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HINTERGRUND DER ERFINDUNG:
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1. Gebiet der Erfindung:
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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Verarbeitung eines
lichtempfindlichen Materials durch enges Kontaktieren eines Abschälmittels
mit dem Material anstelle des Abwaschens der lichtempfindlichen
Schicht (beispielsweise einer Silberhalogenid-Emulsionsschicht oder
einer lichtempfindlichen Nicht-Silbersalzschicht) des lichtempfindlichen
Materials. Insbesondere betrifft sie ein Verarbeitungsverfahren,
das vorzugsweise zur Herstellung einer lithografischen Aluminium-Druckplatte
unter Anwendung eines Silberkomplex-Diffusionstransferverfahrens angewandt
wird, worin eine anodisierte Aluminiumplatte als Träger verwendet wird.
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Bezüglich einer
lithografischen Druckplatte unter Anwendung eines Silberkomplex-Diffusionstransferverfahrens (des
DTR-Verfahrens) sind einige Beispiele auf den Seiten 101 bis 130
von André Rott
und Edith Weyde, "Photographic
Silver Halide Diffusion Processes, veröffentlicht von Focal Press,
London und New York (1972), beschrieben.
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Wie
darin beschrieben, waren zwei Arten an lithografischen Druckplatten
bekannt, bei denen das DTR-Verfahren angewandt wurde, d.h. ein Zweiblatt-Typ,
worin ein Transfermaterial und ein bildaufnehmendes Material voneinander
getrennt sind, und ein Einzelblatt-Typ, worin diese Materialien
auf einem Träger
bereitgestellt sind. Die lithografische Druckplatte vom Zweiblatt-Typ
ist detailliert in JP-OS 158844/1982 beschrieben. Ferner ist der
Einzelblatt-Typ detailliert in US-PS 3 728 114 beschrieben.
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Die
lithografische Druckplatte vom Einzelblatt-Typ, bei der das Silberkomplex-Diffusionstransferverfahren
unter Verwendung einer Aluminiumplatte als Träger (nachfolgend als lithografische
Aluminium-Druckplatte bezeichnet) angewandt wird, ist detailliert
in den JP-OSen 118244/1982, 158844/1982, 260491/1999, 116151/1991
und 282295/1992 und den US-PSen 4 567 131, und 5 427 889, beschrieben.
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In
der oben genannten lithografischen Aluminium-Druckplatte trägt ein aufgerauhter und anodisierter Aluminiumträger physikalische
Entwicklungskeime, und ferner ist darauf eine Silberhalogenid-Emulsionsschicht
bereitgestellt. Ein allgemeines Verfahren zur Herstellung dieser
lithografischen Druckplatte umfasst die Schritte der Belichtung,
der DTR-Entwicklungsverarbeitung, der Waschverarbeitung mit Wasser
(Abwaschen: Entfernen einer Silberhalogenid-Emulsionsschicht mit
einer Waschlösung)
und eine Finishingverarbeitung.
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Genauer
wird ein metallischer Silberbildbereich auf den physikalischen Entwicklungskeimen
mittels der Entwicklungsverarbeitung ausgebildet, und die Silberhalogenid-Emulsionsschicht
wird durch die nachfolgende Waschverarbeitung entfernt, wodurch
der Silbermetall-Bildbereich freigelegt wird (nachfolgend als Silberbildbereich
bezeichnet). Gleichzeitig wird die anodisierte Aluminiumoberfläche selbst
als Nicht-Bildbereich freigelegt.
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Nach
der Waschverarbeitung wird eine Finishinglösung, die ein schützendes
Kolloid, wie beispielsweise Gummi arabicum, Dextrin, Carboxymethylcellulose,
Polystyrolsulfonsäure
usw., enthält,
auf den freigelegten Silberbildbereich und den Nicht-Bildbereich
zum Schutz derselben aufgeschichtet. Der Prozess der sogenannten
Gummibeschichtung wird auf der Oberfläche der Platte durchgeführt. Die
Finishinglösung
wird auch als Fixierlösung
bezeichnet und sie ist üblicherweise
dergestalt, dass sie eine Verbindung enthält, die den Silberbildbereich
oleophil werden lässt,
wie beispielsweise eine stickstoffhaltige heterocyclische Verbindung
mit einer Mercaptogruppe oder einer Thiongruppe (nachfolgend als
oleophiles Mittel bezeichnet).
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Die
oben genannte lithografische Aluminium-Druckplatte hat den Vorteil,
dass in einfacher Weise eine Druckplatte erhalten werden kann, die
eine exzellente Druckdauerhaftigkeit aufweist, im Vergleich zu einer
lithografischen Druckplatte, worin eine Grundierungsschicht, eine
Silberhalogenid-Emulsionsschicht und eine physikalische Entwicklungskeimschicht
in dieser Reihenfolge auf einem flexiblen Träger, wie beispielsweise einer
Folie oder einem Polyethylen-beschichteten Papier usw. bereitgestellt
sind, jedoch ist sie auch mit verschiedenen Problemen behaftet.
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Eines
dieser Probleme ist, dass die Silberhalogenid-Emulsionsschicht usw. durch eine Waschlösung entfernt
werden, so dass es erforderlich ist, eine grosse Menge an Gelatine
oder silberhaltiger Waschlösung zu
behandeln und zu entsorgen usw., was ein ernstes wirtschaftliches
und Umweltproblem darstellen kann.
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Zur
Lösung
der oben genannten Probleme wurde in den US-PSen 5 068 165 und 5
213 943 und JP-OS 318553/1992 vorgeschlagen, die Emulsionsschicht
durch eine enge Kontaktierung eines Abschälblattes mit der Emulsionsschicht,
wodurch die Emulsionsschicht abgeschält wird, abzuschälen. Genauer
werden Abschälblätter gezeigt,
die ein Substrat und eine auf das Substrat aufgeschichtete Gelatineschicht
oder gehärtete Gelatineschicht,
die ein Mattierungsmittel enthält,
aufweisen. Die Abschälblätter in
den spezifischen Beispielen haben jedoch nicht nur die Nachteile,
dass sie eine lange Kontaktzeit bis zu ihrer Abschälung benötigen.
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Ein
weiteres Problem ist, dass die Menge an Abfallflüssigkeit aus der Entwicklungslösung gross
ist. Das heisst, es wurde eine Entwicklungslösung zur Herstellung einer
lithografischen Aluminium-Druckplatte verwendet, die ein Entwicklungsmittel,
wie beispielsweise Hydrochinon usw. enthält. Bei dieser Entwicklungslösung muss
erzwungenermassen eine relativ grosse Menge dieser Entwicklungslösung aufgefrischt
werden, so dass überschüssige überfliessende
Entwicklungslösung
verbraucht und entsorgt wird. Dadurch wird die Menge der Entwicklungslösung, die
für die
Entwicklung der lithografischen Aluminium-Druckplatte pro Einheitsfläche verwendet
wird, im Vergleich zu der lithografischen Druckplatte, die einen
flexiblen Träger
verwendet, gross. Selbst wenn eine Entwicklungslösung für eine vorherbestimmte Verarbeitungsbetriebszeit
verwendet wird, muss die verwendete Entwicklungslösung durch
eine neue Entwicklungslösung
ausgetauscht werden. Folglich bestehen ökonomische und Umweltprobleme,
da eine grosse Menge an Entwicklungslösung als Abfallösung entsorgt
werden muss.
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Ein
weiteres Problem liegt darin, dass die Aluminiumoxidschicht eines
anodisierten Aluminiumträgers durch
Einwirkung einer Entwicklungslösung
mit hohem pH-Wert aufgelöst
wird, so dass Veränderungen
der Entwicklungsbedingungen die Bildung von DTR-Entwicklungssilber beeinflusst, so dass
eine lithografische Druckplatte mit guten Druckeigenschaften nicht
in stabiler Weise hergestellt werden kann.
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Andererseits
ist ein lichtempfindliches Material, das eine lichtempfindliche
Zusammensetzung umfasst, die kein Silbersalz enthält, bekannt.
Diese lichtempfindliche Zusammensetzung bewirkt die chemische Veränderung
der Molekülstruktur
durch eine Photoreaktion (Bestrahlung mit UV-Strahlen oder sichtbarem Licht),
und als Ergebnis werden die physikalischen Eigenschaften verändert. Chemische
Veränderungen
durch die Einwirkung von Licht sind Vernetzung, Polymerisation,
Zersetzung, Zersetzungspolymerisation, Modifikationen funktioneller
Gruppen usw., und ferner sind verschiedene Faktoren betroffen, wie
beispielsweise Löslichkeit,
Haftfähigkeit,
Brechungsindex, Stoffpermeabilität
und Phasenänderung
usw.. Eine derartige lichtempfindliche Zusammensetzung wurde in
der Praxis weitverbreitet angewendet, wie beispielsweise in Druckplatten,
Resists, Lacken, Beschichtungsmitteln, Farbfiltern usw.. Darüber hinaus wurde
sie im Bereich von Fotoresists unter Anwendung einer fotografischen
Plattenherstellungstechnologie (Fotolithografie) und Entwicklung
verwendet. Der Fotoresist dient zur Ausnutzung der Veränderung
der Löslichkeit
durch die Fotoreaktion.
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Als
ein Beispiel, worin ein lichtempfindliches Material, das die oben
genannte fotoempfindliche Zusammensetzung enthält, bei einer lithografischen
Druckplatte angewandt wird, ist eine PS-Platte (eine Abkürzung für "vorsensibilisierte
Platte") allgemein
bekannt, worin eine lichtempfindliche Harzschicht auf einem Aluminiumträger bereitgestellt
ist. In der PS-Platte können
zwei verschiedene Materialien vorliegen, d.h. ein Negativtyp-Material oder ein
Positivtyp-Material. Das Negativtyp-Material dient zur Aushärtung eines
belichteten Bereichs und zur Entfernung eines nicht-belichteten
Bereichs durch Auflösung
dieses Bereichs unter Verwendung einer Entwicklungslösung, wodurch
ein ausgehärteter
Film (belichteter Bereich) auf dem Aluminiumträger ausgebildet wird, dessen
Form von dem Belichtungsmuster abhängt. Das Positivtyp-Material
ist dem obigen entgegengesetzt, so dass ein belichteter Bereich
durch eine Entwicklungslösung
gelöst
wird, wodurch in Abhängigkeit
von dem Belichtungsmuster ein Film (unbelichteter Bereich) auf dem
Aluminiumträger
ausgebildet wird.
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Materialien
zur Herstellung der oben genannten PS-Platten sind detailliert beschrieben
in beispielsweise "Outline
of PS plate" von
Teruhiko Yonezawa (veröffentlicht
von Insatsu Gakkai Shuppannbu, Japan), "Light-sensitive polymer", von Gentaro Nagamatsu
und Hideo Inui (veröffentlicht
von Kodansha, Japan) oder "Photopolymer
Technology" von
Tsuguo Yamaoka und Gentaro Nagamatsu (veröffentlicht von Nikkan Kogyo, Japan).
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Zusätzlich zu
der oben genannten PS-Platte gibt es eine lithografische Druckplatte,
die in einem CTP (Computer-zu-Platte)-System
verwendet wird. Das CTP-System ist ein System, worin Originaldaten,
die zu digitalen Informationen umgewandelt wurden, direkt zur bildweisen
Belichtung auf einer Druckplatte unter Verwendung von Laserstrahlen
herangezogen werden. Als Lichtquelle werden üblicherweise Helium-Neon-Laser, Argonlaser,
Nahinfrarot-Halbleiterlaser,
YAG-Laser usw. verwendet.
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Als
eine oben beschriebene CTP-Druckplatte ist eine Druckplatte bekannt,
die in der Lage ist, die Laserstrahlbelichtung unter Verwendung
einer Fotopolymerisationsreaktion, die ein polymerisierbares Monomer einschliesst,
auszunutzen. Dies ist beispielsweise in "Insatsu Zasshi" von Shigeki Shimizu, Bd. 78, Seite
9, 1995 usw. beschrieben. Ferner ist in JP-PS 105353/1994 oder JP-OS
230594/1997 ein Beispiel für
eine fotopolymerisierbare Zusammensetzung beschrieben, die ein Polymer,
in dessen Seitenkette eine polymerisierbare ungesättigte Verbindungsgruppe
mit spezifischer Struktur eingeführt
ist, einen Fotopolymerisationsinitiator und eine Verbindung mit
mindestens einer ethylenisch ungesättigten Bindung umfasst.
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Als
Beispiele für
lichtempfindliche Zusammensetzungen zur Ausbildung eines Negativtyp-Abbildes
unter Verwendung eines Laserstrahls sind beispielsweise die JP-OSen
90885/1998, 127694/1997 und 138500/1997 usw. zu nennen, und für die besondere
Verwendung einer lithografischen Druckplatte sind diejenigen zu
nennen, die in den JP-OSen 20629/1997, 271029/1995, 244226/1997,
212252/1999 und 231535/1999 usw. beschrieben sind. von diesen enthalten
lithografische Druckplatten mit einer lichtempfindlichen Schicht
im wesentlichen ein Phenolharz, einen Lichtabsorber und einen Säureerzeuger.
Eine solche lithografische Druckplatte wird beispielsweise der Belichtung
mit einem Laser hohe Leistung usw. unterzogen, so dass die veränderte Löslichkeit
des Phenolharzes durch eine Entwicklungslösung durch eine Säure, die durch
den Säureerzeuger
erzeugt wird, aufgrund der Veränderung
der Vernetzungsdichte usw. ausgenutzt wird.
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Das
lichtempfindliche Material, das die oben genannte lichtempfindliche
Zusammensetzung umfasst, ist mit dem Problem verbunden, dass die
Komponenten der Entwicklungslösung
im Laufe der Zeit veränderlich sind,
da die nicht-gehärtete
lichtempfindliche Schicht in der Entwicklungslösung aufgelöst und entfernt wird, so dass
eine grosse Menge Auffrischlösung
für die
Entwicklungslösung
erforderlich ist, wodurch die Menge an Abfallösung gross wird.
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In
der US-Patentschrift 5,362,602 wird ein Verfahren zur Entwicklung
eines lichtempfindlichen Materials offenbart, bei dem das lichtempfindliche
Material, enthaltend eine lichtempfindliche Schicht auf einem Träger, zunächst belichtet
und danach mit einer wässrigen
alkalischen Entwicklerlösung
beaufschlagt wird. Im Anschluss daran wird die Oberfläche der
in oben genannter Weise behandelten lichtempfindlichen Schicht in
engen Kontakt mit einem Empfangsmedium/Abschälmittel gebracht, an dem die
lichtempfindliche Schicht anhaftet. Abschließend wird der Verbund aus Empfangsmedium
und anhaftender lichtempfindlicher Schicht vom Trägermaterial
abgelöst/abgezogen
(vgl. dazu insbesondere die Textstellen in Sp. 3, Z. 35 bis Sp.
4, Z. 6, in Sp. 6, Z. 43-Z.
62 und in Sp. 24, Z. 35-Z.64).
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In
der US Patentschrift 3,615,486 wird ein Verfahren zur Entwicklung
eines lichtempfindlichen Materials offenbart, bei dem das lichtempfindliche
Material zunächst
belichtet/gehärtet
und danach mit einem Lösungsmittel
beaufschlagt oder erhitzt wird. Anschließend wird die Oberfläche des
in oben genannter Weise behandelten lichtempfindlichen Materials
auf ein Empfangsmedium/Abschälmittel
gepresst, beispielsweise eine poröse Schicht oder ein poröses Blatt.
Abschließend
wird das Empfangsmedium zusammen mit den daran anhaftenden unbelichteten
ungehärteten
Teilen des lichtempfindlichen Materials von demselben abgelöst/abgezogen
(vgl. dazu insbesondere die Textstellen in Sp. 1, Z. 7-Z. 22, Z.
37-Z. 41 und Z. 61-Z
63).
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ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG:
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Folglich
ist es ein erstes erfindungsgemässes
Ziel, ein Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials
bereitzustellen, das zur gleichförmigen
und vollständigen
Entfernung der lichtempfindlichen Schicht, die eine Silberhalogenidemulsion
oder eine nicht-silbersalzhaltige
lichtempfindliche Zusammensetzung umfasst, innerhalb eines kurzen
Zeitraums zu entfernen. Ein weiteres erfindungsgemässes Ziel
ist die Bereitstellung eines Verfahrens zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen
Materials, das zur gleichförmigen und
vollständigen
Entfernung der lichtempfindlichen Schicht innerhalb eines kurzen
Zeitraums ohne Verwendung einer Waschlösung geeignet ist (so dass
keine durch die Waschlösung
hervorgerufene Abfallösung
anfällt).
Noch ein weiteres erfindungsgemässes
Ziel ist die Bereitstellung eines Verfahrens zur Herstellung einer Platte,
wonach eine lithografische Aluminium-Druckplatte, die in stabiler
Weise exzellente Druckeigenschaften aufweist, zu geringen Kosten
ohne Umweltverschmutzung durch deutliche Reduzierung oder weitestgehende Vermeidung
von Abfallösungen
der Entwicklungslösung,
hergestellt werden kann.
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Die
obigen erfindungsgemässen
Ziele können
durch ein Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials
erreicht werden, das die Belichtung eines lichtempfindlichen Materials
mit mindestens einer lichtempfindlichen Schicht auf einem Träger und
Entwicklung durch ein Tauchsystem oder ein Beschichtungssystem und
anschliessende Abschälung
von zumindest der lichtempfindlichen Schicht durch enge Kontaktierung
eines Abschälmittels
mit dem lichtempfindlichen Material umfasst, worin das Abschälmittel
ein Material mit einer Flüssigkeitsabsorptionsgeschwindigkeit
ist, bei der die Flüssigkeitsabsorptionsmenge
innerhalb von 0,1 Sekunden nach der Kontaktierung mit einer Flüssigkeit
60 % oder mehr bezogen auf die Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb
von 0,2 Sekunden nach diesem Kontakt ist.
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Darüber hinaus
kann das erfindungsgemässe
Verarbeitungsverfahren angewandt werden bei einem lichtempfindlichen
Material mit einer nicht-silberhaltigen
lichtempfindlichen Schicht (einer lichtempfindlichen Schicht, die
eine lichtempfindliche Zusammensetzung umfasst, die kein Silbersalz
enthält).
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KURZE BESCHREIBUNG DER
ZEICHNUNG:
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1 ist
eine Querschnittsansicht, die ein Beispiel einer Plattenherstellungsvorrichtung
zeigt, wie sie in dem erfindungsgemässen Verarbeitungsverfahren
verwendet wird.
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BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN
AUSFÜHRUNGSFORMEN:
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Das
Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials umfasst
die Belichtung des lichtempfindlichen Materials und die Durchführung einer
Entwicklungsbehandlung damit und das anschliessende Abschälen von
zumindest der lichtempfindlichen Schicht durch enges Kontaktieren
eines Abschälmittels
mit dem lichtempfindlichen Material. Durch das Abschälen der
lichtempfindlichen Schicht nach dem erfindungsgemässen Verfahren
kann die lichtempfindliche Schicht gleichförmig und vollständig innerhalb
eines kurzen Zeitraums abgeschält
werden. Ferner ist bei einer lithografischen Druckplatte mit einer
Silberhalogenidemulsion keine Waschlösung erforderlich. Ferner neigen
in einer lichtempfindlichen Zusammensetzung, die kein Silbersalz
enthält,
die Zusammensetzungen der Entwicklungslösung nicht zu Veränderungen,
so dass die Entwicklung in stabiler Weise durchgeführt werden
kann. Darüber
hinaus ist keine grosse Menge an Auffrischlösung für die Entwicklungslösung erforderlich.
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Erfindungsgemäss kann
die Entwicklungsbehandlung ein Tauchbehandlungssystem sein, worin
ein lichtempfindliches Material in eine Entwicklungslösung eingetaucht
wird, oder ein Beschichtungsentwicklungssystem, worin eine Entwicklungslösung auf
das lichtempfindliche Material aufgeschichtet wird. Erfindungsgemäss ist letzteres
Beschichtungsentwicklungssystem bevorzugt.
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Die
Beschichtung mit der Entwicklungslösung kann unter Verwendung
einer Beschichtungsvorrichtung für
eine Entwicklungslösung
durchgeführt
werden, wie sie beispielsweise in den JP-OSen 76603/1973, 289343/1993,
27680/1994, 27682/1994, 62952/1998 und 62951/1998 offenbart ist.
Durch die Verwendung eines solchen Beschichtungsentwicklungssystems
kann die Menge an Abfallflüssigkeit
der Entwicklungslösung auf
weitestgehend Null gebracht oder deutlich verringert werden.
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Das
erfindungsgemässe
Abschälmittel
umfasst ein Material mit einer Bindemittelschicht, worin feine Teilchen,
wie beispielsweise Silica, Alumina usw. zu einem Substrat dispergiert
sind. Ferner ist das erfindungsgemässe Abschälmittel ein Material, das die
Eigenschaft besitzt, eine hohe Flüssigkeitsabsorptionsgeschwindigkeit
aufzuweisen, wobei die Flüssigkeitsabsorptionsmenge
innerhalb von 0,1 Sekunden nach dem Kontaktieren mit einer Flüssigkeit
60 % oder mehr auf Basis der Flüssigkeitsabsorptionsmenge
innerhalb von 0,2 Sekunden nach demselben beträgt. Darüber hinaus ist das erfindungsgemässe Abschälmittel
ein Material (ein Abschälblatt)
mit der Eigenschaft einer hohen Flüssigkeitsabsorptionskapazität, wobei
die Flüssigkeitsabsorptionsmenge
innerhalb von 0,1 Sekunden nach der Kontaktierung mit einer Flüssigkeit
10 ml oder mehr pro 1 m2 des Abschälblattes
ist.
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Ein
bevorzugtes Beispiel für
das erfindungsgemässe
Verfahren zur Herstellung einer Platte unter Verwendung des Abschälmittels
ist beispielsweise ein Verfahren, worin unter Verwendung einer Vorrichtung
mit einer Beschichtungseinrichtung für eine Entwicklungslösung und
des oben genannten Abschälblattes
eine Entwicklungslösung
in einer für
die Entwicklung notwendigen Menge auf die Oberfläche einer Platte einer lithografischen
Druckplatte, in dem ein Silberkomplex-Diffusionstransferverfahren
angewandt wird und die mindestens eine Silberhalogenid-Emulsionsschicht
auf einem anodisierten Aluminiumträger aufweist, aufgeschichtet wird.
Sobald die Entwicklung beendet ist, wird das Abschälblatt mit
der Oberfläche
der Platte kontaktiert, so dass hydrophile Kolloidschichten, wie
beispielsweise die Silberhalogenid-Emulsionsschicht usw. gleichförmig und
vollständig
innerhalb eines kurzen Zeitraums von dem Aluminiumträger entfernt
werden.
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Die
vorliegende Erfindung ist nicht an irgendeine Schlussfolgerung gebunden,
jedoch kann die Funktionsweise der vorliegenden Erfindung wie folgt
angenommen werden. Eine Entwicklungslösung wird an der Innenseite
der hydrophilen Kolloidschicht der entwickelten lithografischen
Aluminium-Druckplatte und auf der Oberfläche der Platte zurückgehalten.
Wenn das erfindungsgemäss
Abschälmittel
in engen Kontakt damit gebracht wird, wird das Abschälmittel
in engen Kontakt mit der Oberfläche
der lithografischen Druckplatte gebracht, indem die Entwicklungslösung rasch
von der oberen Seite der lithografischen Druckplatte in grosser Menge
absorbiert wird. Zur Abschälung
der hydrophilen Kolloidschicht von dem Träger ist es erforderlich, dass die
Adhäsionskraft
zwischen dem Abschälmittel
und der lithografischen Druckplattenoberfläche grösser ist als die zwischen der
hydrophilen Kolloidschicht und dem Träger. Folglich wird, wenn die
Abschälung
während
des Zeitraums gestartet wird, in dem die Entwicklungslösung im
unteren Bereich (dem Bereich nahe dem Träger) der hydrophilen Kolloidschicht
der Druckplatte in nicht zu grosser Menge durch das Abschälmittel
absorbiert wird (d.h. die Konzentration der Entwicklungslösung ist
im unteren Bereich grösser
als im oberen Bereich, mit anderen Worten liegt ein Konzentrationsgradient
der Entwicklungslösung
in der Schicht vor), die hydrophile Kolloidschicht gleichförmig und
vollständig
von dem Träger
entfernt.
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Nachfolgend
wird die vorliegende Erfindung unter hauptsächlicher Bezugnahme auf das
Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Aluminium-Druckplatte
detaillierter beschrieben. Die erfindungsgemäss zu verwendende lithografische
Druckplatte weist im allgemeinen eine physikalische Entwicklungskeimschicht
und mindestens eine Silberhalogenid-Emulsionsschicht in dieser Reihenfolge
auf einem Aluminiumträger
auf. Es ist jedoch bekannt, dass die DTR-Entwicklung ohne Verwendung
der physikalischen Entwicklungskeimschicht durchgeführt werden
kann, so dass diese nicht notwendigerweise verwendet wird. Als erfindungsgemäss zu verwendende
Aluminiumträger
für die
lithografische Aluminium-Druckplatte werden solche verwendet, die
1,0 g oder mehr poröses
Aluminiumoxid pro 1 m2 enthalten, vorzugsweise
1,5 bis 5 g/m2.
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Als
erfindungsgemäss
zu verwendende physikalische Entwicklungskeime in der physikalischen
Entwicklungskeimschicht können
bekannte physikalische Entwicklungskeime verwendet werden, die im
Silberkomplex-Diffusionstransferverfahren
angewandt werden. Beispiele hierfür sind ein Kolloid von Gold,
Silber und dergleichen, ein Metallsulfid, das erhalten wird durch
Vermischen eines wasserlöslichen
Salzes von Palladium, Zink und dergleichen mit einem Sulfid usw..
Als Schutzkolloid können
verschiedene hydrophile Kolloide verwendet werden. Bezüglich der
Details zu physikalischen Entwicklungskeimen und deren Herstellungsverfahren
sei beispielsweise auf Andre Rott und Edith Weyde, "Photographic Silver
Halide Diffusion Processes",
veröffentlicht
von Focal Press, London und New York (1972), verwiesen.
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Die
Silberhalogenidemulsion kann ausgewählt werden aus Silberchlorid,
Silberbromid, Silberiodid, Silberchlorbromid, Silberchloriodbromid,
Silberiodbromid usw., die allgemein verwendet werden, und diejenigen, die
hauptsächlich
Silberchlorid enthalten (was 50 mol-% oder mehr an Silberchlorid
bedeutet), sind bevorzugt. Bezüglich
des Emulsionstyps kann dieser entweder vom Negativtyp oder vom Positivtyp
sein. Diese Silberhalogenidemulsionen können bei Bedarf chemisch oder
spektral sensibilisiert sein.
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In
der Silberhalogenid-Emulsionsschicht können bei Bedarf verschiedene
Arten anionischer, kationischer, Betain- oder nicht-ionischer Tenside;
Antischleiermittel, wie beispielsweise Mercaptotetrazol usw.; Chelatbildner,
wie beispielsweise Ethylendiamintetraacetat usw.; Entwicklungsmittel,
wie beispielsweise Hydrochinon, 3-Pyrazolidone usw., enthalten sein.
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Als
hydrophiles Kolloid der Silberhalogenid-Emulsionsschicht wird vorzugsweise Gelatine
zur Herstellung von Silberhalogenidteilchen verwendet. Als Gelatine
können
verschiedene Gelatinen verwendet werden, wie beispielsweise säurebehandelte
Gelatine und alkalibehandelte Gelatine. Auch modifizierte Gelatinen
hiervon (z.B. phthalalierte Gelatine und amidierte Gelatine) können verwendet
werden. Ferner kann eine hydrophile hochmolekulargewichtige Verbindung,
wie beispielsweise Polyvinylpyrrolidon, verschiedene Stärken, Albumin,
Polyvinylalkohol, Gummi arabicum und Hydroxyethylcellulose, enthalten
sein. Als zu verwendendes hydrophiles Kolloid wird wünschenswerterweise
ein hydrophiles Kolloid verwendet, das im wesentlichen keinen Härter enthält.
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Die
erfindungsgemäss
zu verwendende Silberhalogenid-Emulsionsschicht
enthält
vorzugsweise 70 Gew.% oder weniger, weiter bevorzugt 60 bis 20 Gew.%,
eines hydrophilen Kolloids auf Basis der Menge des Silberhalogenids
in Einheiten von Silbernitrat. Wenn die Silberhalogenid-Emulsionsschicht,
die zur Lichtempfindlichkeit beiträgt, zwei oder mehr Schichten
umfasst, wird die Menge des hydrophilen Kolloids innerhalb des obigen
Bereichs auf Basis des Gesamtgewichts des Silberhalogenids und des
durchschnittlichen Gewichtsverhältnisses
des hydrophilen Kolloids eingestellt.
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In
der erfindungsgemässen
lithografischen Aluminium-Druckplatte
liegt die Beschichtungsmenge an Silberhalogenid in Einheiten von
Silbernitrat vorzugsweise innerhalb des Bereichs von 0,5 bis 5 g/m2.
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Wenn
die oben genannte, hoch silberdichte Emulsion verwendet wird, kann
die Beschichtungsmenge an Entwicklungslösung deutlich verringert werden,
so dass die Menge der Entwicklungslösung, die zu entsorgen ist,
ebenfalls deutlich verringert werden kann. Darüber hinaus wird die Toleranz
gegenüber
veränderlichen Entwicklungsbedingungen
durch Veränderung
der Umgebungsbedingungen vergrössert,
und die Entwicklungszeit kann verkürzt werden (schnelle Entwicklung).
Darüber
hinaus kann die Menge an aufzuschichtendem Silberhalogenid deutlich
verringert werden, und trotzdem kann eine lithografische Druckplatte
mit exzellenten Druckeigenschaften erhalten werden.
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Erfindungsgemäss ist es
bevorzugt, eine Schutzschicht, die ein hydrophiles Kolloid umfasst,
auf der Silberhalogenid-Emulsionsschicht
bereitzustellen. Durch Ausbildung der Schutzschicht kann die Entwicklung von
der Oberseite der lithografischen Aluminium-Druckplatte, auf die
eine Entwicklungslösung
aufgeschichtet wird, durchgeführt
werden, ohne dass Entwicklungsungleichmässigkeiten hervorgerufen werden,
wodurch die Beschichtungsmenge der Entwicklungslösung als Ergebnis der Verbesserungen
der Übertragungsgeschwindigkeit
und der Übertragungseffizienz
verringert werden kann. Ausserdem kann der enge Kontakt mit dem
Abschälmittel
weiter verbessert und das Abschälen
der Emulsionsschicht in vollständigerer
Weise innerhalb eines kurzen Zeitraums durchgeführt werden. Ferner wird im
wesentlichen keine Abfallösung
der Entwicklungslösung
erzeugt, und es kann eine lithografische Druckplatte mit exzellenten
Druckeigenschaften erhalten werden.
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Als
hydrophiles Kolloid für
die oben genannte Schutzschicht können hydrophile Kolloide, wie
beispielsweise verschiedene Arten an Gelatinen, wie sie bei der
Silberhalogenidemulsion genannt wurden, Polyvinylpyrrolidon, verschiedene
Arten an Stärke,
Albumin, Polyvinylalkohol, Gummi arabicum, Hydroxyethylcellulose und
dergleichen, einzeln oder in Kombination von zwei oder mehreren
verwendet werden.
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Die
Menge des aufzuschichtenden hydrophilen Kolloids für die Schutzschicht
liegt vorzugsweise im Bereich von 0,1 bis 3 g, weiter bevorzugt
0,3 bis 2 g pro m2 der lithografischen Aluminium-Druckplatte.
Die Schutzschicht kann eine Mehrzahl an Schichten von zwei oder
mehr sein.
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Erfindungsgemäss kann
eine wasserquellbare Zwischenschicht, wie in den US-PSen 5 068 165
und 5 213 943 beschrieben, oder eine Zwischenschicht, die hydrophobe
Polymerkügelchen
enthält,
wie in den US-PSen 5 273 858 und 5 362 602 beschrieben, zwischen
der physikalischen Entwicklungskeimschicht und der Silberhalogenid-Emulsionsschicht
bereitgestellt werden.
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Die
erfindungsgemässe
lithografische Aluminium-Druckplatte enthält vorzugsweise eine organische Carbonsäure in mindestens
einer Schicht, ausgewählt
aus der Silberhalogenid-Emulsionsschicht, der physikalischen Entwicklungskeimschicht,
der Schutzschicht und der Zwischenschicht. Es ist weiter bevorzugt,
dass die organische Carbonsäure
in einer Silberhalogenid-Emulsionsschicht
oder einer Zwischenschicht enthalten ist. Die organische Carbonsäure ist
vorzugsweise eine Polycarbonsäure
mit zwei oder mehr Carboxygruppen (die als Salz vorliegen können) im
Molekül.
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Als
erfindungsgemäss
verwendbare organische Carbonsäure
sind beispielsweise eine organische Säure, wie Zitronensäure, Phthalsäure, Salicylsäure, Capronsäure, Adipinsäure, Bernsteinsäure, Maleinsäure, Fumarsäure, DL-Äpfelsäure, DL-Aspartamsäure, L-Glutaminsäure, Benzoesäure, Zimtsäure, α-Methylzimtsäure, β-Naphthonsäure, Malonsäure, Erythorbinsäure, Weinsäure usw.
zu nennen.
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Die
Menge dieser organischen Carbonsäure
kann in Abhängigkeit
von der Art der Carbonsäure,
der Schicht, zu der sie hinzugegeben wird, und anderen Bedingungen
variieren, sie liegt jedoch üblicherweise
im Bereich von 0,01 bis 10 mmol, vorzugsweise 0,05 bis 5 mmol, pro
m2 der lithografischen Aluminium-Druckplatte.
Die organische(n) Carbonsäure(n)
kann/können
zu zwei oder mehr Schichten hinzugegeben werden, und die jeweiligen
organischen Carbonsäuren
können
in den jeweiligen Schichten die gleichen oder unterschiedliche sein.
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Die
erfindungsgemäss
zu verwendende Entwicklungslösung
kann ein Entwicklungsmittel enthalten, wie beispielsweise Polyhydroxybenzole,
einschliesslich Hydrochinon usw., 3-Pyrazolidone, einschliesslich 1-Phenyl-3-pyrazolidinon
und dessen Derivate; eine alkalische Substanz, wie beispielsweise
Kaliumhydroxid, Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, tertiäres Natriumphosphat
und Aminverbindungen; ein Konservierungsmittel, wie beispielsweise
Natriumsulfit; einen Viskositätsmodifikator,
wie beispielsweise Carboxymethylcellulose; ein Antischleiermittel,
wie beispielsweise Kaliumbromid; einen Entwicklungsmodifikator,
wie beispielsweise Polyoxyalkylenverbindungen; einen Chelatbildner,
wie beispielsweise Ethylendiamintetraessigsäure; ein Silberhalogenid-Lösungsmittel,
wie beispielsweise Thiosulfate, einschliesslich Natriumthiosulfat,
Kaliumthiosulfat usw., 2-Mercaptobenzoesäure und dessen Derivate, cyclische
Imide, einschliesslich Uracil, Alkanolamin, Diamin, mesoionische
Verbindungen, Thioether und dergleichen. Der pH-Wert der Entwicklungslösung beträgt üblicherweise
etwa 11 bis 14, vorzugsweise etwa 12 bis 13,5.
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Es
ist bevorzugt, eine weitere Verbindung (oleophiles Mittel) zuzugeben,
damit der Silberbildbereich oleophil wird. Als oleophiles Mittel
können
die Verbindungen genannt werden, die auf den Seiten 105 bis 106 von
André Rott
und Edith Weyde, "Photographic
Silver Halide Diffusion Processes", veröffentlicht von Focal Press,
London und New York (1972), offenbart sind. Beispielsweise sind
eine Verbindung mit einer Mercaptogruppe oder einer Thiongruppe,
eine quaternäre
Ammoniumgruppe usw. zu nennen, und eine Verbindung mit einer Mercaptogruppe
oder einer Thiongruppe wird erfindungsgemäss bevorzugt verwendet. Eine
besonders bevorzugte Verbindung ist eine stickstoffhaltige heterocyclische
Ringverbindung mit einer Mercaptogruppe oder einer Thiongruppe,
die in JP-PS 29723/1973 und JP-OS 12928/1983 offenbart ist.
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In
dem erfindungsgemässen
Entwicklungssystem ist, wie oben festgestellt, eine Beschichtungsentwicklung
bevorzugt, und Beschichtungsvorrichtungen für eine Entwicklungslösung, wie
beispielsweise in den JP-OSen 76603/1973, 289343/1993, 27680/1994,
27682/1994, 62952/1998 und 62951/1998 offenbart, werden bevorzugt
verwendet. Gemäss
der Erfindung ist die Beschichtungsentwicklung stärker bevorzugt,
sie ist jedoch nicht ausschliesslich auf die Beschichtungsentwicklung
beschränkt,
und die Entwicklung kann eine Tauchentwicklung aus dem Stand der
Technik sein.
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In
der lithografischen Aluminium-Druckplatte werden die Gelatine und
die Silberhalogenid-Emulsionsschicht im wesentlichen nicht gehärtet, so
dass die absorbierte Menge an Entwicklungslösung relativ gross wird. Zur
Verringerung der Menge an Abfallentwicklungslösung auf im wesentlichen Null
und zur Abschälung der
hydrophilen Kolloidschicht, wie beispielsweise der Silberhalogenid-Emulsionsschicht,
in einer effizienten Weise innerhalb eines kurzen Zeitraums ist
es bevorzugt, dass die Menge an Entwicklungslösung etwa 50 ml oder weniger,
besonders bevorzugt etwa 10 bis 40 ml pro Gramm des hydrophilen
Kolloids der lithografischen Druckplatte, mit der das Abschälmittel
in engen Kontakt gebracht wird, beträgt.
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Die
auf der Oberfläche
der lithografischen Druckplatte vorliegende Entwicklungslösung kann
mit einem Quetschmittel (z.B. Gummiwalzen) vor dem Abschälschritt
abgequetscht werden, in Abhängigkeit
von dem Aufbau der lithografischen Druckplatte, der Zusammensetzung
der Entwicklungslösung
und dergleichen.
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Die
Temperatur der Entwicklungslösung
liegt vorzugsweise im Bereich von etwa 15 bis 40°C, und die Entwicklungszeit
kann innerhalb des Bereichs von etwa 5 bis 40 Sekunden variieren.
Diese Bedingungen können
gegebenenfalls in Abhängigkeit
von dem Aufbau der lithografischen Aluminium-Druckplatte, der Zusammensetzung der
Entwicklungslösung
und dergleichen bestimmt werden.
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In
dem erfindungsgemäss
vorzugsweise zu verwendenden Entwicklungssystem wird nur die für die Entwicklung
notwendige Entwicklungslösung
aufgeschichtet. Folglich wird die Menge, um die das Aluminiumoxid
durch Auflösung
in der Entwicklungslösung
verringert wird, reduziert, beispielsweise auf 0,6 g oder weniger,
vorzugsweise 0,5 g oder weniger pro m2 der
lithografischen Druckplatte, wodurch eine lithografische Aluminium-Druckplatte
mit exzellenter Druckdauerhaftigkeit erhalten werden kann.
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Zum
Zeitpunkt der Beendigung der Entwicklung wird das oben genannte
Abschälmittel
auf die Oberfläche
der lithografischen Druckplatte aufgebracht. Wenn ein hydrophiles
Kolloid, wie beispielsweise Gelatine usw. auf der Aluminiumplatte
verbleibt, werden in dem Verfahren zur Herstellung einer lithografischen
Aluminium-Druckplatte die tintenaufnehmende Eigenschaft und die
Druckdauerhaftigkeit verschlechtert, weshalb der Abschälschritt
des Entfernens der Silberhalogenid-Emulsionsschicht usw. nach der Entwicklung
ein extrem wichtiger Schritt für
die Druckeigenschaften der lithografischen Aluminium-Druckplatte
darstellt.
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Die
hiesigen Erfinder haben ernsthafte Studien bezüglich des oben genannten Abschälblattes
angestellt und haben im Ergebnis die überraschende Tatsache herausgefunden,
dass die Flüssigkeitsabsorptionsgeschwindigkeit
innerhalb eines kurzen Zeitraums und die Flüssigkeitsabsorptionskapazität innerhalb
eines kurzen Zeitraums extrem wichtig sind. In der vorliegenden
Beschreibung kennzeichnet die Flüssigkeitsabsorptionsmenge
des Abschälmittels
die Flüssigkeitsabsorptionsmenge
an Flüssigkeit,
die in der abzuschälenden hydrophilen
Kolloidschicht und an deren oberer Oberfläche zurückgehalten wird, und in der
lithografischen Aluminium-Druckplatte bedeutet sie vorzugsweise
eine Flüssigkeitsabsorptionsmenge
an Entwicklungslösung.
Es kann eine gemischte Lösung
aus Entwicklungslösung
und Wasser oder einer sauren wässrigen
Lösung
sein, die auf die Oberfläche
der lithografischen Druckplatte zum Zweck der Benetzung oder Neutralisation
nach der Entwicklung (vor dem Abschälen) aufgebracht wird.
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Das
erfindungsgemässe
Abschälmittel
umfasst ein Material mit einer hohen Flüssigkeitsabsorptionsgeschwindigkeit,
wobei die Flüssigkeitsabsorptionsmenge
innerhalb von 0,1 Sekunden nach dem Kontaktieren mit einer Flüssigkeit
60 oder mehr auf Basis der Flüssigkeitsabsorptionsmenge
innerhalb von 0,2 Sekunden nach demselben beträgt, vorzugsweise 70 bis 100
%. Darüber
hinaus ist das erfindungsgemässe
Abschälmittel
ein Material, das zusätzlich
zu der oben genannten Flüssigkeitsabsorptionsgeschwindigkeit
eine Flüssigkeitsabsorptionsmenge
oder -kapazität
bei 0,1 Sekunden nach dem Kontaktieren mit einer Flüssigkeit
von 10 ml oder mehr, vorzugsweise 15 ml oder mehr, besonders bevorzugt
20 ml oder mehr (der obere Grenzwert ist nicht besonders festgelegt,
jedoch vorzugsweise bis zu 80 ml) pro m2 des
Abschälmittels
zeigt. Die Flüssigkeitsabsorptionskapazität hängt auch
von der Menge der durch die hydrophile Kolloidschicht zurückgehaltenen Flüssigkeit
ab. Folglich kann festgestellt werden, dass dies besonders bevorzugte
Eigenschaften bei der Herstellung einer lithografischen Aluminium-Druckplatte
darstellen, der etwa 20 ml oder mehr einer Entwicklungslösung pro
m2 der lithografischen Druckplatte aufgeschichtet
werden. Die erfindungsgemässe
Flüssigkeitsabsorptionsmenge
kann beispielsweise gemessen werden mit einer Messvorrichtung nach
dem Bristow-Verfahren
(z.B. einem dynamischen Scanning-Flüssigkeitsabsorptionsmessgerät). Das
Bristow-Verfahren ist allgemein bekannt als Verfahren zur Messung
der Absorptionsmenge einer Flüssigkeit
innerhalb einer extrem kurzen Zeit nach dem Kontaktieren mit der
Flüssigkeit
im Bereich der Tintenstrahl-Aufzeichnungsmaterialien und ist beispielsweise
in JP-OS 235865/1999 beschrieben.
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Das
erfindungsgemässe
Abschälmittel
ist nicht sonderlich beschränkt,
solange es die oben genannten Eigenschaften aufweist, und ein besonders
bevorzugtes Beispiel ist ein Material mit einer Schicht, in der
feine Teilchen durch ein Bindemittel dispergiert sind. Als feine
Teilchen können
anorganische und organische feine Teilchen verwendet werden, und
beispielsweise sind anorganische feine Teilchen, wie beispielsweise
leichtes (synthetisches) Calciumcarbonat, schweres (natürliches)
Calciumcarbonat, Kaolin, Talk, Calciumsulfat, Bariumsulfat, Titandioxid,
Zinkoxid, Zinksulfid, Zinkcarbonat, Satinweiss, Aluminiumsilicat,
Diatomeenerde, Calciumsilicat, Magnesiumsilicat, synthetisches amorphes
Silica, kolloidales Silica, kolloidales Alumina, Pseudoboehmit,
Aluminiumhydroxid, Aluminium, Lithopon, Zeolith, hydriertes Halosit,
Magnesiumcarbonat, Magnesiumhydroxid usw.; und organische feine
Teilchen, wie beispielsweise Polystyrol, Polymethylmethacrylat usw.,
zu nennen.
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Die
durchschnittliche Teilchengrösse
der feinen Teilchen ist üblicherweise
eine Primärteilchengrösse von
10 μm oder
weniger und der untere Grenzwert kann eine Primärteilchengrösse von einigen Nanometern sein.
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Die
Beschichtungsmenge der feinen Teilchen beträgt vorzugsweise 3 g oder mehr,
besonders bevorzugt 5 g oder mehr pro 1 m2 des
Abschälmittels,
und der obere Grenzwert beträgt
bis zu etwa 30 g.
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Als
Bindemittel zur Dispergierung der feinen Teilchen können üblicherweise
verschiede Arten bekannter hydrophiler Bindemittel verwendet werden.
Beispielsweise sind Gelatine und deren Derivate, Polyvinylpyrrolidon,
Pullulan, Polyvinylalkohol und seine Derivate, Polyethylenglykol;
Carboxymethylcellulose, Hydroxyethylcellulose, Dextran, Dextrin,
Polyacrylsäure
und deren Salze, Agar, Carrageenan, Xanthangumi, Johannisbrotgummi,
Alginsäure,
Gummi arabicum, copolymerisiertes Polymer vom Polyalkylenoxid-Typ,
wasserlösliches
Polyvinylbutyral, ein Homopolymer oder Copolymer von Vinylmonomeren
mit Sulfonsäuregruppe
usw. zu nennen.
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Das
oben genannte Bindemittel wird vorzugsweise in einem geringeren
Anteil, bezogen auf die Menge der feinen Teilchen, verwendet, da
eine Schicht mit einer hohen Flüssigkeitsabsorptionsgeschwindigkeit
erhalten werden kann. Das Gewichtsverhältnis der feinen Teilchen zu
dem Bindemittel beträgt üblicherweise
vorzugsweise 100:90 bis 100:0,5, weiter bevorzugt 100:70 bis 100:5.
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Vorzugsweise
wird ein Vernetzungsmittel (ein Härter) in Kombination mit dem
oben genannten Bindemittel verwendet. Spezifische Beispiele für Vernetzungsmittel
sind Aldehydverbindungen, wie beispielsweise Formaldehyd, Glutaraldehyd
usw.; Ketonverbindungen, wie beispielsweise Diacetyl, Chlorpentandion
usw.; 2-Hydroxy-4,6-dichlor-1,3,5-triazin;
Verbindungen mit einem reaktiven Halogen, wie in US-PS 3 288 775
offenbart; Divinylbenzol; Verbindungen mit einem reaktiven Olefin,
wie in US-PS 3 635 718 offenbart; N-Methylolverbindungen, wie in
US-PS 2 732 316 offenbart; Isocyanate, wie in US-PS 3 103 437 offenbart;
Aziridinverbindungen, wie in den US-PSen 3 017 280 und 2 983 611
offenbart; Carbodiimidverbindungen, wie in US-PS 3 100 704 offenbart;
Epoxyverbindungen, wie in US-PS 3 091 537 offenbart; Halogencarboxyaldehyde,
wie Mucochlorsäure;
Dioxanderivate, wie Dihydroxydioxan; anorganische Vernetzungsmittel,
wie Chromalaun, Zirkonsulfat, Borsäure, Borate und dergleichen
und diese Verbindungen können
einzeln oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.
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Zur
Beschichtung einer Schicht, die die feinen Teilchen in einem Bindemittel
enthält,
ist es bevorzugt, mindestens ein Tensid, wie beispielsweise ein
anionisches, kationisches, nichtionisches oder Betaintyp-Tensid zur
Beschichtungslösung
zur Herstellung der Schicht zuzugeben.
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Die
Schicht kann eine Einzelschicht oder zwei oder mehrere Schichten
enthalten. Ferner kann unter der Schicht eine Schicht ohne feine
Teilchen bereitgestellt werden.
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Das
Substrat für
das Abschälblatt
kann entweder ein transparentes oder ein opakes Substrat sein. Beispiele
sind nicht-beschichtete Papiere, wie beispielsweise holzfeines Papier,
Holzschliffpapier, mittelfeines Druckpapier, superkalanderbehandeltes
Papier, einseitiges Kunstdruckpapier, Transparentpapier usw.; beschichtete
Papiere, wie beispielsweise Kunstpapier, beschichtetes Papier, leicht
beschichtetes Papier, feinbeschichtetes Papier, gussbeschichtetes
Papier usw.; ein Papier, das mit einem Harz, wie beispielsweise
Polyethylen usw. beschichtet ist, nicht-gewebter Stoff, gewebter
Stoff, Polyesterharz, Polycarbonatharz, Celluloseacetatharz, Acrylharz,
Cellophan, Aluminiumfolie und ein zusammengesetztes Substrat aus
mindestens zwei der oben genannten Materialien.
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Die
Dicke des Substrats ist nicht beschränkt und liegt üblicherweise
im Bereich von 100 bis 500 μm, vorzugsweise
30 bis 300 μm.
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Das
Abschälblatt
kann ein blattförmiges
Material mit im wesentlichen der gleichen Grösse wie die lithografische
Druckplatte sein, jedoch ist es zur Bewirkung einer kontinuierlichen
Verarbeitung in einer Plattenherstellungsvorrichtung bevorzugt,
ein kontinuierliches Material in Rollenform, wie in 1 gezeigt,
zu verwenden. Das Abschälblatt
in kontinuierlicher Längsrollenform
läuft vorzugsweise
von Rolle zu Rolle. Das heisst, das Abschälblatt (2) in kontinuierlich
in Längsrichtung
aufgewickelter Form wird von einer Masterrolle (5) zugeführt, mit
Quetschwalzen (3) in engen Kontakt mit einer lithografischen
Druckplatte gebracht, und nach dem Abschälen der Silberhalogenid-Emulsionsschicht
usw. rollenförmig
(6) aufgewickelt.
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Erfindungsgemäss ist die
Zeit vom Aufbringen des Abschälmittels
auf die Silberhalogenid-Emulsionsschicht bis zum Abschälen derselben
nicht sonderlich beschränkt,
wenn die Kontaktzeit jedoch zu lange ist, wie beispielsweise 10
oder mehr Sekunden bis zu mehreren 10 Sekunden, so wird die Beschichtungsschicht des
Abschälblattes
in unerwünschter
Weise abgeschält.
Daher liegt die Kontaktzeit vorzugsweise innerhalb von etwa 5 Sekunden,
weiter bevorzugt innerhalb von 3 Sekunden, im Fall der oben genannten
kontinuierlich in Längsrichtung
aufgerollten Form.
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Zur
Unterbrechung des Fortschreitens der Entwicklung oder anderer Verarbeitung
kann erfindungsgemäss
eine Neutralisierungs- oder Stabilisierungsverarbeitung vor oder
nach dem Abschälschritt
durchgeführt werden.
Das oben genannte oleophile Mittel kann in der Neutralisierungslösung enthalten
sein. Wenn die Neutralisierungslösung
verwendet wird, ist es wünschenswert,
die notwendige Menge durch Verwendung einer Beschichtungsvorrichtung
aufzubringen, so das die Abfallösung
so gering wie möglich
gehalten wird.
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Zur
Erhöhung
der jeweiligen Oleophilizität
und Hydrophilizität
und zum Schutz der Oberfläche
der Platte wird auf den Silberbildbereich und den Nicht-Bildbereich,
die auf der lithografischen Aluminium-Druckplatte offenliegen, eine
Verarbeitung mit einer Finishinglösung durchgeführt. Erfindungsgemäss ist es
bevorzugt, die Finishinglösung
unter Verwendung einer Beschichtungsvorrichtung aufzubringen. Es
ist bevorzugt, der Finishinglösung
Schutzkolloide, wie beispielsweise Gummi arabicum, Dextrin, Natriumalginat,
Propylenglykolester von Alginsäure,
Hydroxyethylstärke,
Carboxymethylcellulose, Hydroxyethylcellulose, Polyvinylpyrrolidon,
Polystyrolsulfonsäure,
Polyvinylalkohol usw.; zuzugeben, wodurch die Hydrophilizität der anodisierten
Schicht im Nicht-Bildbereich
geschützt
und verbessert wird. Ferner ist es bevorzugt, die oben genannten
oleophilen Mittel oder Enzyme zuzufügen, wodurch die Oleophilizität des Bildbereichs
weiter verbessert wird.
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Das
erfindungsgemässe
Abschälmittel
ist nicht nur auf die lithografische Aluminium-Druckplatte beschränkt, sondern
kann auch im Fall einer Silberhalogenid-Emulsionsschicht einer lithografischen
Druckplatte, wie beispielsweise in JP-OS 25739(1981 usw. beschrieben,
angewandt werden.
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Eine
weitere erfindungsgemässe
Ausführungsform
ist die Anwendung bei einem empfindlichen Material mit einer lichtempfindlichen
Nicht-Silberschicht (eine lichtempfindliche Schicht, die eine lichtempfindliche Zusammensetzung
umfasst, die kein Silbersalz enthält). Die vorliegende Erfindung
kann vorzugsweise bei einer lithografischen Druckplatte angewandt
werden, die eine lichtempfindliche Zusammensetzung umfasst.
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Das
oben genannte lichtempfindliche Material ist ein Material, das eine
lichtempfindliche Schicht aufweist, die eine Veränderung der Löslichkeit
gegenüber
einer alkalischen Lösung
im belichteten Bereich oder nicht-belichteten Bereich durch Belichtung
hervorruft, und die oben genannten herkömmlicherweise bekannten, lichtempfindlichen
Materialien sind hierin eingeschlossen. Dementsprechend ist es bezüglich eines
Bindemittels hierfür
bevorzugt, eine Löslichkeit
in einer wässrigen
Alkalilösung
aufzuweisen. Genauer ist ein Polymer, das ein carboxylgruppenhaltiges
Monomer als copolymerisierbare Komponente enthält, bevorzugt. Das Verhältnis des
carboxylgruppenhaltigen Monomers in den copolymerisierbaren Komponenten
beträgt
vorzugsweise 3 bis 99 Gew.%. Wenn die Menge unterhalb des obigen
Bereichs liegt, kann das resultierende Copolymer in einigen Fällen nicht
in einer wässrigen
Alkalilösung
aufgelöst
werden.
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Als
das oben genannte carboxylgruppenhaltige Monomer sind beispielsweise
Acrylsäure,
Methacrylsäure,
2-Carboxyethylacrylat, 2-Carboxyethylmethacrylat, Chrotonsäure, Maleinsäure, Fumarsäure, Monoalkylmaleat,
Monoalkylfumarat, 4-Carboxystyrol usw. zu nennen.
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Ferner
ist es bevorzugt, ein multidimensionales Copolymer durch Inkorporierung
einer anderen Monomerkomponente als des carboxylgruppenhaltigen
Monomers in das Copolymer herzustellen und zu verwenden. Ein solches
Monomer, das in das Copolymer inkorporiert werden kann, kann Styrolderivate
einschliessen, wie beispielsweise Styrol, 4-Methylstyrol, 4-Hydroxystyrol,
4-Acetoxystyrol, 4-Carboxystyrol, 4-Aminostyrol, Chlormethylstyrol, 4-Methoxystyrol
usw.; Alkylmethacrylate, wie beispielsweise Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat,
Butylmethacrylat, Hexylmethacrylat, 2-Ethylhexylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat,
Dodecylmethacrylat usw.; Arylmethacrylate oder Alkylarylmethacrylate,
wie beispielsweise Phenylmethacrylat, Benzylmethacrylat usw.; Methacrylate,
die eine Alkylenoxygruppe enthalten, wie beispielsweise 2-Hydroxyethylmethacrylat,
2-Hydroxypropylmethacrylat, Methoxydiethylenglykolmethacrylat, Methoxypolyethylenglykolmethacrylat,
Polypropylenglykolmethacrylat usw.; Methacrylate, die eine Aminogruppe
enthalten, wie beispielsweise 2-Dimethylaminoethylmethacrylat, 2-Diethylaminoethylmethacrylat
usw.; Acrylate, die den oben genannten Methacrylaten entsprechen;
Monomere mit einer Phosphorsäuregruppe,
wie beispielsweise Vinylphosphonsäure usw.; aminogruppenhaltige
Monomere, wie beispielsweise Allylamin, Diallylamin usw.; Vinylsulfonsäure und
deren Salze; Allylsulfonsäure
und deren Salze; Methallylsulfonsäure und deren Salze; Styrolsulfonsäure und
deren Salze; Monomere, die Sulfonsäuregruppen enthalten, wie beispielsweise
2-Acrylamido-2-methylpropansulfonsäure und deren Salze; Monomere,
die einen stickstoffhaltigen heterocyclischen Ring enthalten, wie
beispielsweise 4-Vinylpyridin, 2-Vinylpyridin, N-Vinylimidazol,
N-Vinylcarbazol usw.; Monomere, die eine quaternäre Ammoniumsalzgruppe enthalten,
wie beispielsweise 4-Vinylbenzoltrimethylammoniumchlorid, Acryloyloxyethyltrimethylammoniumchlorid,
Methacryloxyethyltrimethylammoniumchlorid, ein quaternäres Produkt
von Dimethylaminopropylacrylamid mit Methylchlorid, ein quaternäres Produkt
von N-Vinylimidazol mit Methylchlorid, 4-Vinylbenzylpyridiniumchlorid
usw.; Acrylnitril, Methacrylnitril; Acrylamid- oder Methacrylamidderivate,
wie beispielsweise Acrylamid, Methacrylamid, Dimethylacrylamid,
Diethylacrylamid, N-Isopropylacrylamid, Diacetonacrylamid, N-Methylolacrylamid,
N-Methoxyethylacrylamid, 4-Hydroxyphenylacrylamid usw.; Phenylmaleimid,
Hydroxyphenylmaleimid; Vinylester, wie Vinylacetat, Vinylchloracetat,
Vinylpropionat, Vinylbutyrat, Vinylstearat, Vinylbenzoat usw.; Vinylether,
wie Methylvinylether, Butylvinylether usw.; und andere verschiedene
Monomerarten, wie beispielsweise N-Vinylpyrrolidon, Acryloylmorpholin,
Tetrahydrofurfurylmethacrylat, Vinylchlorid, Vinylidenchlorid, Allylalkohol,
Vinyltrimethoxysilan, Glycidylmethacrylat und dergleichen. Der Anteil
dieser Monomere in dem Copolymer kann optional gewählt werden,
solange der Anteil des carboxylgruppenhaltigen Monomers in dem oben
genannten Copolymer beibehalten wird.
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Das
Molekulargewicht des oben genannten Polymers liegt vorzugsweise
im Bereich von etwa 1.000 bis 1.000.000, weiter bevorzugt etwa 10.000
bis 200.000 in Einheiten des Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewichts.
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Ein
Beispiel für
das erfindungsgemäss
zu verwendende lichtempfindliche Material ist von dem Typ, worin
eine Vernetzung durch Zersetzung eines Fotopolymerisationsinitiators,
der ein Radikal bildet, auftritt, und die Alkalibeständigkeit,
Lösungsmittelbeständigkeit
und dergleichen im vernetzten Bereich, der zum Abbild-ausbildenden
Bereich wird, verbessert wird, da der vernetzte Bereich nicht durch
die Einwirkung von starkem Alkali oder dergleichen hydrolysiert
wird.
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Beispiele
für den
Fotopolymerisationsinitiator, der ein Radikal bildet, können beliebige
Verbindungen einschliessen, die durch Fotoirridation ein Radikal
erzeugen, und sind vorzugsweise Trihaloalkyl-substituierte stickstoffhaltige,
heterocyclische Verbindungen, wie beispielsweise s-Triazinverbindungen
und Oxadiazolderivate; Trihaloalkylsulfonylverbindungen; kationische
Farbstoffe, die einen Borkomplex als Paaranion enthalten; eine Kombination
aus einem kationischen Farbstoff und einer quaternären Salzverbindung,
die einen Boratkomplex enthält;
Hexaarylbisimidazol; Titanocenverbindungen; Ketoximverbindungen;
Thioverbindungen; organische Peroxide und dergleichen. Ein Beispiel
für den
Fotopolymerisationsinitiator ist ein Fotoradikal-erzeugendes Mittel.
Wenn die Trihaloalkylsubstituierten stickstoffhaltigen heterocyclischen
Verbindungen oder die Trihaloalkylsulfonylverbindungen, wie oben
genannt, als Fotoradikal-erzeugendes Mittel verwendet werden, so können diese
alleine verwendet werden, falls sie eine Absorptionswellenlänge innerhalb
der Wellenlängen
der Belichtungslichtquelle aufweisen. Wenn der Absorptionswellenlängenbereich
der Triazinverbindung ausserhalb des Wellenlängenbereichs der Belichtungslichtquelle
liegt, wird vorzugsweise ein Farbstoff zur Absorption von Licht
im Wellenlängenbereich
der Lichtquelle zugegeben. Als ein solcher Farbstoff sind verschiedene Farbstoffe
zu nennen, einschliesslich Methin, Polymethin, Triarylmethan, Indolin,
Azin, Thiazin, Xanthen, Oxazin, Acridin, Cyanin, Carbocyanin, Hemicyanin,
Rhodamin, Azamethin usw..
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Zusätzlich zu
den oben genannten jeweiligen Komponenten können vorzugsweise andere Komponenten
zu der lichtempfindlichen Zusammensetzung für verschiedene Zwecke hinzugegeben
werden. Verschiedene Arten an Polymerisationsinhibitoren können besonders
bevorzugt zum Zweck der Verhinderung der thermischen Polymerisation
oder des thermischen Vernetzens und zur Verbesserung der Konservierung
der Zusammensetzung über
einen langen Zeitraum hinzugegeben werden. Als in diesem Fall zu
verwendende Polymerisationsinhibitoren werden vorzugsweise Verbindungen
verwendet, die verschiedene Arten an phenolischen Hydroxylgruppen
aufweisen, wie beispielsweise Hydrochinone, Catechole, Naphthole,
Kresole usw.; sowie Verbindungen vom Chinontyp und besonders bevorzugt
Hydrochinon. Die Menge des zuzugebenden Polymerisationsinhibitors
liegt vorzugsweise im Bereich von 0,1 bis 10 Gew.-Teilen auf Basis
von 100 Gew.-Teilen der Polymerkomponente.
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Als
lichtempfindliches Material, in dem die Radikalpolymerisation unter
Verwendung eines Fotopolymerisationsinitiators (oder Fotoradikalerzeugers)
angewandt wird, ist ein System, das ein (polyfunktionelles) Acrylatmonomer
einschliesst, allgemein bekannt. In diesem Fall verwendbare Acrylatmonomere
sind beispielsweise monofunktionelle Acrylmonomere, wie beispielsweise
Butylacrylat, Isobutylacrylat, Laurylacrylat, Cetylacrylat, Stearylacrylat,
Cyclohexylacrylat, Isonorborbornylacrylat, Benzylacrylat, 2-Phenoxyethylacrylat, Tetrahydrofurfurylacrylat,
2-Hydroxyethylacrylat, 2-Methoxyethylacrylat usw.; polyfunktionelle
Acrylmonomere, wie beispielsweise 1,4-Butandioldiacrylat, 1,6-Hexandioldiacrylat,
Neopentylglykoldiacrylat, Tetraethylenglykoldiacrylat, Trisacryloyloxyethylisocyanurat,
Tripropylenglykoldiacrylat, Ethylenglykolglycerintriacrylat, Glycerinepoxytriacrylat,
Trimethylolpropantriacrylat, Pentaerythritoltriacrylat, Pentaerythritoltetraacrylat
usw.; und dergleichen.
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Als
Elemente, die die lichtempfindliche Zusammensetzung bilden, können andere
Elemente für
verschiedene Zwecke zusätzlich
zu den oben genannten Elementen zugegeben werden. Vorzugsweise werden verschiedene
Arten an Farbstoffen oder Pigmenten zu der Zusammensetzung zur Erhöhung der
Erkennbarkeit der Eigenschaften eines Abbildes mit dem Auge zugegeben,
oder verschiedene Arten an anorganischen oder organischen feinen
Teilchen werden zur Verhinderung der Blockierung der lichtempfindlichen
Zusammensetzung zugegeben. Ferner können zum Schutz der lichtempfindlichen
Schicht eine andere Schicht oder andere Schichten, die an die lichtempfindliche
Schicht angrenzen, bereitgestellt werden.
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Die
Dicke der lichtempfindlichen Schicht selbst, die auf einem Träger ausgebildet
ist und als lithografische Druckplatte verwendet werden soll, liegt
vorzugsweise im Bereich von etwa 0,5 bis 10 μm, besonders bevorzugt 1 bis
5 μm, in
Einheiten der Trockenfilmdichte, wodurch die Druckdauerhaftigkeit
deutlich verbessert wird. Die lichtempfindliche Schicht kann durch
Herstellung einer Lösung
durch Vermischen verschiedener Komponenten, wie oben angegeben,
Aufschichten auf einen Träger
unter Verwendung herkömmlich
bekannter, verschiedener Beschichtungssysteme und Trocknen ausgebildet
werden. Als Träger
kann beispielsweise eine Folie oder ein Polyethylen-beschichtetes
Papier verwendet werden. Ein bevorzugter Träger ist eine gekörnte und
anodisierte Aluminiumplatte.
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Zur
Verwendung eines Materials mit der lichtempfindlichen Schicht, die
auf dem Träger
ausgebildet ist, wie oben angegeben, als Druckplatte, wird eine
Adhäsionsbelichtung
oder Laserstrahlrasterbelichtung durchgeführt. Die Löslichkeit im belichteten Bereich
in einer alkalischen Entwicklungslösung nimmt aufgrund der Vernetzung
im belichteten Bereich ab, so dass der unbelichtete Bereich durch
die alkalische Entwicklungslösung
aufgelöst
wird, wodurch ein Muster ausgebildet wird.
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Die
alkalische Entwicklungslösung
ist nicht sonderlich beschränkt,
solange es eine Lösung
ist, die in der Lage ist, das Polymer oder das Bindemittelharz der
vorliegenden Erfindung aufzulösen.
Besonders bevorzugt ist eine wässrige
Lösung,
worin mindestens eine alkalische Verbindung, wie beispielsweise
Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumsilicat, Kaliumsilicat,
Natriummetasilicat, Kaliummetasilicat, Monoethanolamin, Diethanolamin,
Triethanolamin, Triethylammoniumhydroxid usw., aufgelöst ist,
da eine solche Lösung
in guter Weise selektiv den unbelichteten Bereich auflösen kann,
und die Oberfläche
des Trägers
unter dem unbelichteten Bereich freilegt. Ferner werden verschiedene
Arten an Alkoholen, wie beispielsweise Ethanol, Propanol, Isopropanol,
Ethylenglykol, Diethylenglykol, Triethylenglykol, Glycerin, Benzylalkohol
usw., vorzugsweise zu der alkalischen Entwicklungslösung einzeln
oder in Kombination von zwei oder mehreren hinzugegeben. Nach der
Durchführung
der Entwicklungsbehandlung unter Verwendung einer solchen alkalischen
Entwicklungslösung
wird üblicherweise
eine Gummibeschichtung unter Verwendung von Gummi arabicum usw.
darauf durchgeführt.
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Erfindungsgemäss ist das
Timing zur Anwendung des Abschälmittels
auf dem lichtempfindlichen Material der Zeitpunkt, zu dem die lichtempfindliche
Schicht im belichteten oder nicht-belichteten Bereich des lichtempfindlichen
Materials durch das Abschälmittel
entfernbar wird, nachdem die lichtempfindliche Schicht durch die
alkalische Entwicklungslösung
teilweise aufgelöst
(oder gequollen) oder vollständig
aufgelöst
ist. Unter den oben genannten Gesichtspunkten ist es bevorzugt,
das Beschichtungsentwicklungssystem anzuwenden, worin die notwendige
Menge an Entwicklungslösung
auf die obere Oberfläche
des lichtempfindlichen Materials aufgeschichtet und darauf gehalten
wird. Die Menge an aufzuschichtender Entwicklungslösung beträgt vorzugsweise
etwa 20 bis 100 ml, weiter bevorzugt 30 bis 80 ml pro m2 an
lichtempfindlichem Material.
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Erfindungsgemäss ist der
Zeitpunkt zur Anwendung des Abschälmittels zum Abschälen der
lichtempfindlichen Schicht nicht beschränkt. wenn die Kontaktzeit zu
lang ist, wie beispielsweise einige 10 Sekunden, so wird die Beschichtungsschicht
des Abschälblattes
in unerwünschter
Weise abgeschält.
Daher ist es in dem oben genannten Fall des kontinuierlich in Längsrichtung
aufgerollten Zustands bevorzugt, das Abschälen mit einer Kontaktzeit von
innerhalb von 5 Sekunden, besonders bevorzugt innerhalb von 3 Sekunden,
durchzuführen.
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BEISPIELE
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Nachfolgend
wird die vorliegende Erfindung unter Bezugnahme auf Beispiele erläutert.
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BEISPIEL 1
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Nach
dem in US-PS 5 427 889 beschriebenen Verfahren, das hierin durch
Bezugnahme eingeschlossen ist, wurden eine elektrolytische Aufrauhbehandlung
und eine Anodisierung an einem Aluminiumträger durchgeführt, wodurch
ein Aluminiumträger
mit einer Dicke von 0,03 bis 0,30 μm erhalten wurde, bei dem Vertiefungen
mit einem Durchmesser von 0,03 bis 0,3 μm ausgebildet wurden, mit etwa
5.600 pro 100 μm2 auf einem Plateau mit einem durchschnittlichen
Durchmesser von etwa 5 μm,
und die Vertiefung hat einen durchschnittlichen Durchmesser von
0,08 μm.
Dieser Aluminiumträger
wurde nach der Oberflächenaufrauhungsbehandlung
einer Anodisierung unterzogen, und die Menge an Aluminiumoxid betrug
2,5 g/m2 und die durchschnittliche Rauhigkeit
(Ra), gemessen gemäss
JIS B 0601 (1994) betrug 0,5 bis 0,6 μm.
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Auf
den Aluminiumträger
wurde eine Palladiumsulfid-Keimschicht
aufgeschichtet und dann getrocknet. Die Menge an in der physikalischen
Entwicklungskeimschicht enthaltenen Keimen betrug 3 mg/m2.
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Als
hydrophiles Kolloid wurde alkalibehandelte Gelatine verwendet. Als
Silberhalogenidemulsion wurde eine Silberchloriodbromidemulsion,
die 15 mol-% Silberbromid und 0,4 mol-% Silberiodid enthielt und
eine durchschnittliche Teilchengrösse von 0,2 μm aufwies,
und die mit 0,006 mmol Kaliumhexachloriridat(IV) pro Mol Silber
dotiert war, nach dem gesteuerten Doppelstrahlverfahren hergestellt.
Anschliessend wurde die Emulsion ausgeflockt und gewaschen. Darüber hinaus
wurde nach Durchführung
einer Schwefel-Gold-Sensibilisierung ein Stabilisator zu der Emulsion
zugegeben und dann unter Verwendung von 3 mg eines rotempfindlichen
Sensibilisierungsfarbstoffs pro 1 g Silber spektralsensibilisiert.
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Zu
der so hergestellten Silberhalogenidemulsion wurde ein Tensid hinzugegeben,
wodurch eine Beschichtungslösung
erhalten wurde. Diese Beschichtungslösung für eine Emulsionsschicht wurde
auf dem Aluminiumträger,
auf dem die oben genannten physikalischen Entwicklungskerne aufgeschichtet
wurden, aufgeschichtet, so dass die Menge an Silber 2,2 g/m2 (was 3,46 g in Einheiten von Silbernitrat
entspricht) und die Gelatinemenge 2,2 g/m2 betrug,
gefolgt von Trocknen, wodurch ein lithografisches Druckmaterial
erhalten wurde.
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Auf
dem so hergestellten lithografischen Druckmaterial (A2-Format) wurde
ein Bild mit einer Ausgabevorrichtung mit einem roten LD-Laser bei
633 nm als Lichtquelle ausgegeben. Dann wurde das lithografische Druckmaterial
mit einer Entwicklungsvorrichtung zur Plattenherstellung, wie in 1 angegeben,
entwickelt, wodurch eine lithografische Druckplatte erhalten wurde.
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Die
Zusammensetzungen der Entwicklungslösung, der Neutralisierungslösung und
der Finishinglösung,
die in dieser Entwicklung verwendet wurden, sind unten angegeben.
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Die
Entwicklungslösung
wurde unter Verwendung des in 1 gezeigten
Beschichtungsgeräts
(1) so aufgeschichtet, dass die Menge 30 ml/g Gelatine
im lithografischen Druckmaterial (P) betrug. Die Temperatur der
Entwicklungslösung
betrug 25°C.
15 Sekunden nach dem Aufschichten der Entwicklungslösung wurde
die Masterrolle (5) des Abschälblattes so bewegt, dass das
aufgerollte Abschälblatt
(2) durch Quetschwalzen (3) in engen Kontakt mit
der Oberfläche
der lithografischen Druckplatte gebracht und die Silberhalogenid-Emulsionsschicht
abgeschält
wurde. Anschliessend wurde das Abschälblatt (2) auf der
Rolle (6) aufgerollt. Gummiwalzen (4) wurden nicht
verwendet. Das Abschälblatt
war ein aufgewickeltes Abschälblatt
mit einer feinen Teilchenschicht, die hergestellt wurde durch Aufschichten
einer wässrigen Dispersion,
worin 100 Gew.-Teile Silica und 30 Gew.-Teile Gelatine in Wasser
dispergiert waren, auf einem Polyethylenharz-beschichteten Papier. Trotz
der sehr kurzen Kontaktzeit (etwa 1 Sekunde oder kürzer) wurde
die gesamte Silberhalogenid-Emulsionsschicht auf die Beschichtungsschicht
des aufgewickelten Abschälblattes übertragen.
Abfallflüssigkeit
aus Entwicklungslösung
wurde im wesentlichen nicht erzeugt.
-
Anschliessend
wurden die Neutralisationslösung
und die Finishinglösung
nacheinander unter Verwendung der gleichen Vorrichtung, die in der
Entwicklungsprozedur verwendet wurde, aufgeschichtet. Zwischen der
Neutralisationslösungs-Beschichtungsvorrichtung
(in der Figur nicht gezeigt) und der Finishinglösungs-Beschichtungsvorrichtung (in der Figur
nicht gezeigt) und nach der Finishinglösungs-Beschichtungvorrichtung wurden
Trocknungsvorrichtungen (in der Figur nicht gezeigt) bereitgestellt,
so dass die Neutralisationslösung und
die Finishinglösung
getrocknet wurden. Die Beschichtungsmengen der Neutralisierungslösung und
der Finishinglösung
betrugen jeweils 20 ml/m2 der lithografischen
Druckplatte.
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Folglich
konnten die Plattenherstellungsprozeduren durchgeführt werden,
ohne dass wesentliche Mengen an Abfallflüssigkeiten zwischen der Entwicklungsverarbeitung
und der Finishingverarbeitung erzeugt wurden. Mit der so hergestellten
lithografischen Druckplatte wurde unter Verwendung eines Heidelberg TOK-Druckers
(Warenzeichen, eine Offset-Druckpresse, hergestellt von Heidelberg
Co.), Tinte (New Champion Black H, Warenzeichen, hergestellt von
Dainippon Ink Co., Japan) und kommerziell erhältlicher Benetzungslösung für eine PS-Platte
gedruckt. Im Ergebnis zeigte sich die lithografische Druckplatte
als exzellent hinsichtlich der tintenaufnehmenden Eigenschaften
und hatte eine hohe Druckdauerhaftigkeit von 100.000 Blatt oder
mehr.
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BEISPIEL 2
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Die
in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellte Entwicklungslösung wurde
auf ein lithografisches Druckmaterial in einer Menge von 40 ml/g
Gelatine aufgeschichtet und 15 Sekunden später wurde die Masterrolle (5)
des Abschälblattes
so bewegt, dass das aufgewickelte Abschälblatt (2) mit Abquetschwalzen (3)
in engen Kontakt mit der Oberfläche
der lithografischen Druckplatte gebracht wurde und die Silberhalogenid-Emulsionsschicht
abgeschält
wurde. Die gesamte Silberhalogenid-Emulsionsschicht wurde auf die
Beschichtungsschicht des aufgewickelten Abschälblattes übertragen. Es wurde im wesentlichen
keine Abfallflüssigkeit
der Entwicklungslösung
erzeugt.
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Anschliessend
wurde das Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte
in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt und dann gedruckt. Wie
in Beispiel 1 war die lithografische Druckplatte hinsichtlich der
Tintenaufnahmeeigenschaften exzellent und hatte eine hohe Druckdauerhaftigkeit
von 100.000 Blatt oder mehr.
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BEISPIEL 3
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Die
in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellte Entwicklungslösung wurde
in einer Menge von 70 ml/g Gelatine auf ein lithografisches Druckmaterial
aufgeschichtet und 12 Sekunden später wurden etwa 40 % der aufgeschichteten
Entwicklungslösung
durch Gummiwalzen (4) entfernt, und die Silberhalogenid-Emulsionsschicht
wurde in gleicher Weise nach 15 Sekunden entfernt. Anschliessend
wurde das Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte
in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt, und anschliessend gedruckt.
Die lithografische Druckplatte hatte exzellente Tintenaufnahmeeigenschaften
und eine hohe Druckdauerhaftigkeit von 10.000 Blatt oder mehr.
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BEISPIEL 4
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In
der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde eine physikalische Entwicklungskeimschicht
auf einem Aluminiumträger
aufgeschichtet und getrocknet.
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In
der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde eine Silberhalogenidemulsion
hergestellt.
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Zu
der so hergestellten Silberhalogenidemulsion wurde ein Tensid hinzugegeben,
wodurch eine Beschichtungslösung
hergestellt wurde. Diese Beschichtungslösung für eine Emulsionsschicht wurde
auf den Aluminiumträger,
auf den die oben genannten physikalischen Entwicklungskeime aufgeschichtet
wurden, aufgeschichtet, so dass die Menge an Silber 2 g/m2 (entsprechend 3,15 g in Einheiten von Silbernitrat)
und die Gelatinemenge 2 g/m2 betrug, gefolgt
von Trocknen, wodurch ein lithografisches Druckmaterial erhalten
wurde.
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Auf
dem so hergestellten lithografischen Druckmaterial (A2-Format) wurde
ein Bild mit einer Ausgabevorrichtung mit einem roten LD-Laser bei
633 nm als Lichtquelle ausgegeben. Dann wurde das lithografische Druckmaterial
mit einer Entwicklungsvorrichtung zur Plattenherstellung, wie in 1 angegeben,
entwickelt, wodurch eine lithografische Druckplatte erhalten wurde.
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Die
Entwicklungslösung,
die Neutralisationslösung
und die Finishinglösung
waren die gleichen wie in Beispiel 1.
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Die
Entwicklungslösung
wurde unter Verwendung der Beschichtungsvorrichtung (1),
wie in 1 gezeigt, so aufgeschichtet, dass deren Menge
70 ml/m2 des lithografischen Druckmaterials
(P) betrug. Die Temperatur der Entwicklungslösung betrug 23°C. 15 Sekunden
nach dem Aufschichten der Entwicklungslösung wurde die Masterrolle
(5) des Abschälblattes
so bewegt, dass das aufgerollte Abschälblatt (2) durch Quetschwalzen
(3) in engen Kontakt mit der Plattenoberfläche gebracht
und die Silberhalogenid-Emulsionsschicht abgeschält wurde. Anschliessend wurde
das Abschälblatt
(2) in Rollenform (6) aufgerollt. Es wurden keine
Abquetschwalzen (4) verwendet. Zur Herstellung des Abschälblattes
wurden die folgenden Materialien verwendet.
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Abschälblatt (A):
Ein Material mit einer Schicht, die durch Aufschichten einer wässrigen
Dispersion, worin 100 Gew.-Teile Trockenverfahren-Silica mit einer
durchschnittlichen Korngrösse
von 8 nm und 40 Gew.-Teile Polyvinylalkohol in Wasser dispergiert
wurden, in einer Polyvinylalkoholmenge von 6 g/m2 hergestellt
wurde.
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Abschälblatt (B).
Ein Material, das eine wässrige
Lösung
umfasst, die Gelatine und Polyvinylpyrrolidon in einem Gewichtsverhältnis von
1:1 enthält,
die auf einem Polyethylenharz-beschichteten Papier in einer Menge
der Polymerfeststoffkomponente von 6 g/m2 aufgeschichtet
wurde.
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Abschälblatt (C):
Ein Material, worin eine Gelatineschicht, die 5 Gew.% Silicateilchen
mit einer durchschnittlichen Teilchengrösse von 5 μm, basierend auf der Menge an
Gelatine, enthielt, auf ein Polyethylenharzbeschichtetes Papier
in einer Gelatinemenge von 3 g/m2 aufgeschichtet
und gehärtet
wurde.
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Durch
Messung unter Verwendung eines dynamischen Scanning-Flüssigkeitsabsorptionsmessgeräts (erhältlich von
Kyowa Seiko K.K., Handelsname: KM350D) zeigte das Abschälblatt (A)
Flüssigkeitsabsorptionseigenschaften
von einer Flüssigkeitsabsorptionsmenge
innerhalb von 0,1 Sekunden nach dem Kontaktieren mit der oben genannten
Entwicklungslösung
von 36 ml/m2, und eine Flüssigkeitsabsorptionsmenge
innerhalb von 0,2 Sekunden nach demselben von 43 ml/m2.
Das Abschälblatt
(B) hatte Flüssigkeitsabsorptionseigenschaften
von einer Flüssigkeitsabsorptionsmenge
innerhalb von 0,1 Sekunden nach dem Kontaktieren mit der oben genannten
Entwicklungslösung
von 6 ml/m2 und einer Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb
von 0,2 Sekunden nach derselben von 13 ml/m2.
Das Abschälblatt
(C) hatte Flüssigkeitsabsorptionseigenschaften von
einer Flüssigkeitsabsorptionsmenge
innerhalb von 0,1 Sekunden nach dem Kontaktieren mit der oben genannten
Entwicklungslösung
von 4 ml/m2 und eine Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb
von 0,2 Sekunden nach derselben von 9 ml/m2.
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Trotz
der sehr kurzen Kontaktzeit (etwa 0, bis 0,3 Sekunden, die in Abhängigkeit
von der Vortriebsgeschwindigkeit der Platte variieren kann) wurde
die gesamte Silberhalogenid-Emulsionsschicht auf die Beschichtungsschicht
des aufgerollten Abschälblattes
(A) übertragen.
Es wurde im wesentlichen keine Abfallflüssigkeit der Entwicklungslösung erzeugt.
Im Gegensatz dazu konnte mit den Abschälblättern (B) und (C) keine Abschälung der
Emulsionsschicht erzielt werden.
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Die
lithografische Druckplatte, die unter Verwendung des Abschälblattes
(A) abgeschält
wurde, wurde dann nacheinander mit der Neutralisationslösung und
der Finishinglösung
unter Verwendung der gleichen Beschichtungsvorrichtungen wie für die Entwicklungslösung beschichtet.
Trocknungsvorrichtungen (in den Figuren nicht gezeigt) wurden zwischen
der Neutralisationslösungs-Beschichtungsvorrichtung
(in der Figur nicht gezeigt) und der Finishinglösungs-Beschichtungvorrichtung
(in der Figur nicht gezeigt) und nach der Finishinglösungs-Beschichtungsvorrichtung
bereitgestellt, so dass die Neutralisationslösung und die Finishinglösung getrocknet
wurden. Die Beschichtungsmengen der Neutralisationslösung und
der Finishinglösung
wurden jeweils auf 20 ml/m2 der lithografischen
Druckplatte eingestellt.
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Auf
diese Weise konnten die Plattenherstellungsprozeduren durchgeführt werden,
ohne dass wesentliche Mengen an Abfallflüssigkeiten zwischen der Entwicklungsprozedur
und der Finishingprozedur erzeugt wurden. Mit der lithografischen
Druckplatte, die unter Verwendung des Abschälblattes (A) hergestellt wurde, wurde
unter Verwendung eines Heidelberg TOK-Druckers (Warenzeichen, Offset-Druckpresse,
hergestellt von Heidelberg Co.), Tinte (New Champion Black H, Warenzeichen,
hergestellt von Dainippon Ink Co., Japan) und einer kommerziell
erhältlichen
Vernetzungslösung
für eine
PS-Platte gedruckt. Als Ergebnis zeigte die Druckplatte exzellente
Tintenaufnahmeeigenschaften und eine hohe Druckdauerhaftigkeit von
100.000 Blatt oder mehr.
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BEISPIEL 5
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Das
Experiment wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 4 durchgeführt, mit
dem Unterschied, dass das unten angegebene Abschälblatt verwendet wurde.
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Abschälblatt (D):
Ein Material mit einer Schicht, die hergestellt wurde durch Aufschichten
einer wässrigen
Dispersion, worin 100 Gew.-Teile Trockenverfahren-Silica mit einer
durchschnittlichen Korngrösse
von 7 nm und 30 Gew.-Teilen Polyvinylalkohol in Wasser dispergiert
waren, auf einer Papieroberflächenseite
eines Substrats, worin ein Polyethylenharz auf einer Seite des Papiers
aufgeschichtet war, in einer Polyvinylalkoholmenge von 6 g/m2.
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Abschälblatt (E):
Ein Material mit einer Schicht, die hergestellt wurde durch Aufschichten
einer Beschichtungslösung,
die 100 Gew.-Teile Aluminasol und 5 Gew.-Teile Polyvinylalkohol
mit einem Feststoffgehalt von 10 g/m2 enthielt,
auf ein synthetisches Papiersubstrat mit einem Basisgewicht von
60 g/m2.
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Bei
der Messung unter Verwendung eines dynamischen Scanning-Flüssigkeitsabsorptionsmessgeräts zeigte
das Abschälblatt
(D) die Flüssigkeitsabsorptionseigenschaften
von einer Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb
von 0,1 Sekunden nach der Kontaktierung mit der oben genannten Entwicklungslösung von
44 ml/m2 und eine Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb
von 0,2 Sekunden nach derselben von 53 ml/m2.
Das Abschälblatt
(E) hatte Flüssigkeitsabsorptionseigenschaften
von einer Flüssigkeitsabsorptionsmenge
innerhalb von 0,1 Sekunden nach der Kontaktierung mit der oben genannten Entwicklungslösung von
19 ml/m2 und eine Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb
von 0,2 Sekunden nach derselben von 27 ml/m2.
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In
den beiden Abschälblättern (D)
und (E) waren die Abschäleigenschaften
der Emulsionsschicht und die Druckeigenschaften jeweils so exzellent
wie in Abschälblatt
(A). Ferner wurde in beiden Fällen
keine Abfallflüssigkeit
an Entwicklungslösung
erzeugt.
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BEISPIEL 6
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In
der gleichen Weise wie in Beispiel 4 wurden die Abschälblätter (F)
bis (H) mit den folgenden Flüssigkeitsabsorptionseigenschaften
hergestellt, mit dem Unterschied, dass die Beschichtungsmenge der
Silicaschicht im Abschälblatt
(A) verändert
wurde. Im Abschälblatt
(F) betrugen die Flüssigkeitsabsorptionsmengen (ml)
0,1 Sekunden/0,2 Sekunden nach der Kontaktierung mit der Entwicklungslösung pro
m2, 22 ml bzw. 28 ml. Gleichermassen betrugen
sie 13 ml/18 ml im Abschälblatt
(E) und 17 ml/11 ml im Abschälblatt
(H).
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Es
wurden lithografische Druckmaterialien hergestellt und es wurde
gemäss
Beispiel 4 gedruckt. Als Ergebnis zeigten die Abschälblätter (F)
und (G) exzellente Abschäleigenschaften
und Druckeigenschaften wie Abschälblatt
(A), beim Abschälblatt
(H) wurden jedoch geringfügig
verschlechterte Ergebnisse beim Abschälen erzielt. Wenn jedoch die
Abquetschwalzen (4) bewegt wurden und eine geringe Menge
der Entwicklungslösung
bei Herstellen der lithografischen Druckplatte abgequetscht wurde,
wurden sowohl hinsichtlich der Abschäleigenschaften als auch der
Druckeigenschaften gute Ergebnisse erzielt, auch wenn das Abschälblatt (H) verwendet
wurde.
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BEISPIEL 7
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Gemäss dem in
US-PS 5 427 889 offenbarten Verfahren, das hierin unter Bezugnahme
eingeschlossen ist, wurden eine elektrolytische Aufrauhbehandlung
und eine Anodisierung eines Aluminiumträgers durchgeführt, wodurch
ein Aluminiumträger
mit einer Dicke von 0,30 mm erhalten wurde, auf den Vertiefungen
mit einem Durchmesser von 0,03 bis 0,30 μm in einer Menge von etwa 2.700/100 μm2 auf einem Plateau mit einem Durchschnittsdurchmesser
von etwa 5 μm
ausgebildet wurden, und die Vertiefungen hatten einen Durchschnittsdurchmesser
von 0,13 μm.
Dieser Aluminiumträger
wurde nach der Oberflächenaufrauhbehandlung
einer Anodisierung unterzogen und wies eine Aluminiumoxidmenge von
2,0 g/m2 und eine durchschnittliche Rauhigkeit
(Ra), gemessen gemäss
JIS B 0601 (1994), von 0,4 bis 0,5 μm auf.
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Auf
den Aluminiumträger
wurden Palladiumsulfidkeime aufgeschichtet und getrocknet. Die in
der physikalischen Entwicklungskeimschicht enthaltenen Keime betrugen
3 mg/m2.
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Als
hydrophiles Kolloid wurde alkalibehandelte Gelatine verwendet. Als
Silberhalogenidemulsion wurde eine Silberchlorbromidemulsion, die
1,5 mol-% Silberbromid enthielt und eine durchschnittliche Teilchengrösse von
0,3 μm aufwies,
und die mit 0,006 mmol Kaliumhexachloriridat(IV) pro Mol Silber
dotiert war, nach dem gesteuerten Doppelstrahlverfahren hergestellt.
Dann wurde die Emulsion mit KI entsprechend 0,3 mol-% Silberiodid
nach Beendigung der physikalischen Reifung umgewandelt, wodurch
eine Silberchloriodbromidemulsion hergestellt wurde. Anschliessend
wurde die Emulsion ausgeflockt und gewaschen. Darüber hinaus wurde,
nachdem Gelatine zu der Emulsion zugegeben und eine Schwefel-Gold-Sensibilisierung
an der Emulsion durchgeführt
worden war, ein Stabilisator hinzugegeben und dann unter Verwendung
von 3 mg eines rotempfindlichen Sensibilisierungsfarbstoffs pro
1 g Silber spektralsensibilisiert.
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Zu
der so hergestellten Silberhalogenidemulsion wurde ein Tensid hinzugegeben
und der Gelatinegehalt wurde eingestellt, wodurch eine Beschichtungslösung zur
Ausbildung einer Silberhalogenid-Emulsionsschicht mit einem Verhältnis von
Silbernitrat zu Gelatine wie unten angegeben hergestellt wurde.
Diese Beschichtungslösungen
wurden auf dem Aluminiumträger
aufgeschichtet, auf den die oben genannten physikalischen Entwicklungskeime
aufgeschichtet waren, so dass die Menge an Silber (Silbernitratmenge)
2,5 g/m2 betrug, gefolgt von Trocknen, wodurch
ein lithografisches Druckmaterial erhalten wurde.
Probe 1:
(Gelatine)/(Silberhalogenid in Einheiten von Silbernitrat) = 0,8
Probe
2: (Gelatine)/(Silberhalogenid in Einheiten von Silbernitrat) =
0,6
Probe 3: (Gelatine)/(Silberhalogenid in Einheiten von Silbernitrat)
= 0,4
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Auf
dem so hergestellten lithografischen Druckmaterial (A2-Format) wurde
ein Bild mit einer Ausgabevorrichtung mit einem roten LD-Laser bei
633 nm als Lichtquelle ausgegeben. Dann wurde das lithografische Druckmaterial
mit einer Entwicklungsvorrichtung zur Plattenherstellung, wie in 1 angegeben,
entwickelt, wodurch eine lithografische Druckplatte erhalten wurde.
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Die
Entwicklungslösung,
die Neutralisationslösung
und die Finishinglösung
waren die gleichen wie in Beispiel 1.
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Die
Entwicklungslösung
wurde unter Verwendung der in 1 gezeigten
Entwicklungsvorrichtung (1) so aufgeschichtet, dass deren
Menge auf 60 ml und 40 ml pro m2 des lithografischen
Druckmaterials (P) verändert
wurde. Es wurde keine Einstellung der Temperatur der Entwicklungslösung durchgeführt, jedoch
war die Temperatur zum Zeitpunkt der Entwicklung 23°C und die
relative Feuchtigkeit betrug 63 %. Die Plattenoberflächentemperatur
zum Zeitpunkt der Entwicklung betrug 21°C. 15 Sekunden nach dem Aufschichten
der Entwicklungslösung
wurde die Masterrolle (5) des Abschälblattes bewegt, so dass das
aufgerollte Abschälblatt (2)
durch Gummiwalzen (2) in engen Kontakt mit der Plattenoberfläche gebracht
und die Silberhalogenid-Emulsionsschicht abgeschält wurde. Anschliessend wurde
das Abschälblatt
(2) rollenförmig
(6) aufgerollt. Es wurden keine Abquetschwalzen (4)
verwendet. Die Kontaktzeit des Abschälblattes betrug etwa 0,2 Sekunden.
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Als
Abschälblatt
wurde ein Material mit einer Hohlschicht verwendet, das hergestellt
wurde durch Aufschichten einer wässrigen
Dispersion, worin 100 Gew.-Teile Trockenverfahren-Silica mit einer
durchschnittlichen Teilchengrösse
von 7 nm und 40 Gew.-Teile Polyvinylalkohol in Wasser dispergiert
waren, in einer Polyvinylalkoholmenge von 6 g/m2 auf übliches
holzfreies Papier mit einem Gewicht von 70 g/m2.
Dieses Abschälblatt hatte
Flüssigkeitsabsorptionseigenschaften
von einer Flüssigkeitsabsorptionsmenge
innerhalb von 0,1 Sekunden nach der Kontaktierung mit der oben genannten
Entwicklungslösung
von 39 ml/m2, und eine Flüssigkeitsabsorptionsmenge
innerhalb von 0,2 Sekunden nach derselben von 48 ml/m2 bei
der Messung unter Verwendung eines dynamischen Scanning-Flüssigkeitsabsorptionsmessgeräts.
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Die
lithografische Druckplatte, bei der die Silberhalogenid-Emulsionsschicht
unter Verwendung des Abschälblattes
abgeschält
wurde, wurde dann nacheinander mit der Neutralisationslösung und
der Finishinglösung
unter Verwendung der gleichen Beschichtungsvorrichtungen wie für die Entwicklungslösung beschichtet.
Trocknungsvorrichtungen (in den Figuren nicht gezeigt) wurden zwischen
der Neutralisationslösungs-Beschichtungsvorrichtung
(in der Figur nicht gezeigt) und der Finishinglösungs-Beschichtungvorrichtung
(in der Figur nicht gezeigt) und nach der Finishinglösungs-Beschichtungsvorrichtung
bereitgestellt, so dass die Neutralisationslösung und die Finishinglösung getrocknet
wurden. Die Beschichtungsmengen der Neutralisationslösung und
der Finishinglösung
wurden jeweils auf 20 ml/m2 der lithografischen
Druckplatte eingestellt.
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Auf
diese Weise konnten die Plattenherstellungsprozeduren durchgeführt werden,
ohne dass wesentliche Mengen an Abfallflüssigkeiten zwischen der Entwicklungsprozedur
und der Finishingprozedur erzeugt wurden. Mit der so hergestellten
lithografischen Druckplatte wurde unter Verwendung eines Heidelberg TOK-Druckers
(Warenzeichen, Offset-Druckpresse, hergestellt von Heidelberg Co.),
Tinte (New Champion Black H, Warenzeichen, hergestellt von Dainippon
Ink Co., Japan) und einer kommerziell erhältlichen Vernetzungslösung für eine PS-Platte
gedruckt. Dann wurden die Bewertungen des Abschälzustands der Silberhalogenid-Emulsionsschicht,
die Tintenaufnahmeeigenschaften bei Drucken und die Druckdauerhaftigkeit
vorgenommen. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 angegeben.
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Abschäleigenschaften der Silberhalogenid-Emulsionsschicht:
-
-
- O:
- keine sichtbaren Rückstände der
Silberhalogenidemulsion und vollständige Abschälung.
- X:
- die Silberhalogenid-Emulsionsschicht
wurde nicht vollständig
abgeschält.
-
Tintenaufnahmeeigenschaft:
-
Diese
wurde anhand der Anzahl von gedruckten Blättern bestimmt, bis ausreichende
Tintenkonzentrationen erhalten wurden. Eine geringere Anzahl an
Blättern
bedeutet bessere Eigenschaften.
-
Druckdauerhaftigkeit:
-
Die
Druckdauerhaftigkeit wurde durch die Anzahl von gedruckten Blättern bestimmt,
ab der aufgrund von unzureichendem Silberbild kein Druck mehr durchgeführt werden
konnte. Eine grössere
Anzahl an Blättern
bedeutet bessere Eigenschaften.
-
-
BEISPIEL 8
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In
der gleichen Weise wie in Beispiel 7, mit dem Unterschied, dass
ferner eine Gelatine-Schutzschicht in einer Menge von 0,5 g/m2 zu den Proben 1 bis 3 in Beispiel 7 zugegeben
wurde, wurden die Proben 1a, 2a und 3a hergestellt. Lithografische
Druckplatten wurden in der gleichen Weise wie in Beispiel 7 hergestellt
und in der gleichen Weise ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle
2 angegeben.
-
-
BEISPIEL 9
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Eine
lithografische Druckplatte, die eine lichtempfindliche Zusammensetzung,
die kein Silbersalz enthielt, umfasste, wurde gemäss dem in
JP-OS 212252/1999 beschriebenen Verfahren hergestellt.
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Das
heisst, das Polymer der Formel (I), wie unten angegeben, wurde in
einem gemischten Lösungsmittel
aus Methanol/Dioxan (1:1, Gewichtsverhältnis) unter Erwärmen aufgelöst, wodurch
eine 10 Gew.%-ige Lösung
in einer Menge von 100 g hergestellt wurde. Zu der Lösung wurden
60 g eines Resolharzes (Shownol CKS-3866, Kondensat von Bisphenol
A und Formalin, durchschnittlicher Polymerisationsgrad: 6, erhältlich von Showa
Kobunshi K.K., Japan) als Methylolverbindung zugegeben. Ferner wurden
als Säureerzeuger
2 g Diphenyliodoniumtrifluormethansulfonat (erhältlich von Tokyo Kasei K.K.,
Japan) zu der Mischung hinzugegeben und dann wurden 0,1 g des unten
gezeigten Fotosensibilisierungsfarbstoffs der Formel (II) zugegeben
und darin aufgelöst.
Die resultierende Lösung
wurde auf eine aufgerauhte und anodisierte Aluminiumplatte unter Verwendung
einer Luftrakelklinge so aufgeschichtet, dass die Beschichtungsmenge
in getrocknetem Zustand 2,0 g/m2 betrug,
und in einem Trockner bei 70°C
für 10
Minuten getrocknet, wodurch ein lithografisches Druckplattenmaterial
hergestellt wurde.
-
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Als
Ausgabevorrichtung wurde ein Halbleiterlaser mit einer Ausgabewellenlänge von
830 nm und einer Leistung von 2 W verwendet. Die oben genannte lithografische
Druckplatte wurde auf einer Trommel aufgewickelt und pulsweise belichtet,
wodurch ein Auflösungstestmuster
aufgedruckt wurde. Nach der Belichtung wurde die lithografische
Druckplatte einer Wärmebehandlung
bei 100°C
für 2 Minuten
unterzogen.
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Die
wärmebehandelte
lithografische Druckplatte wurde unter verwendet der in 1 gezeigten
Vorrichtung der Entwicklungsbehandlung unterzogen und dann wurde
die ungehärtete
Harzschicht mit einem Abschälblatt
abgeschält.
Als Entwicklungslösung
wurde eine 6 %-ige wässrige
Natriummetasilicatlösung
verwendet. Die Entwicklungslösung
wurde so aufgeschichtet, das deren Menge 70 ml/m2 der
lithografischen Druckplatte betrug. Die Temperatur der Entwicklungslösung betrug
23°C. 15
Sekunden nach dem Aufschichten der Entwicklungslösung wurde die Masterrolle
(5) des Abschälblattes
bewegt, so dass das aufgerollte Abschälblatt (2) durch Gummiwalzen
(3) in engen Kontakt mit der Plattenoberfläche gebracht
und die lichtempfindliche Schicht abgeschält wurde. Anschliessend wurde
das Abschälblatt
(2) in Rollenform (6) aufgerollt. Vor Aufbringen
des Abschälblattes
auf die Platte wurde überschüssige Entwicklungslösung durch
Abquetschwalzen entfernt. Als Abschälblatt wurden die in Beispiel
4 hergestellten Abschälblätter (A),
(B) und (C) verwendet.
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Beim
Abschälblatt
(A) wurde trotz der kurzen Kontaktzeit (etwa 0,1 bis 0,3 Sekunden,
die in Abhängigkeit
von der Vortriebsgeschwindigkeit der Platte variieren kann) die
gesamte lichtempfindliche Schicht auf das Abschälblatt übertragen und es wurde im wesentlichen
keine Abfallflüssigkeit
der Entwicklungslösung
erzeugt. Im Gegensatz dazu konnte mit den Abschälblättern (B) und (C) keine Abschälung der
lichtempfindlichen Schicht erzielt werden.
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Mit
der unter Verwendung des Abschälblattes
(A) hergestellten lithografischen Druckplatte wurde unter Verwendung
eines Heidelberg TOK-Druckers (Warenzeichen, Offset-Druckpresse,
hergestellt von Heidelberg Co.), Tinte (New Champion Black H, Warenzeichen,
hergestellt von Dainippon Ink Co., Japan) und einer kommerziell
erhältlichen
Benetzungslösung
für eine
PS-Platte gedruckt. Als Ergebnis zeigte die lithografische Druckplatte
exzellente Tintenaufnahmeeigenschaften und eine hohe Druckdauerhaftigkeit
von 100.000 Blatt oder mehr.
-
BEISPIEL 10
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Nach
Belichtung einer kommerziell erhältlichen
PS-Platte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 9 eine lithografische
Druckplatte hergestellt. Als Ergebnis konnten die gleichen Resultate
wie in Beispiel 9 erhalten werden.