DE10115244A1 - Nachpassivierung einer phosphatierten Metalloberfläche im Bandverfahren - Google Patents
Nachpassivierung einer phosphatierten Metalloberfläche im BandverfahrenInfo
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Abstract
Verfahren zur Nachpassivierung einer phosphatierten Metalloberfläche im Bandverfahren, dadurch gekennzeichnet, daß man die phosphatierte Metalloberfläche für eine Zeitdauer von 1 bis 9 Sekunden mit einer wäßrigen Nachpassivierungslösung behandelt, die 50 bis 5000 mg/l Nickelionen und 200 bis 15000 mg/l Phosphationen enthält. Anfallendes Spülwasser, das Bestandteile der Nachpassivierungslösung enthält, kann über Nanofiltration oder Umkehrosmose aufbereitet werden, wobei man das Retentat in das Phosphatierbad überführt und so den Ni-Kreislauf schließt. Vorzugsweise enthält die Nachpassivierungslösung zusätzlich einen Phosphatierbeschleuniger.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Nachpassivierung einer phosphatierten
Metalloberfläche im Bandverfahren und liegt damit auf dem allgemeinen Gebiet
der Phosphatierung von Metallen. Das Verfahren ist anwendbar zur
Nachbehandlung von im Bandverfahren phosphatierten Metalloberflächen,
beispielsweise von Oberflächen aus Stahl, verzinktem oder legierungsverzinktem
Stahl oder legierungsaluminiertem Stahl. Eine bevorzugte Ausführungsform des
Verfahrens besteht darin, daß aus dem Überlauf der Nachpassivierungslösung
oder aus dem Spülwasser nach der Nachpassivierung Wirkkomponenten wie
beispielsweise zweiwertige Metallionen und Phosphationen durch
Membranfiltration (Nanofiltration, Umkehrosmose) aufkonzentriert und in die
Phosphatierlösung überführt werden.
Als Vorbehandlung vor einer Lackierung von Metallgegenständen, an die höhere
Ansprüche auf Korrosionsschutz gestellt werden wie beispielsweise für Automobil
karosserien ist eine schichtbildende Phosphatierung gebräuchlich. Hierbei werden
in der Regel kristalline Metallphosphatschichten abgeschieden. Die
Behandlungslösung für eine schichtbildende Phopshatierung enthält Kationen, die
in die Phosphatschicht eingebaut werden. Hier sind insbesondere Zinkionen sowie
Mangan- und/oder Nickelionen zu nennen. In den letzten Jahren zeigt sich ein
Trend, nicht erst die zusammengefügten Metallbauteile wie beispielsweise
Automobilkarosserien oder Haushaltsgeräte zu phosphatieren, sondern diese
Bauteile aus bereits im Stahlwerk vorphosphatiertem Bandmaterial zusammen zu
setzen. In diesen Fällen erfolgt eine Phosphatierung der laufenden Metallbänder
mit Phosphatierzeiten, die im Bereich von 1 bis 20 Sekunden liegen. Diese
Phosphatierung kann in Form der bekannten schichtbildenden Phosphatierung
erfolgen, bei der die Metalloberfläche durch Eintauchen in die oder Bespritzen mit
der Phosphatierlösung mit einer kristallinen Schicht von Metallphosphat
überzogen wird. Nach Ende der Behandlungsdauer wird überschüssige
Phosphatierlösung üblicherweise abgespült.
Eine Alternative hierzu besteht darin, daß man eine Phosphatierlösung auf die
Bandoberfläche aufbringt, beispielsweise durch Aufwalzen, und sie ohne Abspülen
eintrocknet. Solche Verfahren werden allgemein als "no-rinse-Verfahren"
bezeichnet. Da hierbei die gesamten Komponenten der Phosphatierlösung, so
weit sie nicht flüchtig sind, auf der Metalloberfläche verbleiben, sollte die
Phosphatierlösung keine Ionen enthalten, die zur Bildung wasserlöslicher Salze
führen. Beispiele von Phosphatierlösungen, die im no-rinse-Verfahren eingesetzt
werden, sind in der DE-A-44 33 946 und der EP-A-141 341 beschrieben.
Die schichtbildende Phosphatierung von Metallen verfolgt das Ziel, auf der Metall
oberfläche festverwachsene Metallphosphatschichten zu erzeugen, die für sich
bereits Korrosionsbeständigkeit verbessern und in Verbindung mit Lacken und
anderen organischen Beschichtungen zu einer wesentlichen Erhöhung der
Haftung und der Resistenz gegen Unterwanderung bei Korrosionsbeanspruchung
beitragen. Solche Phosphatierverfahren sind seit langem im Stand der Technik
bekannt. Für die Vorbehandlung vor der Lackierung eigenen sich insbesondere
die Niedrig-Zink-Phosphatierverfahren, bei denen die Phosphatierlösungen
vergleichsweise geringe Gehalte an Zinkionen von z. B. 0,5 bis 2 g/l, aufweisen.
Ein wesentlicher Parameter in diesen Niedrig-Zink-Phosphatierbädern ist das
Gewichtsverhältnis Phosphationen zu Zinkionen, das üblicherweise im Bereich <
12 liegt und Werte bis zu 30 annehmen kann.
Es hat sich gezeigt, daß durch die Mitverwendung anderer mehrwertiger Kationen
als Zink in den Phosphatierbädern Phosphatschichten mit deutlich verbesserten
Korrosionsschutz- und Lackhaftungseigenschaften ausgebildet werden können.
Beispielsweise finden Niedrig-Zink-Verfahren mit Zusatz von z. B. 0,5 bis 1,5 g/l,
Manganionen und z. B. 0,3 bis 2,0 g/l, Nickelionen als sogenannte Trikation-
Verfahren zur Vorbereitung von Metalloberflächen für die Lackierung, bei
spielsweise für die kathodische Elektrotauchlackierung von Autokarosserien, weite
Anwendung.
Bei der Teilephosphatierung, beispielsweise der Phosphatierung von Automobil
karossen, ist es üblich, die phosphatierten Oberflächen mit einer
Nachpassivierungslösung zu behandeln. Hierdurch werden Korrossionsschutz und
Lackhaftung, die durch die Phosphatierung bewirkt werden, weiter verbessert. Im
praktischen Einsatz sind Nachpassivierungslösungen auf Basis von Verbindungen
von sechswertigem Chrom oder chromfreie Nachpassivierungslösungen auf Basis
komplexer Fluoride von Zirkon und/oder Titan oder auf Basis organischer
Polymerer, beispielsweise aminosubstituierter Polyvinylphenolverbindungen, die
auch in Kombination mit komplexen Fluoriden von Titan und/oder Zirkon
eingesetzt werden können. Jedoch konnte bisher bandphosphatiertes Material
nicht bereits in der Phosphatierlinie im Stahlwerk nachpassiviert werden, da die
genannten Nachpassivierungsmittel bei einer üblicherweise eingesetzten
Nachphosphatierung der aus dem vorphosphatierten Bandmaterial hergestellten
Metallbauteile (beispielsweise Automobilkarosserien) aus dem vorphosphatiertem
Material herausgelöst werden können. Sie reichern sich dann im Phosphatierbad
der Nachphosphatierung an und können dieses vergiften. So genügt bereits die
Anwesenheit von ca. 5 bis 10 ppm von Chromverbindungen bzw. von komplexen
Fluoriden von Zirkon oder Titan, um bei der Nachphosphatierung die Ausbildung
einer Phosphatschicht auf solchen Teilen des Metallbauteils zu verhindern, die
nicht aus vorphosphatiertem Material hergestellt wurden.
Eine Nachpassivierung von bandphosphatiertem Material ist aber wünschenswert,
da hierdurch der Korrosionsschutz des Materials und die Lackhaftung von
kathodischen Elektrotauchlacken und von anderen Lacken verbessert werden
kann.
Aufgabe der Erfindung war es, ein Nachpassivierungsmittel zu finden, das
Korrosionsschutz und Lackhaftung verbessert, ohne negative Auswirkungen auf
eine nachfolgende Phosphatierung von aus dem Bandmaterial
zusammengebauten Bauteilen wie beispielsweise Automobilkarossen zu haben.
Aus der DE-A-34 00 339 ist es bekannt, nickelhaltige Lösungen zur
Nachpassivierung von Phosphatschichten einzusetzen. Dabei wird als Nickelsalz
vorzugsweise das Acetat verwendet. Acetationen sollten jedoch nicht in die
Phosphatierlösung eingeschleppt werden, da sie dort zu Essigsäure werden und
zu einer starken Geruchsbelästigung führen.
Die nicht vorveröffentlichte DE-A-199 58 775 löst die Aufgabe, eine
Nachpassivierungslösung zur Verfügung zu stellen, die nur solche
Wirkkomponenten enthält, die auch in einer Phosphatierungslösung eingesetzt
werden. Dies ist zusätzlich ein Teilaspekt der erweiterten Aufgabe, die im
Gesamtprozeß der Phosphatierung eingesetzten Wirkstoffe zu minimieren sowie
den Wasserverbrauch einzuschränken. Dieses Dokument offenbart ein Verfahren
zur Nachpassivierung einer phosphatierten Metalloberfläche, bei dem man die
phosphatierte Metalloberfläche mit einer wäßrigen Nachpassivierungslösung
behandelt, die 50 bis 500 mg/l Nickelionen und 200 bis 1500 mg/l, Phosphationen
enthält.
Es hat sich nun gezeigt, daß dieses Verfahren auch geeignet ist, eine
Nachpassivierung einer im Bandverfahren phosphatierten Metalloberfläche im
Bandverfahren bei den hierfür erforderlichen kurzen Behandlungszeiten zu
ermöglichen.
Die vorliegende Erfindung betrifft daher ein Verfahren zur Nachpassivierung einer
phosphatierten Metalloberfläche im Bandverfahren, dadurch gekennzeichnet, daß
man die phosphatierte Metalloberfläche für eine Zeitdauer von 1 bis 9 Sekunden
mit einer wäßrigen Nachpassivierungslösung behandelt, die 50 bis 5 000 mg/l
Nickelionen und 200 bis 15 000, vorzugsweise 3 000 bis 8 000 mg/l
Phosphationen enthält. Vorzugsweise beträgt der Nickelgehalt 500 bis 2 000 mg/l.
Das Metallband kommt also nur mit solchen Reagenzien in Berührung, die auch
Bestandteile einer Phosphatierungslösung sind. Selbst wenn diese Bestandteile
aus dem vorphosphatierten Bandmaterial bei einer nachfolgenden weiteren
Phosphatierung von aus solchem vorphosphatiertem Material hergestellten
Bauteilen herausgelöst werden, sind sie unschädlich für den Erfolg der
nachfolgenden Teilephosphatierung. Daher ist es mit dem erfindungsgemäßen
Verfahren erstmals möglich, vorphosphatiertes Material in der
Bandphosphatierungsanlage nachzupassivieren. Auf diese Weise kann
vorphosphatiertes Bandmaterial mit erhöhtem Korrosionsschutz und verbesserter
Lackhaftung zur Verfügung gestellt werden.
Dabei kann die Behandlung der phosphatierten Metalloberfläche mit der
Nachpassivierungslösung so ausgestaltet sein, daß die phosphatierte
Metalloberfläche mit der Nachpassivierungslösung besprüht oder geflutet wird
oder daß sie in die Nachpassivierungslösung eingetaucht wird. Vorzugsweise
enthält die Nachpassivierungslösung einen größeren Gewichtsanteil
Phosphationen als Nickelionen. Dabei werden die in der Nachpassivierungslösung
vorliegenden Anionen der Phosphorsäure rechnerisch so behandelt, als würden
sie komplett als tertiäre Phosphationen vorliegen. Tatsächlich stellt sich jedoch je
nach pH-Wert der Nachpassivierungslösung das entsprechende
Protolysegleichgewicht der Phosphationen ein. Da der pH-Wert der
Nachpassivierungslösung vorzugsweise im Bereich zwischen 3 bis 6 und
insbesondere im Bereich zwischen 3,5 und 5 und besonders bevorzugt im Bereich
zwischen 3,8 und 4,8 liegt, liegen in der Praxis die Anionen der Phosphorsäure
weitgehend als Dihydrogenphosphationen vor. Für die Berechnung der
Gewichtsverhältnisse kann dies jedoch in der Praxis vernachlässigt werden, da die
Masse der Protonen nur sehr wenig zur Gesamtmasse der Anionen der
Phosphorsäure beiträgt. Vorzugsweise stellt man ein solches Gewichtsverhältnis
zwischen Nickelionen und Phosphationen ein, daß die Masse der Phosphationen
das 2- bis 5-fache der Masse der Nickelionen beträgt. Der pH-Wert wird
vorzugsweise mit Phosphorsäure eingestellt, so daß Phosphationen die einzigen
Anionen der Nachpassivierungslösung darstellen. Ni bringt man vorzugsweise als
Phosphat, Oxid oder Carbonat in die Nachpassivierungslösung ein, um andere
Anionen als Phosphat zu vermeiden.
Vorzugsweise führt man das erfindungsgemäße Verfahren so aus, daß die
wäßrige Nachpassivierungslösung eine Temperatur zwischen etwa 10 und etwa
50°C aufweist. Bevorzugt ist der Temperaturbereich zwischen 20 und 45°C.
Man bringt die phosphatierte Metalloberfläche vorzugsweise für eine Zeitdauer im
Bereich von etwa 1 Sekunde bis etwa 6 Sekunden, insbesondere für eine
Zeitdauer zwischen 2 Sekunden und 3 Sekunden mit der wäßrigen
Nachpassivierungslösung in Kontakt. Dies heißt, daß man die Metalloberfläche in
die Nachpassivierungslösung eintaucht oder sie mit dieser besprüht oder im
Fluten behandelt. Anschließend quetscht man die Nachpassivierungslösung ab,
beispielsweise mit Walzen oder man spült die phosphatierten und
nachpassivierten Metalloberflächen mit Wasser. Hierfür wird vorzugsweise
vollentsalztes Wasser eingesetzt. Alternativ kann die Nachpassivierungslösung
auch mittels einer Walze aufgetragen werden. Dabei kann man auf das Abspülen
mit Wasser verzichten.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann als Nachpassivierung nach einer no-rinse-
Phosphatierung eingesetzt werden. Demnach besteht eine Ausführungsform der
Erfindung darin, daß es sich bei der phosphatierten Metalloberfläche um eine
Metalloberfläche handelt, die mit einem no-rinse-Phosphatierverfahren
phosphatiert wurde.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist jedoch speziell dafür konzipiert, zur
Nachpassivierung einer Metalloberfläche eingesetzt zu werden, die mit einem
schichtbildenden Zinkphosphatierverfahren phosphatiert wurde und die daher eine
kristalline Metallphosphatschicht trägt. Dabei liegt die flächenbezogene Masse
dieser kristallinen Metallphosphatschicht in der Regel im Bereich zwischen etwa
0,5 und etwa 2 g/m3. Demnach betrifft die Erfindung in einem weiteren Aspekt ein
Verfahren zur Nachpassivierung einer phosphatierten Metalloberfläche, wobei es
sich bei der phosphatierten Metalloberfläche um eine Metalloberfläche handelt, die
mit einem schichtbildenden Zinkphosphatierverfahren im Bandverfahren
phosphatiert wurde. Ein solches Phosphatierverfahren weist beispielsweise
folgende Merkmale auf:
Der Zink-Gehalt liegen vorzugsweise im Bereich von 1 bis 4 g/l, und der Phosphat- Gehalt zwischen 10 und 30 g/l,.
Der Zink-Gehalt liegen vorzugsweise im Bereich von 1 bis 4 g/l, und der Phosphat- Gehalt zwischen 10 und 30 g/l,.
Dabei kann das Phosphatierbad außer den Zink- und Phosphationen weitere
Komponenten enthalten, wie sie derzeit in Phosphatierbädern für
Bandphosphatierung üblich sind. Insbesondere können zusätzlich 0,8 bis 3,5 g/l
Nickelionen anwesend sein. Daneben kann die Phosphatierlösung, wie für
Trikation-Verfahren üblich, 0,8 bis 3,5 g/l Manganionen enthalten. Weiterhin kann
die Phosphatierlösung zusätzlich zu den Zinkionen und ggf. zusammen mit den
Nickel- und/oder Manganionen als weitere Metallionen enthalten:
0,2 bis 2,5 g/l Magnesium(II),
0,2 bis 2,5 g/l Calcium(II),
0,1 bis 2 g/l Cobalt(II)
0,002 bis 0,2 g/l Kupfer(II)
0,2 bis 2,5 g/l Magnesium(II),
0,2 bis 2,5 g/l Calcium(II),
0,1 bis 2 g/l Cobalt(II)
0,002 bis 0,2 g/l Kupfer(II)
Insbesondere geeignet ist das Verfahren für die Nachpassivierung einer
Metalloberfläche, die mit einer nickelhaltigen Zinkphosphatierlösung phosphatiert
wurde. Dies ermöglicht die nachstehend beschriebene bevorzugte
Ausführungsform der Erfindung, bei der letztlich Nickel- und Phosphationen aus
der Nachpassivierungslösung in die Phosphatierlösung überführt werden.
Hierdurch können Rohstoffe und - bei entsprechender Verfahrensausführung -
auch Wasser eingespart werden.
In welcher Form die Kationen in die Phosphatierbäder eingebracht werden ist
prinzipiell ohne Belang. Es bietet sich insbesondere an, als Kationenquelle Oxide
und/oder Carbonate zu verwenden. Wegen der Gefahr einer Aufsalzung der
Phosphatierbäder sollten vorzugsweise Salze anderer Säuren als Phosphorsäure
vermieden werden.
Außer den schichtbildenden zweiwertigen Kationen enthalten Phosphatierbäder in
der Regel zusätzlich Natrium-, Kalium- und/oder Ammoniumionen zur Einstellung
der freien Säure.
Phosphatierbäder, die ausschließlich der Behandlung von verzinktem Material
dienen, müssen nicht notwendigerweise einen sogenannten Beschleuniger
enthalten. Beschleuniger, die bei der Phosphatierung unverzinkter
Stahloberflächen erforderlich sind, werden in der Technik jedoch auch häufig bei
der Phosphatierung von verzinktem Material mit eingesetzt. Beschleunigerhaltige
Phosphatierlösungen haben den zusätzlichen Vorteil, daß sie sowohl für verzinkte
als auch für unverzinkte Materialien geeignet sind. So ist es beispielsweise im
Stand der Technik bekannt, bei der Phosphatierung von nur einseitig verzinktem
Bandmaterial die Zusammensetzung der Phosphatierlösung so zu wählen, daß
entweder nur die verzinkte Seite oder daß sowohl die verzinkte als auch die
unverzinkte Seite phosphatiert werden. Beispielsweise beschreibt die DE-A-196 39 596
eine Phosphatierlösung, die bei der Einwirkung auf einseitig verzinktes
Bandmaterial sowohl auf der unverzinkten als auch auf der verzinkten Seite eine
kristalline Metallphosphatschicht abscheidet.
Im Stand der Technik stehen für Phosphatierbäder unterschiedliche Beschleuniger
zur Verfügung. Sie beschleunigen die Schichtausbildung und erleichtern die
Bildung geschlossener Phosphatschichten, da sie mit dem bei der Beizreaktion
entstehenden Wasserstoff reagieren. Dieser Prozeß wird als "Depolarisierung"
bezeichnet. Das Entstehen von Wasserstoffblasen an der Metalloberfläche, die die
Schichtausbildung stören, wird hierdurch verhindert.
Beispielsweise kann die Phosphatierlösung einen oder mehrere der folgenden
Beschleuniger enthalten:
0,3 bis 4 g/l Chlorationen
0,01 bis 0,2 g/l Nitritionen
0,1 bis 10 g/l, Hydroxylamin
0,001 bis 0,15 g/l Wasserstoffperoxid in freier oder gebundener Form
0,5 bis 80 g/l Nitrationen.
0,3 bis 4 g/l Chlorationen
0,01 bis 0,2 g/l Nitritionen
0,1 bis 10 g/l, Hydroxylamin
0,001 bis 0,15 g/l Wasserstoffperoxid in freier oder gebundener Form
0,5 bis 80 g/l Nitrationen.
Ein im Rahmen des erfindungsgemäßen Verfahrens vorzugsweise zu
verwendender Beschleuniger ist Hydroxylamin. Dieses setzt man in freier Form
oder in Form von Hydroxylammoniumphosphaten, Hydroxylammoniumnitrat
und/oder Hydroxylammoniumsulfat dem Phosphatierbad zu.
In einer Ausführungsform der Erfindung führt man Spülwasser, das nach der
Nachpassivierung anfällt, in die Nachpassivierungslösung über. Dies hat zum
einen den Vorteil, daß das nickelhaltige Spülwasser nicht aufbereitet und entsorgt
werden muß, und zum anderen, daß die von der Metalloberfläche abgespülten
Wirkstoffe der Nachpassivierungslösung in diese zurückgeführt werden. Sofern die
Nachpassivierungslösung durch Rückführung des Spülwassers zu stark verdünnt
wird, muß man durch Zusatz von Nickel- und/oder Phosphationen dafür sorgen,
daß der wirksame Konzentrationsbereich eingestellt bleibt.
Eine Rückführung des Spülwassers in die Nachpassivierungslösung wird mit der
Zeit dazu führen, daß das Becken bzw. der Vorratsbehälter für die
Nachpassivierungslösung überläuft. Man verfährt dann vorzugsweise so, daß
kontinuierlich oder diskontinuierlich ein Teil der Nachpassivierungslösung einer
Nanofiltration oder einer Umkehrosmose unterzogen wird, wobei man das
Retentat (= Konzentrat) der Nanofiltration oder der Umkehrosmose in die
Phosphatierlösung überführt, mit der die Metalloberfläche vor der
Nachpassivierung phosphatiert wird. Diese Verfahrensweise hat den Vorteil, daß
der Überlauf der Nachpassivierungslösung nicht als Abwasser entsorgt werden
muß. Vielmehr werden durch die Membranfiltration (Nanofiltration oder
Umkehrosmose) die Wirkstoffe Nickel und Phosphat der Nachpassivierungslösung
aufkonzentriert und in die Phosphatierlösung überführt, wo sie wiederum
Wirkstoffe darstellen. Dies gilt insbesondere dann, wenn die
Phosphatierungslösung eine schichtbildende nickelhaltige
Zinkphosphatierungslösung darstellt. Hierdurch wird der Kreislauf für Nickelionen
geschlossen, so daß diese die gesamte Phosphatieranlage nur noch durch den
Einbau in die Zinkphosphatschicht verlassen. Nickelhaltiges Abwasser tritt
allenfalls noch in dem geringen Maße auf, in dem Nickelionen die Nanofiltrations-
oder Umkehrosmosemembran durchdringen können und mit dem Permeat
ausgetragen werden.
Eine weitere Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht darin,
daß man die phosphatierte Metalloberfläche zwischen der Phosphatierung und der
Behandlung mit der Nachpassivierungslösung mit Wasser spült, sie mit der
Nachpassivierungslösung behandelt und sie nach der Behandlung mit der
Nachpassivierungslösung erneut mit Wasser spült. In dieser Ausführungsform ist
es vorteilhaft, daß man Spülwasser aus der Spülung nach der Nachpassivierung
in das Spülwasser für die Spülung vor der Nachpassivierung überführt. Das
gebrauchte Spülwasser nach der Nachpassivierung stellt also kein Abwasser dar,
sondern wird als Spülwasser vor der Nachpassivierung nochmals verwendet.
Diese Rückführung des Spülwassers hat zur Folge, daß das Bad bzw. der
Vorratsbehälter für das Spülwasser vor der Nachpassivierung überläuft. Daher
sieht man für diese Ausführungsform vorzugsweise vor, daß ein Teil des
Spülwassers, das zum Spülen zwischen Phosphatierung und Nachpassivierung
verwendet wird, kontinuierlich oder diskontinuierlich einer Nanofiltration oder einer
Umkehrosmose unterzogen wird. Dann verfährt man weiter wie bei der vorstehend
beschriebenen Ausführungsform: Das Retentat (= Konzentrat) der Nanofiltration
oder Umkehrosmose wird in die Phosphatierlösung überführt, mit der die
Metalloberfläche vor der Nachpassivierung phosphatiert wird. Damit ist auch in
dieser Ausführungsform der Kreislauf für die Nickelionen weitgehend geschlossen,
da die Nickelionen aus der Nachpassivierung letztlich in das Phosphatierbad
zurückgeführt werden, wo sie in die kristalline Zinkphosphatschicht eingebaut
werden. Eine nur noch geringe Menge Nickel verläßt das System im Permeat der
Nanofiltration bzw. der Umkehrosmose.
Wenn im Vorstehenden allgemein von "Spülen" gesprochen wird, so ist damit
gemeint, daß das Spülen durch Eintauchen des Metallbandes in ein Bad mit
Spülwasser oder durch Abspritzen des Metallbandes mit Spülwasser erfolgen
kann. Auch Kombinationen hiervon sind möglich. Beispielsweise kann man zuerst
durch Eintauchen Vorspülen und anschließend durch Bespritzen Nachspülen.
Setzt man eine Nanofiltration oder eine Umkehrosmose zum Aufbereiten der
Nachpassivierungslösung und/oder von gebrauchtem oder überschüssigem
Spülwasser ein, wird ein Permeat erhalten, das nur noch etwa 0,5 bis 3 ppm
Nickelionen enthält. Soll das Permeat entsorgt werden, können die Nickelionen
alkalisch ausgefällt werden. Das Permeat kann jedoch auch durch
Ionenaustauscher weiter gereinigt werden. Hierdurch wird es möglich, einen Anteil
des Nickels im Ionenaustaucher zu binden. Nach Eluierung des Austauschers
kann der rückgewonnene Anteil an Nickelionen wieder in das Phosphatierbad
zurückgeführt werden. Dieser Teilschritt der Aufarbeitung des Permeats ist näher
beschrieben in der deutschen Patentanmeldung 199 18 713.4.
Eine weitere Verfahrensvariante sieht vor, das Permeat der Membranfiltration
entweder direkt oder nach Nachbehandlung mit einem Ionenaustauscher zum
Spülen der zu phosphatierenden Metalloberflächen nach der Reinigung
(Entfettung) und vor der Phosphatierung einzusetzen, sofern ein solcher
Entfettungsschritt erfolgt. (Bei galvanisiertem Band, das direkt nach der
Galvanisierung phosphatiert wird, ist keine Entfettung erforderlich.) Diese
Verfahrensweise optimiert den Gesamtprozeß dahingehend, daß nicht nur die
Nickelionen, sondern auch das Spülwasser in den Phosphatierkreislauf
zurückgeführt werden. Hierdurch wird ein besonders abwasserarmer Betrieb der
Phosphatieranlage ermöglicht. Nickelhaltiges Abwasser fällt nur noch in sehr
reduziertem Umfang an, so daß man von den Vorteilen nickelhaltiger
Zinkphosphatierverfahren profitieren kann, ohne Probleme mit der Behandlung
nickelhaltiger Abwässer zu haben.
Für eine Nanofiltration oder eine Umkehrosmose stehen im Stand der Technik
unterschiedliche Membrantypen zur Verfügung. Da die Behandlungslösungen und
auch die entsprechenden Spülwässer sauer reagieren, sollte die eingesetzte
Membran säurestabil sein. Geeignet sind beispielsweise anorganische
Membranen wie z. B. Keramikmembranen. Weiterhin können organische
Polymermembranen eingesetzt werden. Insbesondere ist eine Polyamid-Membran
als Nanofiltrationsmembran geeignet.
Für den Schritt der Nanofiltration ist beispielsweise eine Desal DK-Membran
geeignet. Bei einer Druckdifferenz von 7 bar und einer Temperatur von 35°C
liefert sie bei einem Volumenverhältnis Konzentrat : Filtrat = 1 : 1 einen
Membranfluß der Größenordnung 35 bis 40 l pro m2 und Stunde. Für den Schritt
der Umkehrosmose kann beispielsweise eine Filmtec SW 30-Membran der Firma
Rochem eingesetzt werden. Bei einer Druckdifferenz von 25 bar und einer
Temperatur von 45°C ergibt sie bei einem Volumenverhältnis Konzentrat : Filtrat =
5 : 1 einen Membranfluß von etwa 30 l pro m2 und Stunde.
Das Retentat (Konzentrat) der Membranfiltration kann in das Phosphatierbad
rückgeführt werden. Aus dem Permeat (Filtrat) kann restliches Nickel durch einen
schwach sauren Ionenaustauscher gebunden werden. Als schwach sauren
Ionenaustauscher setzt man vorzugsweise einen solchen Typ ein, der selektiv ist
für Nickelionen und gegebenenfalls Zinkionen. Demgegenüber sollen einwertige
Kationen möglichst wenig gebunden werden. Hierfür sind insbesondere solche
schwach sauren Ionenaustauscher geeignet, die chelatbildende
Iminodiessigsäuregruppen tragen. Ein geeignetes Produkt ist Lewatit TP 207 der
Firma Bayer.
Vorzugsweise betreibt man dann das Verfahren so, daß der schwach saure
Ionenaustauscher nach Beladung mit einer starken Säure regeneriert wird. Die
selektiv gebundenen Kationen werden hierbei eluiert und können für Zwecke der
Phosphatierung wieder verwendet werden. Durch Verwendung des
erfindungsgemäßen Verfahrens müssen diese Kationen nicht als
schwermetallhaltiger Schlamm entsorgt werden sondern können - ggf. nach
geeigneter Aufbereitung - wieder zur Phosphatierung eingesetzt werden.
Hierdurch werden Ressourcen geschont. Besonders bevorzugt ist es, für die
Regenerierung des beladenen schwach sauren Ionenaustauschers eine solche
Säure zu verwenden, die einen Wertstoff für die Phosphatierlösung darstellt.
Insbesondere ist Phosphorsäure geeignet. Salpetersäure kann ebenfalls
verwendet werden, wenn die Phosphatierlösung Nitrationen als Beschleuniger
oder als Co-Beschleuniger enthalten soll.
Das Regenerat kann dann unmittelbar oder nach Ergänzung mit weiteren
Wirkstoffen zur Ergänzung einer Phosphatierlösung wieder verwendet werden.
Dabei ist es besonders bevorzugt, das Regenerat so mit weiteren Zink- und/oder
Nickelionen sowie mit weiteren Wirkstoffen einer Phosphatierlösung zu ergänzen,
daß eine konventionelle Ergänzungslösung für ein Phosphatierbad entsteht. Diese
Ergänzungslösung kann dann wie üblich zur Ergänzung des Phosphatierbads
verwendet werden.
Die an Kationen abgereicherte Lösung, die den schwach sauren
Kationenaustauscher in dessen Beladungsphase verläßt, kann je nach
Inhaltsstoffen einer vereinfachten Abwasserbehandlung zugeführt oder direkt in
eine biologische Kläranlage eingeleitet werden. Wirtschaftlicher ist es jedoch,
diese Lösung als Spülwasser für die zu phosphatierenden Metallteile nach deren
Entfettung zu verwenden. Diese Ausführungsform des erfindungsgemäßen
Verfahrens hat den zusätzlichen Vorteil, daß Spülwasser eingespart wird.
Die genaue Durchführung dieses Verfahrens wurde an Hand einer
Teilephosphatierung in der nicht vorveröffentlichten DE-A-199 58 775
beschrieben.
Eine Weiterentwicklung des vorstehend beschriebenen Verfahrens besteht darin,
daß man der Nachpassivierungslösung zusätzlich Substanzen zusetzt, die als
Phosphatierungsbeschleuniger bekannt sind. Hierdurch werden die
Korrosionsschutzeigenschaften der nachpassivierten Phosphatschicht auf der
Metalloberfläche weiter verbessert.
Demnach besteht eine Fortbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens darin, daß
die Nachpassivierungslösung zusätzlich einen oder mehrere
Phosphatierungsbeschleuniger ausgewählt aus
0,05 bis 2 g/l m-Nitrobenzolsulfonationen,
0,01 bis 10 g/l Hydroxylamin in freier oder gebundener Form,
0,05 bis 2 g/l m-Nitrobenzoationen,
0,05 bis 2 g/l p-Nitrophenol,
1 bis 70 mg/l Wasserstoffperoxid in freier oder gebundener Form,
0,05 bis 10 g/l organische N-Oxide
0,1 bis 3 g/l Nitroguanidin
1 bis 500 mg/l Nitritionen
0,5 bis 5 g/l Chlorationen
0,1 bis 10 g/l Nitrationen
enthält.
0,05 bis 2 g/l m-Nitrobenzolsulfonationen,
0,01 bis 10 g/l Hydroxylamin in freier oder gebundener Form,
0,05 bis 2 g/l m-Nitrobenzoationen,
0,05 bis 2 g/l p-Nitrophenol,
1 bis 70 mg/l Wasserstoffperoxid in freier oder gebundener Form,
0,05 bis 10 g/l organische N-Oxide
0,1 bis 3 g/l Nitroguanidin
1 bis 500 mg/l Nitritionen
0,5 bis 5 g/l Chlorationen
0,1 bis 10 g/l Nitrationen
enthält.
Dabei ist es besonders vorteilhaft, wenn die Nachpassivierungslösung denselben
oder dieselben Phosphatierbeschleuniger enthält wie die zur Herstellung der
phosphatierten Metalloberfläche verwendete Phosphatierlösung. Dabei sind
Beschleuniger bevorzugt, durch die keine anderen Anionen als Phosphationen in
die Nachpassivierungslösung gelangen. Vorzugsweise sind dies H2O2 oder
Hydroxylamin. Bei der vorstehend beschriebenen Aufarbeitung von Spülwasser
durch Umkehrosmose oder Nanofiltration und Rückführung des Konzentrats in das
Phosphatierbad gelangen dann nur solche Substanzen in die Phosphatierlösung,
die für deren Funktionsfähigkeit vorgesehen sind: Nickelionen, Phosphationen und
Moleküle bzw. Ionen des Beschleunigers. Bei der beschriebenen Spülwasser-
Aufarbeitung gelangen demnach lediglich Wertstoffe, aber keine Fremdstoffe in
die Phosphatierlösung.
Eine besonders bevorzugte Ausführungsform der Erfindung besteht dann darin,
daß die Nachpassivierungslösung und die Phosphatierlösung als Beschleuniger
Hydroxylamin in freier Form oder in Form von Hydroxylammoniumphosphaten
enthalten.
Das erfindungsgemäße Verfahren der Nachpassivierung wurde an vorphos
phatiertem Bandmaterial (elektrolytisch verzinkter Stahl, Phosphatschichtauflage
1,3 g/m2) überprüft. Hierin wurde entweder mit einer nickelphosphathaltigen
Lösung oder zu Vergleichszwecken mit vollentsalztem Wasser nachgespült.
Die Nachpassivierungslösung kann aus einem Konzentrat hergestellt werden, das
man erhält, indem man 29,4 Gew.-Teile Wasser mit 27,7 Gew.-Teilen
Nickelcarbonat (33 Gew.-% Ni) mit 49,8 Gew.-Teilen 75%iger Phosphorsäure
versetzt.
Die anwendungsfertige Nachpassivierungslösung erhält man, indem man 0,17 bis
5,5, vorzugsweise 0,8 bis 2 Gew.-Teile des Konzentrats mit Wasser
(vorzugsweise vollentsalzt) auf 100 Gew.-Teile auffüllt.
Die Nachpassivierung erfolgte durch Bespritzen des vorphosphatierten
Bandmaterials mit der Nachpassivierungslösung bei 40°C für eine Zeitdauer von
3 Sekunden. Der pH-Wert der Nachpassivierungslösung betrug 4,2.
Nach der Nachpassivierung wurde das Bandmaterial mit vollentsalztem Wasser
nachgespült, getrocknet und nach Zerschneiden in Prüfbleche mit einem
kathodischen Elektrotauchlack lackiert.
Die phosphatierten und nachpassivierten Probebleche sowie die nichtnach
passivierten Vergleichsbleche wurden einem Korrosionstest nach der VW-Norm P-
VW 1200 über 20 Zyklen und einem Steinschlagtest nach VW-Norm VW-P3.17.1
von 1.81 unterzogen. Die Testergebnisse (Lackhaftung) werden als K-Wert
ausgedrückt. Je höher der K-Wert desto stärker platzt der Lack bei diesem Test
ab.
K-Wert ohne Nachpassivierung (Vergleich): K7
K-Wert mit Nachpassivierung (0,8 Gew.-Teile Konzentrat auf 100 Gew.-Teile aufgefüllt): K6
zusätzlich 0,1 g/l Hydroxylamin: K5-6
K-Wert mit Nachpassivierung (1,9 Gew.-Teile Konzentrat auf 100 Gew.-Teile aufgefüllt): K5
zusätzlich 0,1 g/l Hydroxylamin: K4-5.
K-Wert mit Nachpassivierung (0,8 Gew.-Teile Konzentrat auf 100 Gew.-Teile aufgefüllt): K6
zusätzlich 0,1 g/l Hydroxylamin: K5-6
K-Wert mit Nachpassivierung (1,9 Gew.-Teile Konzentrat auf 100 Gew.-Teile aufgefüllt): K5
zusätzlich 0,1 g/l Hydroxylamin: K4-5.
Claims (13)
1. Verfahren zur Nachpassivierung einer phosphatierten Metalloberfläche im
Bandverfahren, dadurch gekennzeichnet, daß man die phosphatierte
Metalloberfläche für eine Zeitdauer von 1 bis 9 Sekunden mit einer wäßrigen
Nachpassivierungslösung behandelt, die 50 bis 5000 mg/l, Nickelionen und 200
bis 15000 mg/l Phosphationen enthält.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die wäßrige
Nachpassivierungslösung einen pH-Wert im Bereich von 3 bis 6 aufweist.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die wäßrige Nachpassivierungslösung eine Temperatur zwischen 10 und 50°C
aufweist.
4. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß es sich bei der phosphatierten Metalloberfläche um eine
Metalloberfläche handelt, die mit einem no-rinse-Phosphatierverfahren
phosphatiert wurde.
5. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß es sich bei der phosphatierten Metalloberfläche um eine
Metalloberfläche handelt, die mit einem schichtbildenden
Zinkphosphatierverfahren phosphatiert wurde.
6. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß man die Nachpassivierungslösung mittels einer Walze
aufträgt.
7. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß man die phosphatierte Metalloberfläche für eine Zeitdauer
im Bereich von 1 Sekunden bis 6 Sekunden mit der wäßrigen
Nachpassivierungslösung in Kontakt bringt und anschließend die
Behandlungslösung abquetscht oder mit Wasser abspült.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß nach der
Nachpassivierung anfallendes Spülwasser in die Nachpassivierungslösung
überführt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß kontinuierlich oder
diskontinuierlich ein Teil der Nachpassivierungslösung einer Nanofiltration oder
einer Umkehrosmose unterzogen wird, wobei man das Retentat der
Nanofiltration oder der Umkehrosmose in die Phosphatierlösung überführt, mit
der die Metalloberfläche vor der Nachpassivierung phosphatiert wird.
10. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß man die
phosphatierte Metalloberfläche vor der Behandlung mit der
Nachpassivierungslösung mit Wasser spült, sie nach der Behandlung mit der
Nachpassivierungslösung erneut mit Wasser spült und daß man Spülwasser
aus der Spülung nach der Nachpassivierung in das Spülwasser für die Spülung
vor der Nachpassivierung überführt.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß ein Teil des
Spülwassers, das zum Spülen zwischen Phosphatierung und Nachpassivierung
verwendet wird, kontinuierlich oder diskontinuierlich einer Nanofiltration oder
einer Umkehrosmose unterzogen wird, wobei man das Retentat (Konzentrat)
der Nanofiltration oder der Umkehrosmose in die Phosphatierlösung überführt,
mit der die Metalloberfläche vor der Nachpassivierung phosphatiert wird.
12. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die Nachpassivierungslösung zusätzlich einen oder
mehrere Phosphatierungsbeschleuniger ausgewählt aus
0,05 bis 2 g/l m-Nitrobenzolsulfonationen,
0,01 bis 10 g/l Hydroxylamin in freier oder gebundener Form,
0,05 bis 2 g/l m-Nitrobenzoationen,
0,05 bis 2 g/l p-Nitrophenol,
1 bis 70 mg/l Wasserstoffperoxid in freier oder gebundener Form,
0,05 bis 10 g/l organische N-Oxide
0,1 bis 3 g/l Nitroguanidin
1 bis 500 mg/l Nitritionen
0,5 bis 5 g/l Chlorationen
0,1 bis 10 g/l Nitrationen
enthält.
0,05 bis 2 g/l m-Nitrobenzolsulfonationen,
0,01 bis 10 g/l Hydroxylamin in freier oder gebundener Form,
0,05 bis 2 g/l m-Nitrobenzoationen,
0,05 bis 2 g/l p-Nitrophenol,
1 bis 70 mg/l Wasserstoffperoxid in freier oder gebundener Form,
0,05 bis 10 g/l organische N-Oxide
0,1 bis 3 g/l Nitroguanidin
1 bis 500 mg/l Nitritionen
0,5 bis 5 g/l Chlorationen
0,1 bis 10 g/l Nitrationen
enthält.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die
Nachpassivierungslösung denselben oder dieselben Phosphatierbeschleuniger
enthält wie die zur Herstellung der phosphatierten Metalloberfläche verwendete
Phosphatierlösung.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2001115244 DE10115244A1 (de) | 2001-03-28 | 2001-03-28 | Nachpassivierung einer phosphatierten Metalloberfläche im Bandverfahren |
PCT/EP2002/002994 WO2002079541A2 (de) | 2001-03-28 | 2002-03-19 | Nachpassivierung einer phosphatierten metalloberfläche im bandverfahren |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2001115244 DE10115244A1 (de) | 2001-03-28 | 2001-03-28 | Nachpassivierung einer phosphatierten Metalloberfläche im Bandverfahren |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10115244A1 true DE10115244A1 (de) | 2002-10-02 |
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ID=7679357
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2001115244 Withdrawn DE10115244A1 (de) | 2001-03-28 | 2001-03-28 | Nachpassivierung einer phosphatierten Metalloberfläche im Bandverfahren |
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Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE10115244A1 (de) |
WO (1) | WO2002079541A2 (de) |
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2001
- 2001-03-28 DE DE2001115244 patent/DE10115244A1/de not_active Withdrawn
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2002
- 2002-03-19 WO PCT/EP2002/002994 patent/WO2002079541A2/de not_active Application Discontinuation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2002079541A2 (de) | 2002-10-10 |
WO2002079541A3 (de) | 2003-12-31 |
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