DE10061369A1 - Kontaktverbindung zwischen zwei Kupfer enthaltenden Kontaktstücken - Google Patents
Kontaktverbindung zwischen zwei Kupfer enthaltenden KontaktstückenInfo
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- H01R4/58—Electrically-conductive connections between two or more conductive members in direct contact, i.e. touching one another; Means for effecting or maintaining such contact; Electrically-conductive connections having two or more spaced connecting locations for conductors and using contact members penetrating insulation characterised by the form or material of the contacting members
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- H01R4/28—Clamped connections, spring connections
- H01R4/30—Clamped connections, spring connections utilising a screw or nut clamping member
- H01R4/304—Clamped connections, spring connections utilising a screw or nut clamping member having means for improving contact
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Abstract
Es wird eine Kontaktverbindung zwischen zwei Kupfer enthaltenden Kontaktstücken (10, 11) beschrieben, die miteinander verpresst werden, wobei eine Silberschicht zur Verbesserung des Übergangswiderstandes in Form einer Silberfolie (13) zwischen den Kontaktstücken (10, 11) vorgesehen ist.
Description
Die Erfindung betrifft eine Kontaktverbindung gemäß dem Oberbegriff des Anspruches
1.
Wenn Kupfer Luft ausgesetzt ist, dann werden die Kupferoberflächen mit mehreren
Atomlagen chemiesorbiertem Sauerstoff belegt. Diese Säuerstofflagen erhöhen den
Kontaktwiderstand. Wenn solche Kupferkontaktstücke miteinander verbunden werden,
dann wird zur Erhöhung der Leitfähigkeit an der Berührungsstelle auf die Kupferkon
taktflächen Silber aufgebracht, welches entweder elektrolytisch aufgebracht wird, ge
sputtert oder aufgedampft wird. Aus der Literaturstelle Z. Metallkunde 53, (1962), H. 5,
S. 321 ff ist bekannt, wie Sauerstoff in Silber eindiffundiert bzw. darin löslich ist. Durch
die Beschichtung mit Silber wird der auf den Kupferkontaktflächen aufliegende Sauer
stoff in das Silber eindringen, d. h. eindiffundieren, wodurch der Übergangswiderstand
zwischen den Kupferkontaktflächen verringert wird.
Die bekannte Methode, Silber auf Kupfer aufzubringen, ist recht kompliziert und auf
wendig.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Kupferkontaktverbindung zu schaffen, die gegenüber
der bekannten Verbindung einfacher herzustellen ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass die Silberschicht durch eine
Silberfolie gebildet ist.
Das Aufbringen einer Silberfolie zwischen den Kupferkontaktstücken ist erheblich einfa
cher auszuführen als das Versilbern durch die bekannten Methoden.
Die Dicke der Folie beträgt in vorteilhafter Weise ca. 0,1 mm, jedoch wäre auch eine
Folie ihm µm-Bereich ausreichend zur Aufnahme des adsorbierten Sauerstoffs der bei
den Kontaktflächen, zwischen die die Folie gelegt wird. Der Sauerstofftransport erfolgt
dabei im Entropiegefälle zwischen adsorbiertem Sauerstoff und der sauerstofffreien Sil
berfolie. Die Diffusion wird durch die klassische Verformung des Silbers bei dem Ver
pressen der beiden Kontaktflächen gegeneinander begünstigt. Lediglich aus Gründen
der besseren Handhabbarkeit wird die Folie mit etwa 0,1 mm Dicke gewählt.
Als besonders vorteilhaft hat sich eine Folie aus reinem Silber herausgestellt.
Anhand der Zeichnung, in der ein Ausführungsbeispiel der Erfindung dargestellt ist,
sollen die Erfindungen sowie weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Verbesserungen
der Erfindung näher erläutert und beschrieben werden.
Es zeigt die einzige Figur eine Schnittansicht durch zwei Kontaktflächen.
Zwei Kontaktstücke 10 und 11 aus Kupfer oder einer geeigneten Kupferlegierung besit
zen Kupferkontaktflächen 12 und 13, die zur Erzielung eines Stromüberganges mittels
einer Schrauben - Muttern - Verbindung 14 fest miteinander verbunden sind. Auf den
Kupferkontaktstücken 11 und 10 befindet sich Luftsauerstoff, der den Übergangeswi
derstand zwischen den beiden Kupferkontaktstücken 10 und 11 verschlechtert. Zur
Verbesserung des Kontaktübergangswiderstandes ist zwischen die beiden Flächen 12
und 13 eine Folie 15 aus Silber eingelegt, die mittels der Schraubenverbindung 14 zwi
schen den Kontaktstücken 10 und 11 verpresst wird, so fest, daß aus der Luft nicht
wieder Sauerstoff eindringen kann. Der auf den Flächen 12 und 13 befindliche Sauer
stoff diffundiert in die Silberfolie 15 hinein, wodurch der Übergangswiderstand reduziert
bzw. verringert wird.
Claims (2)
1. Kontaktverbindung zwischen zwei Kupfer enthaltenden Kontaktstücken, die mitein
ander verpresst werden, und mit einer dazwischen angeordneten Silberschicht zur Ver
besserung des Übergangswiderstandes, dadurch gekennzeichnet, dass die Silber
schicht eine Silberfolie (13) ist.
2. Kontaktverbindung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Silberfolie
eine Dicke von weniger als 0,5 mm aufweist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2000161369 DE10061369A1 (de) | 2000-12-09 | 2000-12-09 | Kontaktverbindung zwischen zwei Kupfer enthaltenden Kontaktstücken |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE2000161369 DE10061369A1 (de) | 2000-12-09 | 2000-12-09 | Kontaktverbindung zwischen zwei Kupfer enthaltenden Kontaktstücken |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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DE10061369A1 true DE10061369A1 (de) | 2002-06-13 |
Family
ID=7666477
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE2000161369 Withdrawn DE10061369A1 (de) | 2000-12-09 | 2000-12-09 | Kontaktverbindung zwischen zwei Kupfer enthaltenden Kontaktstücken |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE10061369A1 (de) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1895621A1 (de) * | 2006-09-02 | 2008-03-05 | ABB Technology AG | Elektrische Kontaktanordnung, insbesondere für Mittelspannungsanlagen, sowie Verfahren zur Herstellung derselben |
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-
2000
- 2000-12-09 DE DE2000161369 patent/DE10061369A1/de not_active Withdrawn
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