DE10110789C1 - Kochgerät mit einer nicht planaren, mehrdimensional geformten Kochfläche aus Glas- oder Glaskeramik - Google Patents
Kochgerät mit einer nicht planaren, mehrdimensional geformten Kochfläche aus Glas- oder GlaskeramikInfo
- Publication number
- DE10110789C1 DE10110789C1 DE2001110789 DE10110789A DE10110789C1 DE 10110789 C1 DE10110789 C1 DE 10110789C1 DE 2001110789 DE2001110789 DE 2001110789 DE 10110789 A DE10110789 A DE 10110789A DE 10110789 C1 DE10110789 C1 DE 10110789C1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- cooking
- cooking appliance
- appliance according
- outside
- heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/68—Heating arrangements specially adapted for cooking plates or analogous hot-plates
- H05B3/74—Non-metallic plates, e.g. vitroceramic, ceramic or glassceramic hobs, also including power or control circuits
- H05B3/748—Resistive heating elements, i.e. heating elements exposed to the air, e.g. coil wire heater
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A47—FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
- A47J—KITCHEN EQUIPMENT; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; APPARATUS FOR MAKING BEVERAGES
- A47J27/00—Cooking-vessels
- A47J27/004—Cooking-vessels with integral electrical heating means
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A47—FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
- A47J—KITCHEN EQUIPMENT; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; APPARATUS FOR MAKING BEVERAGES
- A47J36/00—Parts, details or accessories of cooking-vessels
- A47J36/02—Selection of specific materials, e.g. heavy bottoms with copper inlay or with insulating inlay
- A47J36/04—Selection of specific materials, e.g. heavy bottoms with copper inlay or with insulating inlay the materials being non-metallic
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
- Baking, Grill, Roasting (AREA)
- Cookers (AREA)
- Control Of Resistance Heating (AREA)
Abstract
Auf der Innenseite derartiger Kochflächen werden direkt oder indirekt die Speisen zubereitet. Auf der Außenseite der Kochflächen ist eine Heizeinrichtung zum Erwärmen der Speisen angeordnet, die typischerweise durch einen flachen Strahlungsheizkörper gebildet ist. Um den Wärmeeintrag über die geformte Kochfläche zu optimieren, ist gemäß der Erfindung vorgesehen, daß die Heizeinrichtung aus einer elektrischen Widerstandsheizung besteht, die im direkten Kontakt mit der Kochfläche aus Glas- oder Glaskeramik auf deren Außenseite aufgebracht ist. DOLLAR A Diese Widerstandsheizung kann aus einer Flächenheizung (4) oder aus gewundenen Leiterbahnen bestehen.
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Kochgerät mit einer nicht planaren,
mehrdimensional geformten Kochfläche aus Glas- oder Glaskeramik, auf deren
Innenseite Speisen zubereitet werden, und der auf ihrer Außenseite eine
Heizeinrichtung zum Erwärmen der Speisen zugeordnet ist.
Kochgeräte mit einer Kochfläche aus sprödbrüchigem Material bestehen
typischerweise aus einer ebenen Kochplatte aus Glas, oder Keramik oder
Glaskeramik, auf dessen Oberseite die Kochgefäße aufgestellt werden, und die
Kochzonen aufweist, die von unten mit ebenen Heizkörpern beheizt werden.
Als Kochplatten-Materialien werden in bekannter Weise (EP 0 853 444 A2,
DE 198 35 378 A1) oxidische und nicht oxidische Keramiken, wie z. B. Si3N4
oder SIC, vor allem aber in notorisch bekannter Weise Glas oder
Glaskeramiken mit niedriger Wärmedehnung verwendet, vorzugsweise
Glaskeramik-Kochplatten, die unter der Marke CERAN® bekannt sind. Diese
Glas- oder Glaskeramik-Kochplatten werden von unten mit ebenen
Strahlungsheizkörpern beheizt. Die Strahlungsheizkörper werden
typischerweise elektrisch beheizt; sie können auch als Gasstrahlungsbrenner
ausgebildet sein.
Inzwischen sind Verfahren bekannt geworden, die es ermöglichen,
Glaskeramikplatten dreidimensional zu verformen. Mittels dieser Verfahren
lassen sich daher auch Kochplatten aus Glaskeramik zu einer dreidimensionalen,
muldenartigen Kochfläche, die in ihrer Gesamtheit als Kochzone wirkt, d. h. in
denen die Speisen flächig zubereitet werden, umformen. Rinnenförmige Systeme,
wie sie unter der Marke Cook-In®, und halbkugelförmige Systeme, wie sie unter
der Marke CERAN® Wok sowie aus der DE 199 06 520 A1 bekannt geworden
sind, gehören daher zum Stand der Technik. Dabei können die Speisen direkt auf
der Innenseite der Kochmulde zubereitet werden. Bei Woksystemen ist jedoch,
wie in der vorgenannten DE beschrieben, derzeit üblich, ein metallisches Wok-
Geschirr zur direkten Sepeisezubereitung zu verwenden, das in einer
halbkugelförmigen Vertiefung der Glaskeramikfläche ruht.
Diese Kochsysteme werden ebenfalls mittels ebenen Strahlungsheizkörpern
beheizt, die sich in einem bestimmten Abstand unterhalb der zu beheizenden
Kochfläche befinden. Der Wärmeübertrag erfolgt dabei über Strahlung und
Wärmeleitung.
Ebene Strahlungsheizkörper unterhalb von muldenförmigen Kochsystemen
arbeiten jedoch wesentlich weniger effizient als bei planen Kochplatten, da der
Abstand zum Gargut im Mittel größer ist. Um die gleiche Ankochleistung zu
erzielen, müssen daher die Heizungen mit höherer Leistung und bei höheren
Temperaturen betrieben werden, wodurch die Effizienz sinkt. Dies gilt im
besonderen Maße für die halbkugelförmigen Wok-Kochsysteme, bei denen zum
Durchführen eines sinnvollen Betriebes eine sehr schnelle Ankochzeit einen sehr
hohen Stellenwert hat. In einem Wok werden beispielsweise kurz gebratene
Speisen zubereitet, was mit langen Ankochzeiten nicht möglich ist. Die
Funktionalität eines solchen Wok-Kochsystems wird mit einer langsamen
Beheizung daher insgesamt in Frage gestellt. Um die Beheizung dreidimensional
geformter Kochsysteme insoweit zu verbessern, müßte für jeden Muldenkörper
eine geometrisch an die Muldenform angepaßte Heizung konstruiert werden, was
die Kosten bei oftmals geringeren Stückzahlen erheblich erhöhen und damit das
Kochgerät unwirtschaftlich machen würde.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das eingangs bezeichnete Kochgerät
mit einer nicht planaren, mehrdimensional geformten Kochfläche aus Glas-
oder Glaskeramik, auf deren Innenseite Speisen zubereitet werden, und der auf
der Außenseite eine Heizeinrichtung zum Erwärmen der Speisen zugeordnet
ist, hinsichtlich der Heizeinrichtung so auszubilden, daß es effizienter
betreibbar ist. Die Heizeinrichtung soll dabei kostengünstig hergestellt und
einfach installiert werden können. Weiterhin soll sie dem spezifischen
Einsatzzweck des Kochgerätes entsprechend, bezüglich Wärmeverteilung und
Regelbarkeit einfach angepaßt werden können.
Die Lösung dieser Aufgabe gelingt gemäß der Erfindung dadurch, daß die
Heizeinrichtung aus einer elektrischen Widerstandsheizung besteht, die im
direkten Kontakt mit der Kochfläche aus Glas- oder Glaskeramik auf deren
Außenseite aufgebracht ist.
Die erfindungsgemäße Heizeinrichtung besteht somit nicht mehr aus den
konventionellen Stahlungsheizkörpern. Die Beheizung erfolgt vielmehr in
direktem Kontakt zur Kochmulde aus Glaskeramik oder Glas.
Durch den festen Verbund von Kochfläche und Beheizung erhöht sich die
Effizienz; das Regelverhalten wird wesentlich flinker und die Ankochzeit wird
verkürzt. Dadurch wird die Funktionalität des gesamten Kochsystems
verbessert.
Bei der direkten Beheizung wirken sich auch die geringen Material- und
Prozeßkosten der Heizkomponente günstig auf die Rentabilität des Produkts
aus. Ein sehr gleichmäßiger Wärmeeintrag über die gesamte Heizzone ist
weiterer wesentlicher Vorteil der erfindungsgemäßen Beheizung.
Da die Widerstandsheizung eine beliebig große, in ihrer Geometrie ein beliebig
geformtes Gebiet der Kochfläche bedeckende Struktur haben kann, ist ein
unterschiedlicher Wärmeeintrag über die Kochfläche möglich.
Die elektrische Widerstandsheizung kann auf verschiedene Art und Wiese
realisiert werden.
Das Kochgerät läßt sich gemäß einer Weiterbildung der Erfindung in besonders
einfacher Weise ausgestalten, wenn die Widerstandsheizung durch mindestens
eine leitfähige Schicht aus einem Widerstandsmaterial mit positivem
Temperaturkoeffizienten gebildet ist, die einschließlich der zugehörigen
Anschlußelektroden auf der Außenseite der Kochfläche aufgebracht ist.
Die leitfähige Schicht, d. h. der Heißleiter, kann dabei auf unterschiedliche Art
und Weise strukturiert werden.
Gemäß einer ersten Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß die
Schicht, als Flächenheizung ausgebildet, flächig die Außenseite der Kochfläche
bedeckt und aus einer dünnen Schicht aus Zinnoxid besteht, mit
Anschlußelektroden aus metallischen Dickschichten.
Derartige Dünnschicht-Heizelemente aus Zinnoixid (SnO2), aufgetragen auf
Glassubstrate, sind an sich bekannt (WO 00/18189). Sie können auf einfache
Weise durch Sputtern, Tauchen oder durch CVD-Verfahren (Chemical Vapor
Deposition) aufgebracht werden. Die die Elektroden bildenden metallischen
Dickschichten werden vorzugsweise aufgedruckt. Die Elektroden werden dabei
vorzugsweise so angeordnet, daß sich eine gleichmäßig Feldverteilung und
damit eine gleichmäßige Erwärmung einstellt, wenn dies das betreffende
Kochgerät typischerweise verlangt.
Eine Beheizungsmöglichkeit, mit der die Wärmeverteilung gezielt eingestellt
werden kann, läßt sich durch eine Ausgestaltung des Kochgerätes erzielen, bei
der die Schicht durch Leiterbahnen gebildet ist, die in vorgegebener
geometrischer Struktur einschließlich der zugehörigen Anschlußelektroden auf
der Außenseite der Kochfläche aufgebracht sind, wobei an den Enden der
Leiterbahnen sich Kontaktierungsflächen befinden.
Durch die Leiterbahnstruktur ist der Wärmeeintrag lokal sehr genau
begrenzbar, was bei bestimmten Formen von Kochmulden von großem Vorteil
sein kann.
Bei dieser Ausgestaltung mit Leiterbahnen sind diese vorzugsweise als
Dickschichtleiterbahnen aus leitfähigen Pasten mit hohen metallischen Anteilen,
beispielsweise aus silberhaltigen Legierungen, ausgebildet. Das Beschichten
von ebenen Kochflächen auf deren Unterseite mit vorgenannten Heißleitern ist
ebenfalls an sich bekannt (EP 0 069 298 A1, EP 0 861 014 A1).
Vorzugsweise werden dabei die Leiterbahnen im Wege des Siebdruckes
aufgebracht. Die Leiterbahnen können auch durch Verfahren wie Drahtspritzen
direkt als metallischer Leiter abgeschieden werden.
Zur Erzielung der geometrischen Strukturen ist eine entsprechende Maskierung
der Unterseite der Kochfläche zur Ausarbeitung des Leiterlayouts erforderlich.
Das Layout kann dabei nahezu beliebig auf ausgewählte Bereiche der
Kochzone gelegt werden.
Besondere Vorteile, insbesondere bei rinnenförmigen Kochmulden, werden
dabei erzielt, wenn die Leiterbahnen in mäanderförmigen Strukturen
aufgebracht sind.
Zur gezielteren Feineinstellung der Wärmeverteilung in der
Leiterbahnenstruktur ist diese so ausgebildet, daß die Leiterbahnen in
vorgegebenen Abschnitten unterschiedliche Breiten und/oder Dicken aufweisen.
Dadurch ist es beispielsweise bei rinnenförmigen Kochflächen mit
mäanderförmiger Leiterbahnstruktur möglich, jeweils an der tiefsten Stelle
einen schmalen Leiterbahnabschnitt auszubilden, um dort für den größen
Wärmeeintrag zu sorgen.
Besondere Vorteile werden gemäß einer Weiterbildung der Erfindung erzielt,
wenn die leitfähige Schicht in getrennt voneinander betreibbare Heizkreise
segmentiert ist.
Gekoppelt mit einer Variation der einzelnen Segment-Heizleistungen lassen
sich so unterschiedliche Bereiche der Kochzone lokal mit unterschiedlichem
Wärmeeintrag versehen und getrennt voneinander regeln.
Der elektrische Widerstand von Glaskeramik besitzt NTC-Charakteristik, d. h.
bei ansteigenden Temperaturen nimmt die elektrische Leitfähigkeit merklich
zu. Um einen Stromfluß zwischen einem metallischem Topf bzw. der
Glaskeramik-Oberfläche und Heizleiter zu unterbinden, ist eine elektrische
Isolierung zum Betrieb eines solchen Kochsystems Voraussetzung. Dazu wird
gemäß einer Ausgestaltung der Erfindung eine Isolationsschicht zwischen der
Unterseite der Kochfläche und der Widerstandsheizung aufgebracht. Diese
Isolationsschicht kann aus einem keramischen Material wie SiO2 entsprechend
der WO 00/19774 oder Al2O3, bzw. ZrO2 entsprechend der FR 27 44 116
bestehen. Weiterhin können Emailschichten entsprechend der EP 0 222 162 B1,
DE 198 45 102 A1, und EP 0 381 792 verwendet werden.
Mögliche Verfahren zum Auftrag der Isolationsschichten sind Sol-Gel-
Verfahren, Abscheidung aus der Gasphase (CVD, PVD Methoden), Sputtern,
und thermische Spritzverfahren wie Flamm- oder Plasmaspritzen.
Anhand von in den Zeichnungen dargestellten Ausführungsbeispielen wird die
Erfindung näher beschrieben.
Es zeigen:
Fig. 1 in einer perspektivischen Darstellung ein Kochgerät mit einer
wok-artigen Kochfläche und einer flächigen
Widerstandsbeheizung durch eine auf der Außenseite der
Kochfläche aufgebrachte dünne Leiterschicht,
Fig. 2 eine Querschnittsansicht durch das Kochgerät nach Fig. 1,
Fig. 3 ein Kochgerät entsprechend Fig. 1, jedoch mit zwei getrennt
ansteuerbaren Flächen-Heizkreisen,
Fig. 4 in einer perspektivischen Darstellung ein Wok-Kochgerät nach
Fig. 1, jedoch mit einer Widerstandsbeheizung durch eine
Leiterbahn, die heizschlangenförmig um die Wok-Mulde
aufgebracht ist,
Fig. 5 ein Kochgerät analog Fig. 4, jedoch mit zwei getrennten
Heizkreisen, und
Fig. 6 in einer schematischen Darstellung ein Kochgerät mit einer
rinnenförmigen Kochmulde und mäanderförmig angebrachten
Leiterbahnen.
In den Fig. 1 und 2 ist ein erstes Ausführungsbeispiel der Erfindung in
zwei verschiedenen Ansichten dargestellt. Im Ausführungsbeispiel ist eine
halbkugelartige Kochmulde 1 aus Glaskeramik in Gestalt eines Wok-Gefäßes
als Kochfläche ausgeformt, in der sich ein Gargut 2 befindet. Bevor die
erfindungsgemäße Widerstandsheizung auf die genoppte Außenseite der
Kochmulde 1 aufgebracht wird, wird auf diese Außenseite eine Maske aus
Metall aufgebracht, die eine Wandstärke von ca. 2 mm besitzt. Mittels des
Verfahrens des atmosphärischen Plasmaspritzens wird eine isolierende Schicht
3 aus beispielsweise Al2O3 aufgebracht. Die Schichtdicke wird so gewählt, daß
eine Spannungsfestigkeit von etwa 3750 V besteht. Diese Schicht 3 gewährleistet
eine elektrische Isolierung zwischen der Glaskeramik-Kochfläche, die bei höheren
Temperaturen elektrisch leitfähig wird, und der elektrischen Widerstandsheizung,
die nunmehr erläutert wird.
Bei der Ausführung nach den Fig. 1 und 2 wird auf die unterseitige
Isolierschicht 3 vollflächig eine Flächenbeheizung in Form einer dünnen,
leitfähigen Schicht 4, beispielsweise aus Zinnoxid (SnO2), aufgetragen. Dieses
Auftragen erfolgt vorzugsweise mittels eines CVD-Verfahrens, jedoch sind auch
andere Methoden zum Erzeugen dünner Schichten anwendbar. Mittels Siebdruck
oder Spritzverfahren wird danach im Zentrum der Kochmulde bzw. am Rand der
Leiterschicht 4 umlaufend eine Elektrodenschicht 5 bzw. 6 aus beispielsweise
Silber aufgebracht. Die Elektroden werden durch angedrückte Federn 7 bzw. 8
mit Lastleitungen 9 bzw. 10, die ihrerseits mit einer Stromquelle 11 verbunden
sind, kontaktiert.
Durch die dargestellte Elektrodenanordnung ist eine gleichmäßige radiale
Feldverteilung und damit auch eine gleichmäßige Erwärmung gewährleistet.
Bei der Ausführung der Flächenheizung nach den Fig. 1 und 2 ist die gesamte
Fläche als ein einziger Heizkreis ausgebildet. Die Fig. 3 zeigt eine
Ausführungsform analog derjenigen nach den Fig. 1, 2, bei der jedoch die
Flächenheizung segmentiert ist, d. h. zwei getrennte Heizkreise durch zwei
voneinander getrennte dünne Widerstandsschichten 4a und 4b umlaufend
vorgesehen sind. Zum Anschluß der beiden Heizkreise ist zusätzlich zu den
Elektrodenschichten 5, 6 eine mittlere Ringelektrode 12, sozusagen ein
Mittelabgriff, vorgesehen, die über eine mittlere Lastleitung 13 an einen Verteiler
14 der Stromversorgung geführt ist.
Wird Spannung an die Pole a) und b) des Verteilers 14 aufgeschaltet, wird der
obere Heizkreis, d. h. das Schichtsegment 4a aktiviert, und wird Spannung auf
die Pole b) und c) aufgeschaltet, dann wird der untere Heizkreis, d. h. das
Schichtsegment 4b aktiviert.
Durch Variation der Schichtstärke und/oder der Materialzusammensetzung in den
beiden Heizkreisen kann der Energieeintrag unterschiedlich gestaltet werden.
Wird der Bodenbereich der Wok-Mulde 1 beispielsweise mit einer Schicht 4b
geringeren Widerstandes versehen, so kann hier die Wärme separat mit größerer
Stärke eingetragen werden, wie es gerade beim Wok-Kochen erwünscht ist.
Anstelle einer Flächenheizung nach den Fig. 1 bis 3 kann die Wok-Kochmulde
1 auch durch Widerstands-Leiterbahnen mit vorgegebener geometrischer Struktur
beheizt werden.
Eine derartige zweite Ausführungsform ist in den Fig. 4 und 5 schematisch
dargestellt. Auf die Unterseite der Kochmulde bzw. die darauf aufgebrachte
Isolierschicht ist jeweils eine metallische Leiterbahn 15 heizschlangenförmig
aufgebracht, wobei in Fig. 4 nur ein unsegmentierter Heizkreis entsprechend der
Ausführung nach den Fig. 1, 2, und in Fig. 5 zwei getrennt betreibbare
Heizkreise 15a, 15b analog der Ausführung nach Fig. 3 vorgesehen sind.
Der Auftrag der Leiterbahnen 15 erfolgt vorzugsweise über Silberleitpasten
mittels Siebdruck und nachfolgendem Einbrand bei 500°C-600°C, oder durch
Maskierung und direktes CNC-unterstütztes Drahtspritzen eines Metalles oder
einer Legierung, wie z. B. NiCR. Die Leiterbahnenden laufen dabei deltaförmig
aus und werden durch Federkontakte mit den Lastleitungen 9, 10 bzw. 13
kontaktiert.
Die Leiterbahnen 15 können mit unterschiedlicher Bahndichte aufgebracht
werden. So kann z. B. gemäß der Darstellung in Fig. 4 mit einer hohen
Leiterbahndichte mit vielen Windungen der Boden der Kochmulde mit
größeren Wärmemengen versorgt werden, als der Rand.
Dieser ungleiche Wärmeeintrag kann auch durch eine Variation der
Leiterbahnbreite erzielt werden.
Bei der Ausführung nach Fig. 5 ist das Leiterbahnarray in zwei Heizkreise
15a, 15b aufgeteilt, wobei die Leiterbahndichte (Abstand und Breite) bei
beiden Segmenten gleich ist. Der untere Heizkreis 15b hat durch eine
anteilmäßig geringere Leiterbahnlänge (wegen des geringeren Umfanges am
Boden) einen kleineren Widerstand und damit eine höhere Leistung als der
obere Heizkreis 15a. Beim Parallelbetrieb beider Kreise wird die gesamte
Kochzone flächig sehr gleichmäßig aber mit unterschiedlichem Wärmeeintrag
beheizt.
Auch hierbei sind Variationen des Wärmeeintrages über unterschiedliche
Leiterbahnbreiten und/oder unterschiedliches Widerstandsmaterial in beiden
Heizkreisen möglich.
In Fig. 6 ist eine Ausführung der Erfindung in Verbindung mit einer
rinnenförmigen Kochmulde 16 dargestellt. Die Heizleiter in Form von
Leiterbahnen 17 sind beispielsweise mäanderförmig aufgebracht. Auch bei
dieser Ausführung ist ein unterschiedlicher Wärmeeintrag über den
Rinnenumfang möglich, z. B. über eine ungleiche Breite der Leiterbahn 17.
Eine Verringerung der Leiterbahnbreite in der Mitte, d. h. an der tiefsten Stelle
der Mulde, bewirkt eine Verringerung des Widerstandes. Der Boden erhitzt
sich so stärker.
Claims (13)
1. Kochgerät mit einer nicht planaren, mehrdimensional geformten
Kochfläche aus Glas- oder Glaskeramik, auf deren Innenseite Speisen
zubereitet werden, und der auf ihrer Außenseite eine Heizeinrichtung
zum Erwärmen der Speisen zugeordnet ist, dadurch gekennzeichnet,
daß die Heizeinrichtung aus einer elektrischen Widerstandsheizung
besteht, die im direkten Kontakt mit der Kochfläche aus Glas- oder
Glaskeramik auf deren Außenseite aufgebracht ist.
2. Kochgerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Widerstandsheizung durch mindestens eine leitfähige Schicht (4, 15, 17)
aus einem Widerstandsmaterial mit positivem Temperaturkoeffizienten
gebildet ist, die einschließlich der zugehörigen Anschlußelektroden (5,
6, 12) auf der Außenseite der Kochfläche aufgebracht ist.
3. Kochgerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht,
als Flächenheizung ausgebildet, flächig die Außenseite der Kochfläche
bedeckt und aus einer dünnen Schicht (4) aus Zinnoxid besteht, mit
Anschlußelektroden (5, 6, 12) aus metallischen Dickschichten.
4. Kochgerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht
durch Leiterbahnen (15, 17) gebildet ist, die in vorgegebener
geometrischer Struktur einschließlich der zugehörigen
Anschlußelektroden auf der Außenseite der Kochfläche aufgebracht
sind.
5. Kochgerät nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die
Leiterbahnen als Dickschichtleiterbahnen aus leitfähigen Pasten mit
hohen metallischen Anteilen ausgebildet sind
6. Kochgerät nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die leitfähigen
Pasten aus einer silberhaltigen Legierung bestehen.
7. Kochgerät nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet,
daß die Leiterbahnen im Wege des Siebdruckes aufgebracht sind.
8. Kochgerät nach einem der Ansprüche 4 bis 7, dadurch gekennzeichnet,
daß die Leiterbahnen (17) in mäanderförmigen Strukturen aufgebracht
sind.
9. Kochgerät nach einem der Ansprüche 4 bis 8, dadurch gekennzeichnet,
daß die Leiterbahnen in vorgegebenen Abschnitten unterschiedliche Breiten
und/oder Dicken aufweisen.
10. Kochgerät nach einem der Ansprüche 2 bis 9, dadurch gekennzeichnet,
daß die leitfähige Schicht in getrennt voneinander betreibbare Heizkreise
(4a, 4b; 15a, 15b) segmentiert ist.
11. Kochgerät nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet,
daß zwischen der Unterseite der Kochfläche und der elektrischen
Widerstandsheizung eine Isolationsschicht (3) aufgebracht ist.
12. Kochgerät nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die
Isolationsschicht (3) aus einem keramischen Material besteht.
13. Kochgerät nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die
Isolationsschicht (3) aus einer Emailschicht besteht.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2001110789 DE10110789C1 (de) | 2001-03-06 | 2001-03-06 | Kochgerät mit einer nicht planaren, mehrdimensional geformten Kochfläche aus Glas- oder Glaskeramik |
CNA028061837A CN1496233A (zh) | 2001-03-06 | 2002-01-23 | 具有由玻璃或玻璃陶瓷制成的非平面多维形状的烹饪面的灶具 |
PCT/EP2002/000623 WO2002069768A1 (de) | 2001-03-06 | 2002-01-23 | Kochgerät mit einer nicht planaren, mehrdimensional geformten kochfläche aus glas- oder glaskeramik |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2001110789 DE10110789C1 (de) | 2001-03-06 | 2001-03-06 | Kochgerät mit einer nicht planaren, mehrdimensional geformten Kochfläche aus Glas- oder Glaskeramik |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10110789C1 true DE10110789C1 (de) | 2002-07-04 |
Family
ID=7676504
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2001110789 Expired - Fee Related DE10110789C1 (de) | 2001-03-06 | 2001-03-06 | Kochgerät mit einer nicht planaren, mehrdimensional geformten Kochfläche aus Glas- oder Glaskeramik |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN1496233A (de) |
DE (1) | DE10110789C1 (de) |
WO (1) | WO2002069768A1 (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10347222A1 (de) * | 2003-09-16 | 2005-04-21 | Rational Ag | Heizelement für ein Gargerät |
CN103011801A (zh) * | 2011-09-21 | 2013-04-03 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种ato基ptc材料的制备方法 |
EP1702499B1 (de) | 2004-01-06 | 2016-06-22 | Watlow Electric Manufacturing Company | Kombinierte beschichtungstechnologie von materialen für elektrischen heizkörper |
DE102009042011B4 (de) * | 2009-09-21 | 2017-10-19 | Axel R. Hidde | Gargefäß und Gargefäß-Systembaukasten |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2909372B1 (fr) * | 2006-12-05 | 2012-10-19 | Snc Eurokera | Procede de fabrication de produits non plans en vitroceramique |
US8716629B2 (en) * | 2009-04-06 | 2014-05-06 | Koninklijke Philips N.V. | Temperature sensor for body temperature measurement |
TWI555490B (zh) * | 2012-03-26 | 2016-11-01 | 劉忠男 | 高頻電加熱廚具 |
US11666170B2 (en) * | 2019-02-08 | 2023-06-06 | Lexmark International, Inc. | Cooking device having a cooking vessel and a ceramic heater |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0069298A1 (de) * | 1981-07-08 | 1983-01-12 | E.G.O. Elektro-Geräte Blanc u. Fischer | Kochplatte |
EP0222162B1 (de) * | 1985-10-11 | 1989-11-15 | Bayer Ag | Flächenheizelemente |
EP0381792A1 (de) * | 1987-08-26 | 1990-08-16 | E.G.O. Elektro-Geräte Blanc und Fischer GmbH & Co. KG | Kochgerät |
FR2744116A1 (fr) * | 1996-01-31 | 1997-08-01 | Eurokera | Substrat destine a equiper un dispositif de cuisson et/ou de maintien en temperature |
EP0853444A2 (de) * | 1997-01-10 | 1998-07-15 | E.G.O. ELEKTRO-GERÄTEBAU GmbH | Kochsystem mit einer Kontaktwärme übertragenden Elektro-Kochplatte |
EP0861014A1 (de) * | 1997-02-14 | 1998-08-26 | Christian Lizen | Glaskeramische Heizplatte, insbesondere Kochplatte und Herstellugnsmethode dergleichen |
DE19835378A1 (de) * | 1998-08-05 | 2000-02-10 | Ako Werke Gmbh & Co | Beheizbares Flächenelement |
WO2000018189A1 (en) * | 1998-09-18 | 2000-03-30 | Email Limited | Thin film heating element |
WO2000019774A1 (de) * | 1998-09-30 | 2000-04-06 | BSH Bosch und Siemens Hausgeräte GmbH | Kontaktwärmeübertragendes elektrisches kochsystem |
DE19906520A1 (de) * | 1999-02-17 | 2000-08-31 | Schott Glas | Kochgeschirr, ausgebildet als gekrümmt geformte Schale mit zugehörigem Deckel und Verfahren zu deren Herstellung |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3505498A (en) * | 1968-07-23 | 1970-04-07 | Minnesota Mining & Mfg | Cooking utensil with integral dielectric layer and electrical heating element |
CH663143A5 (fr) * | 1985-07-19 | 1987-11-30 | Marc Terraillon | Plat isothermique chauffant lavable. |
DE8902013U1 (de) * | 1989-02-21 | 1990-03-22 | Holtkamp, Manfred, 4543 Lienen, De | |
EP0917847A1 (de) * | 1997-11-19 | 1999-05-26 | Therma Grossküchen Produktion AG | Wok-Pfanne |
-
2001
- 2001-03-06 DE DE2001110789 patent/DE10110789C1/de not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-01-23 WO PCT/EP2002/000623 patent/WO2002069768A1/de not_active Application Discontinuation
- 2002-01-23 CN CNA028061837A patent/CN1496233A/zh active Pending
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0069298A1 (de) * | 1981-07-08 | 1983-01-12 | E.G.O. Elektro-Geräte Blanc u. Fischer | Kochplatte |
EP0222162B1 (de) * | 1985-10-11 | 1989-11-15 | Bayer Ag | Flächenheizelemente |
EP0381792A1 (de) * | 1987-08-26 | 1990-08-16 | E.G.O. Elektro-Geräte Blanc und Fischer GmbH & Co. KG | Kochgerät |
FR2744116A1 (fr) * | 1996-01-31 | 1997-08-01 | Eurokera | Substrat destine a equiper un dispositif de cuisson et/ou de maintien en temperature |
EP0853444A2 (de) * | 1997-01-10 | 1998-07-15 | E.G.O. ELEKTRO-GERÄTEBAU GmbH | Kochsystem mit einer Kontaktwärme übertragenden Elektro-Kochplatte |
EP0861014A1 (de) * | 1997-02-14 | 1998-08-26 | Christian Lizen | Glaskeramische Heizplatte, insbesondere Kochplatte und Herstellugnsmethode dergleichen |
DE19835378A1 (de) * | 1998-08-05 | 2000-02-10 | Ako Werke Gmbh & Co | Beheizbares Flächenelement |
WO2000018189A1 (en) * | 1998-09-18 | 2000-03-30 | Email Limited | Thin film heating element |
WO2000019774A1 (de) * | 1998-09-30 | 2000-04-06 | BSH Bosch und Siemens Hausgeräte GmbH | Kontaktwärmeübertragendes elektrisches kochsystem |
DE19845102A1 (de) * | 1998-09-30 | 2000-04-06 | Bsh Bosch Siemens Hausgeraete | Kontaktwärmeübertragendes elektrisches Kochsystem |
DE19906520A1 (de) * | 1999-02-17 | 2000-08-31 | Schott Glas | Kochgeschirr, ausgebildet als gekrümmt geformte Schale mit zugehörigem Deckel und Verfahren zu deren Herstellung |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10347222A1 (de) * | 2003-09-16 | 2005-04-21 | Rational Ag | Heizelement für ein Gargerät |
DE10347222B4 (de) * | 2003-09-16 | 2005-09-22 | Rational Ag | Heizelement für Gargeräte |
EP1702499B1 (de) | 2004-01-06 | 2016-06-22 | Watlow Electric Manufacturing Company | Kombinierte beschichtungstechnologie von materialen für elektrischen heizkörper |
EP1702499B2 (de) † | 2004-01-06 | 2019-11-27 | Watlow Electric Manufacturing Company | Kombinierte beschichtungstechnologie von materialen für elektrischen heizkörper |
DE102009042011B4 (de) * | 2009-09-21 | 2017-10-19 | Axel R. Hidde | Gargefäß und Gargefäß-Systembaukasten |
CN103011801A (zh) * | 2011-09-21 | 2013-04-03 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种ato基ptc材料的制备方法 |
CN103011801B (zh) * | 2011-09-21 | 2014-09-17 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种ato基ptc材料的制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2002069768A1 (de) | 2002-09-12 |
CN1496233A (zh) | 2004-05-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0229928B1 (de) | Heizelement für thermische Hausgeräte, insbesondere für Kochstellen | |
AT398874B (de) | Elektrische strahlungsheizeinrichtung für kochgeräte mit ebener kochfläche | |
DE69834550T2 (de) | Tauchheizkörper | |
DE69830980T2 (de) | Zirkuläres Schichtsheizelement und Kochherd aus Porzellan-Email | |
DE2518949A1 (de) | Glaskeramik-kochfeld mit filmheizelement | |
DE3545454A1 (de) | Heizelement fuer thermische hausgeraete, insb. fuer kochstellen | |
EP0993233B1 (de) | Induktor für ein Induktions-Kochfeld | |
EP0254070B1 (de) | Elektro-Bauelement | |
DE10110789C1 (de) | Kochgerät mit einer nicht planaren, mehrdimensional geformten Kochfläche aus Glas- oder Glaskeramik | |
EP0230555A2 (de) | Kochstellenheizelement | |
EP1671520A2 (de) | Heizelement für gargeräte | |
EP1368994B1 (de) | Keramisches kochfeld mit einer glaskeramikplatte | |
DE69830984T2 (de) | Dünnschichtheizanordnung | |
EP3331319A1 (de) | Kochgerät mit einer kochplatte und einer heizeinrichtung darunter | |
EP0866641A2 (de) | Elektrokochplatte | |
DE102005056501A1 (de) | Flaches Induktionskochsystem | |
EP1516516B1 (de) | Kochsystem mit direkt beheizter glaskeramikplatte | |
DE3545445A1 (de) | Heizelement insb. fuer kochstellen | |
EP3329737B1 (de) | Verbinden thermisch aufgespritzter schichtstrukturen von heizeinrichtungen | |
DE10110792B4 (de) | Keramisches Kochsystem mit Glaskeramikplatte,Isolationsschicht und Heizelementen | |
DE102005054611B4 (de) | Verfahren zur Herstellung mäanderförmiger Widerstandsschichten von elektrisch beheizbaren Spiegelgläsern | |
EP1116416B1 (de) | Kontaktwärmeübertragendes elektrisches kochsystem | |
EP2463589A1 (de) | Induktionskochfeld mit einer Kochplatte und einem unter der Kochplatte angeordneten Induktor | |
DE102018205970A1 (de) | Heizkörper für ein Gargerät und Gargerät | |
DE3601634C2 (de) | Vorrichtung zum Regeln oder Begrenzen der Temperatur von Strahlungs- oder Kontaktheizkörpern |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8100 | Publication of the examined application without publication of unexamined application | ||
D1 | Grant (no unexamined application published) patent law 81 | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: SCHOTT AG, 55122 MAINZ, DE |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |