Gehalt und auf der x-Achse der Vorformdurchmesser aufgetragen. Kernglasschicht 41 erste Mantelglasschicht 42 zeigen einen gleichermaßen geringen OH-Gehalt; dieser beträgt gemäß obigem Ausführungsbeispiel 0,004 Gew.-ppm. Die zweite Mantelglasschicht 43 hat einen etwas höheren OH-Gehalt (0,01 Gew.-ppm), so dass die Grenzfläche 45 zwischen der ersten Mantelglasschicht 42 und der zweiten Mantelglasschicht 43 lediglich als kleine Stufe 44 im Verlauf der OH-Konzentration erkennbar ist. Ein ausgeprägtes Maximum der OH-Konzentration, wie es die nach dem Stand der Technik hergestellte Vorform (und damit auch die daraus erhaltene Faser) zeigt, ist bei der erfindungsgemäßen Vorform nicht vorhanden. Dadurch kann die Grenzfläche 45 nahe an der Kernglasschicht 41 liegen, ohne dass sich dies auf die optische Dämpfung der aus der Vorform erhaltenen Faser nachteilig auswirkt. Mit anderen Worten, der Außendurchmesser "dM1" der ersten Mantelglasschicht 42 ist im Vergleich zu der Vorform gemäß Fig. 3 relativ klein; bei der Vorform gemäß Fig. 4 beträgt der Außendurchmessers "dM1" der ersten Mantelglasschicht 42 lediglich das 1,99-fache des Durchmessers "dK" der Kernglasschicht 41. Es ist daher möglich, den Anteil der aufwendig herzustellenden, inneren Mantelglasschicht 42 an der Vorform ohne Inkaufnahme einer höheren optischen Dämpfung zu verringern.
Näheres zu den im Zusammenhang mit der vorliegenden Erfindung relevanten Verfahren und Vorrichtungen für die Herstellung von synthetischem Quarzglas für optische Fasern durch CVD-Abscheidung sind aus folgenden Druckschriften zu entnehmen: In der US-A 5,788,730 wird ein Verfahren und ein Abscheidebrenner aus Quarzglas mit einer Mitteldüse und mindestens drei Ringspaltdüsen für die Herstellung eines Sootkörpers mit homogener radialer Dichteverteilung beschrieben; in der DE-A1 197 25 955 wird der Einsatz eines Brenners für eine Einspeisung von flüssigem Glasausgangsmaterial gelehrt; und in der DE-A1 195 01 733 wird eine Vorrichtung für die gleichzeitige und gleichmäßige Gasversorgung einer Vielzahl von Abscheidebrennern unter Einsatz eines Druckausgleichsgefäßes offenbart. Zur Steigerung der Effizienz der Soot- Abscheidung wird in der DE-A1 196 29 170 vorgeschlagen, ein elektrostatisches Feld zwischen Abscheidebrenner und Sootkörper anzulegen; in der DE-A1 196 28 958 und in der DE-A1 198 27 945 werden Maßnahmen für die Homogenisierung der Soot-Abscheidung bei Einsatz eines oszillierend bewegten Brenner-Arrays angegeben. Aus der DE-A1 197 51 919 und der DE-A1 196 49 935 sind Verfahren und Vorrichtungen zur Handhabung des Sootkörpers während und nach dem Abscheideprozess bekannt; und aus US-A 5,665,132, US-A 5,738,702 und DE-A1 197 36 949 ergeben sich Maßnahmen für die Halterung des Sootkörpers beim Verglasen. Die Dotierung von Quarzglas mit Fluor und Bor wird in der EP-A 582 070 beschrieben; in der US-A 5,790,736 wird eine Lehre zur Anpassung der Viskosität von Kern- und Mantelmaterial einer Faser gegeben; und in der DE 198 52 704 geht es um ein Verfahren zur Herstellung einer optischen Faser unter Einsatz dotierter Substratrohre nach dem MCVD-Verfahren. Die Nachbearbeitung eines verglasten Quarzglas-Hohlzylinders unter Einsatz eines speziellen Bohrers ist in der US-A 5,643,069 beschrieben. Die US-A 5,785,729 gibt eine Lehre zur Herstellung großvolumiger Vorformen unter Einsatz der Stab-in-Rohr-Technik; und die DE-A1 199 15 509 beschreibt einen zur Durchführung dieser Technik geeigneten Abzug. Gegenstand von EP-A1 767 149 und DE-A1 196 29 169 ist die Herstellung maßgenauer Quarzglas-Rohre durch ein Vertikalziehverfahren.

Claims (15)

1. Verfahren für die Herstellung einer Vorform für eine optische Faser, durch Erzeugen eines Kernzylinders, der eine Kernglasschicht mit einem höheren Brechungsindex "nK" und einem Außendurchmesser "dK" aufweist, die von einer ersten Mantelglasschicht mit einem niedrigeren Brechungsindex "nM1" und einem Außendurchmesser "dM1" umgeben ist, und Aufbringen einer zweiten Mantelglasschicht auf den Kernzylinder, indem SiO2-Partikel durch Erhitzen einer siliziumhaltigen Ausgangsverbindung in einer sauerstoffhaltigen Reaktionszone erzeugt und als poröse SiO2-Sootschicht auf der ersten Mantelglasschicht abgeschieden werden, und Verglasen der SiO2-Sootschicht unter Bildung der zweiten Mantelglasschicht, dadurch gekennzeichnet, dass ein Kernzylinder (2; 3) eingesetzt wird, bei dem das Verhältnis von "dM1" zu "dK" zwischen 1,1 und 2,2 liegt, und dass die poröse SiO2-Sootschicht durch Erhitzen der siliziumhaltigen Ausgangsverbindung in einer wasserstofffreien Reaktionszone abgeschieden wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, die wasserstofffreie Reaktionszone durch ein wasserstofffreies Plasma erzeugt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, die wasserstofffreie Reaktionszone mittels eines Lasers erzeugt wird.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Verglasen der SiO2-Sootschicht in einem elektrisch beheizten Ofen erfolgt.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein Kernzylinder (2; 3) eingesetzt wird, bei dem das Verhältnis von "dM1" zu "dK" kleiner als 1,7 ist.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Mantelglasschicht (4) von mindestens einer weiteren, dritten Mantelglasschicht (5) umgeben ist, wobei die zweite Mantelglasschicht (4) mit einem Verhältnis von Außendurchmesser zu Innendurchmesser im Bereich zwischen 1,2 und 3, vorzugsweise von mindestens 1,8, erzeugt wird.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine zweite Mantelglasschicht (4) mit einem Brechungsindex "nM2" erzeugt wird, für den gilt: "nM2" ≦ "nM1".
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die SiO2-Sootschicht nach dem Abscheiden mit Fluor dotiert wird.
9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in der zweiten Mantelglasschicht (4) ein mittlerer OH- Gehalt von maximal 0,1 Gew.-ppm eingestellt wird.
10. Vorform für die Herstellung einer optischen Faser, die eine Kernglasschicht mit höherem Brechungsindex "nK" und einem Außendurchmesser "dK" aufweist, die umhüllt ist von einer ersten Mantelglasschicht mit niedrigerem Brechungsindex "nM1" und einem Außendurchmesser "dM1" sowie von einer zweiten Mantelglasschicht, dadurch gekennzeichnet, dass der Verhältnis von "dM1" zu "dK" zwischen 1,1 und 2,2 beträgt, und dass die zweite Mantelglasschicht (4) erhalten wird, indem eine poröse SiO2-Sootschicht durch Erhitzen einer siliziumhaltigen Ausgangsverbindung in einer wasserstofffreien Reaktionszone auf der ersten Mantelglasschicht (3) abgeschieden und anschließend verglast wird.
11. Vorform nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Verhältnis von "dM1" zu "dK" kleiner als 1,7 ist.
12. Vorform nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Mantelglasschicht (4) von mindestens einer weiteren, dritten Mantelglasschicht (5) umgeben ist, wobei die zweite Mantelglasschicht (4) ein Verhältnis von Außendurchmesser zu Innendurchmesser im Bereich zwischen 1,2 und 3, vorzugsweise von mindestens 1,8, aufweist.
13. Vorform nach einem der Ansprüche 10 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Mantelglasschicht (4) einen Brechungsindex "nM2" aufweist, wobei
"nM2" ≦ "nM1" ist.
14. Vorform nach einem der Ansprüche 10 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Mantelglasschicht (4) Fluor enthält.
15. Vorform nach einem der vorhergehenden Ansprüche 10 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Mantelglasschicht (4) einen mittleren OH- Gehalt von maximal 0,1 Gew.-ppm aufweist.
DE2001155134 2001-11-12 2001-11-12 Verfahren für die Herstellung einer Vorform für eine optische Faser und Vorform für eine optische Faser Expired - Fee Related DE10155134C1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2001155134 DE10155134C1 (de) 2001-11-12 2001-11-12 Verfahren für die Herstellung einer Vorform für eine optische Faser und Vorform für eine optische Faser

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2001155134 DE10155134C1 (de) 2001-11-12 2001-11-12 Verfahren für die Herstellung einer Vorform für eine optische Faser und Vorform für eine optische Faser

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10155134C1 true DE10155134C1 (de) 2002-12-19

Family

ID=7705226

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2001155134 Expired - Fee Related DE10155134C1 (de) 2001-11-12 2001-11-12 Verfahren für die Herstellung einer Vorform für eine optische Faser und Vorform für eine optische Faser

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE10155134C1 (de)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL1024480C2 (nl) * 2003-10-08 2005-04-11 Draka Fibre Technology Bv Werkwijze ter vervaardiging van een voorvorm voor optische vezels, alsmede werkwijze ter vervaardiging van optische vezels.
DE102006059779A1 (de) * 2006-12-15 2008-06-19 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren für die Herstellung eines Hohlzylinders aus synthetischem Quarzglas sowie nach dem Verfahren erhaltener dickwandiger Hohlzylinder
DE102008016230A1 (de) 2008-03-27 2009-05-20 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren für die Herstellung eines Zylinders aus synthetischem Quarzglas
DE102008056084A1 (de) 2008-11-06 2010-05-12 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Zylinderförmiges Halbzeug zur Herstellung einer optischen Faser sowie Verfahren für die Herstellung desselben
WO2011110617A1 (de) 2010-03-10 2011-09-15 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren sowie rohrförmiges halbzeug zur herstellung einer optischen faser

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5643069A (en) * 1994-09-23 1997-07-01 Heraeus Quarzglas Gmbh Drill for drilling brittle materials
DE19629170A1 (de) * 1996-07-19 1998-01-22 Heraeus Quarzglas Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Quarzglaskörpern
DE19628958A1 (de) * 1996-07-18 1998-01-22 Heraeus Quarzglas Verfahren zur Herstellung von Quarzglaskörpern
US5785729A (en) * 1992-11-19 1998-07-28 Heraeus Quarzglas Gmbh Method for manufacturing large-sized quartz glass tube
US5788730A (en) * 1995-07-27 1998-08-04 Heraeus Quarzglas Gmbh Process and apparatus for the production of a quartz glass blank
US5838866A (en) * 1995-11-03 1998-11-17 Corning Incorporated Optical fiber resistant to hydrogen-induced attenuation

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5785729A (en) * 1992-11-19 1998-07-28 Heraeus Quarzglas Gmbh Method for manufacturing large-sized quartz glass tube
US5643069A (en) * 1994-09-23 1997-07-01 Heraeus Quarzglas Gmbh Drill for drilling brittle materials
US5788730A (en) * 1995-07-27 1998-08-04 Heraeus Quarzglas Gmbh Process and apparatus for the production of a quartz glass blank
US5838866A (en) * 1995-11-03 1998-11-17 Corning Incorporated Optical fiber resistant to hydrogen-induced attenuation
DE19628958A1 (de) * 1996-07-18 1998-01-22 Heraeus Quarzglas Verfahren zur Herstellung von Quarzglaskörpern
DE19629170A1 (de) * 1996-07-19 1998-01-22 Heraeus Quarzglas Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Quarzglaskörpern

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005033028A1 (en) * 2003-10-08 2005-04-14 Draka Fibre Technology B.V. Method for manufacturing optical fibres and their preforms
NL1024480C2 (nl) * 2003-10-08 2005-04-11 Draka Fibre Technology Bv Werkwijze ter vervaardiging van een voorvorm voor optische vezels, alsmede werkwijze ter vervaardiging van optische vezels.
US8484996B2 (en) 2003-10-08 2013-07-16 Draka Comteq B.V. Method of manufacturing an optical fibre preform
US8006518B2 (en) 2003-10-08 2011-08-30 Draka Comteq, B.V. Method for manufacturing a preform for optical fibres
US8316671B2 (en) 2006-12-15 2012-11-27 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Method for producing a hollow cylinder of synthetic quartz glass, and thickwalled hollow cylinder obtained according to the method
DE102006059779A1 (de) * 2006-12-15 2008-06-19 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren für die Herstellung eines Hohlzylinders aus synthetischem Quarzglas sowie nach dem Verfahren erhaltener dickwandiger Hohlzylinder
DE102006059779B4 (de) * 2006-12-15 2010-06-24 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren für die Herstellung eines Hohlzylinders aus synthetischem Quarzglas, nach dem Verfahren erhaltener dickwandiger Hohlzylinder und Verfahren zur Herstellung einer Vorform für optische Fasern
DE102008016230A1 (de) 2008-03-27 2009-05-20 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren für die Herstellung eines Zylinders aus synthetischem Quarzglas
DE102008056084B4 (de) * 2008-11-06 2012-05-03 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Zylinderförmiges Halbzeug zur Herstellung einer optischen Faser sowie Verfahren für die Herstellung der Faser oder einer Vorform dafür
DE102008056084A1 (de) 2008-11-06 2010-05-12 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Zylinderförmiges Halbzeug zur Herstellung einer optischen Faser sowie Verfahren für die Herstellung desselben
CN102791643A (zh) * 2010-03-10 2012-11-21 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司 用于生产光纤的方法以及管状半成品
WO2011110617A1 (de) 2010-03-10 2011-09-15 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren sowie rohrförmiges halbzeug zur herstellung einer optischen faser
CN102791643B (zh) * 2010-03-10 2015-04-01 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司 用于生产光纤的方法以及管状半成品
US9085481B2 (en) 2010-03-10 2015-07-21 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Method and tubular semifinished product for producing an optical fiber
US10118854B2 (en) 2010-03-10 2018-11-06 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Tubular semifinished product for producing an optical fiber

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1286926B1 (de) Verfahren für die herstellung einer optischen faser
DE3105295C2 (de)
EP1000909A2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Vorform für eine optische Faser und für die Durchführung des Verfahrens geeignetes Substratrohr
WO2010003856A1 (de) Biegeunempfindliche optische faser, quarzglasrohr als halbzeug für seine herstellung sowie verfahren zur herstellung der faser
DE10152328B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines Rohres aus Quarzglas, rohrförmiges Halbzeug aus porösem Quarzglas u. Verwendung desselben
DE102012007520B3 (de) Verfahren für die Herstellung eines zylinderförmigen Bauteils aus Fluor enthaltendem synthetischem Quarzglas
DE10225773B4 (de) Jacketrohr aus synthetisch hergestelltem Quarzglas
DE2804467B2 (de) Optische Faser mit einer zwischen Kern und Mantel angeordneten, durch chemische Dampfreaktion hergestellten Zwischenschicht, die im wesentlichen den gleichen Brechungsindex hat wie der Mantel, sowie Verfahren zur Herstellung einer derartigen Faser
DE60314377T2 (de) Verfahren zur herstellung von lichtleitfaser und lichtleitfaser
DE102007003889B3 (de) Quarzglasrohr als Halbzeug für die Vorform- und Faserherstellung, dessen Verwendung sowie Verfahren zur Herstellung des Quarzglasrohres
DE10155134C1 (de) Verfahren für die Herstellung einer Vorform für eine optische Faser und Vorform für eine optische Faser
DE102008049325B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines rohrförmigen Halbzeugs aus Quarzglas sowie Halbzeug aus Quarzglas
DE60200189T2 (de) Verfahren zum Herstellen von optischen Fasern aus Vorformen mittels Regulierung des Partialdrucks des Sauerstoffes während der Dehydratisierung der Vorform
EP0198118A1 (de) Einwelliger Lichtwellenleiter aus Quarzglas und Verfahren zu dessen Herstellung
EP4030204B1 (de) Mikrostrukturierte optische faser und vorform dafür
EP1854768B1 (de) Verfahren zur herstellung von synthetischem quarzglas mit vorgegebenem hydroxylgruppengehalt
EP0127227B1 (de) Verfahren zur Herstellung von optischen Wellenleitern
EP0536631B1 (de) Verfahren zum Herstellen einer Vorform für optische Fasern
DE10050324C1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Rohres aus dotiertem Quarzglas, rohrförmiges Halbzeug aus porösem Quarzglas, daraus hergestelltes Quarzglasrohr und Verwendung desselben
DE19952821B4 (de) Verfahren zur Herstellung einer Quarzglas-Vorform für Lichtleitfasern
DE10035951C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Bauteils für die Herstellung optischer Fasern, sowie Verwendung des Bauteils
DE10029151C1 (de) Verfahren für die Herstellung eines SiO¶2¶-Rohlings sowie SiO¶2¶-Rohling
EP4227273A1 (de) Verfahren und zwischenprodukt zur herstellung einer mehrkernfaser mit einem marker

Legal Events

Date Code Title Description
8100 Publication of the examined application without publication of unexamined application
D1 Grant (no unexamined application published) patent law 81
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: HERAEUS TENEVO GMBH, 63450 HANAU, DE

8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG, 63450 HANAU, DE

8339 Ceased/non-payment of the annual fee