DE10053346A1 - Verfahren zur Herstellung von Alkyl- und Arylchlorsilanen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Alkyl- und ArylchlorsilanenInfo
- Publication number
- DE10053346A1 DE10053346A1 DE2000153346 DE10053346A DE10053346A1 DE 10053346 A1 DE10053346 A1 DE 10053346A1 DE 2000153346 DE2000153346 DE 2000153346 DE 10053346 A DE10053346 A DE 10053346A DE 10053346 A1 DE10053346 A1 DE 10053346A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- silicon
- alkyl
- catalyst
- aryl
- sicl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 39
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 title claims abstract description 20
- 150000001500 aryl chlorides Chemical class 0.000 title claims abstract description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title abstract description 9
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 title abstract description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 5
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- MNKYQPOFRKPUAE-UHFFFAOYSA-N chloro(triphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(Cl)C1=CC=CC=C1 MNKYQPOFRKPUAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 2
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DWAWYEUJUWLESO-UHFFFAOYSA-N trichloromethylsilane Chemical compound [SiH3]C(Cl)(Cl)Cl DWAWYEUJUWLESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000005840 aryl radicals Chemical group 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000158147 Sator Species 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- -1 alkyl radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/72—Copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
- B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
- B01J21/08—Silica
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/0009—Use of binding agents; Moulding; Pressing; Powdering; Granulating; Addition of materials ameliorating the mechanical properties of the product catalyst
- B01J37/0027—Powdering
- B01J37/0036—Grinding
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/16—Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Alkyl- und/oder Arylchlorsilanen durch Umsetzung von Silicium mit Alkyl- und/oder Arylchlorid, wobei das Silicium in zerkleinerter Form vorliegt und das Silicium beim Zerkleinern mit einem Katalysator versetzt wird.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Alkyl- und
Arylchlorsilanen durch Umsetzung einer Silicium-Katalysatormischung mit Alkyl-
und Arylchloriden.
Alkyl- und Arylchlorsilane sind wichtige Ausgangsmaterialien zur Herstellung von
Siliconen und werden üblicherweise nach dem dem Fachmann bekannten Müller-
Rochow-Verfahren durch Umsetzung von Silicium mit Alkyl- bzw. Arylchloriden in
Gegenwart von Kupfer oder Kupferverbindungen als Katalysator durchgeführt,
wobei gegebenenfalls Promotoren zugesetzt werden können.
Die Herstellung von Alkyl- und Arylchlorsilanen wird üblicherweise in der
Wirbelschicht durchgeführt (Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5th ed.
(1993), Vol. A24, 4-6). Nachteilig beim Vorgehen gemäß Stand der Technik unter
Verwendung von Kupferkatalysatoren bzw. Kupfer enthaltenen Katalysator
mischungen ist, dass aus der Wirbelschicht oftmals kleine Katalysator-Partikel
ausgetragen werden. Dies führt dazu, dass die Ausbeuten an gewünschtem Alkyl-
und Arylchlorsilan im Laufe des Betriebs fallen und neuer Katalysator in den
Reaktor zugegeben werden muß.
Es bestand daher die Aufgabe, ein Verfahren zur Herstellung von Alkyl- und Aryl
chlorsilanen zur Verfügung zu stellen, bei dem es nicht zum unerwünschten Austrag
großer Mengen des Katalysators kommt.
Überraschenderweise wurde gefunden, dass nur geringe Austragsverluste an Kataly
sator auftreten, wenn zerkleinertes Silicium eingesetzt wird, wobei bei der Zerkleine
rung des Siliciums, insbesondere von metallurgischem Silicium, der gewünschte
Katalysator zugegeben wurde. Bei Umsetzung dieses zerkleinerten Siliciums mit
Alkyl- bzw. Arylchlorid zu Alkyl- bzw. Arylchlorsilanen bleibt die Ausbeute an
Alkyl- und Arylchlorsilanen auch bei längerer Reaktionsführung nahezu gleich.
Gegenstand der Erfindung ist demnach ein Verfahren zur Herstellung von Alkyl-
und/oder Arylchlorsilanen durch Umsetzung von Silicium mit Alkyl- und/oder
Arylchlorid, das dadurch gekennzeichnet ist, dass das Silicium in zerkleinerter Form
vorliegt und das Silicium beim Zerkleinern mit einem Katalysator versetzt wird.
Die Herstellung des erfindungsgemäß einzusetzenden Siliciums kann beispielsweise
dadurch erfolgen, dass Silicium, vorzugsweise metallurgisches Silicium, und der ge
wünschte Katalysator gemeinsam in einer Mühle gemahlen werden, wobei Silicium
und Katalysator der Mühle gemeinsam oder auch nacheinander zugeführt werden
können.
Es ist jedoch auch möglich, das Silicium in einer Mühle zu mahlen, die aus einem
Material besteht, das so gewählt wird, dass durch Abrieb während des Mahlvor
gangens die gewünschte Katalysatorkonzentration im Silicium eingestellt wird.
Es ist auch möglich, eine Mischung aus Silicium und Katalysator in einer Mühle zu
mahlen, die aus einem Material besteht, das so gewählt wird, dass durch Abrieb
während des Mahlvorgangs weiteres katalytisch aktives Material in das Silicium ein
gebracht wird.
Die Zerkleinerung der Mischung aus Silicium und Katalysator kann darüberhinaus
auch in anderen bekannten Zerkleinerungs-Vorrichtungen, beispielsweise in einem
Backenbrecher erfolgen.
Vorzugsweise wird die Zerkleinerung in inerter Atmosphäre durchgeführt.
Das Arbeiten in inerter Atmosphäre verhindert die Bildung einer oxidischen Schicht
auf den einzelnen Siliciumpartikeln. Eine solche Schicht verhindert den direkten
Kontakt zwischen Katalysator und Silicium, wodurch die Umsetzung mit Alkyl- und/oder
Arylchlorid zu Alkyl- und/oder Arylchlorsilanen entsprechend schlechter
katalysiert würde.
Eine inerte Atmosphäre kann beispielsweise durch den Zusatz eines inerten Gases
während des Zerkleinerungsvorgangs erzeugt werden. Geeignete inerte Gase sind
beispielsweise Stickstoff und/oder Argon.
Geeignete Materialien für die eingesetzte Zerkleinerungs-Vorrichtung, insbesondere
Mühle oder Backenbrecher sind beispielsweise Kupfer und dessen Legierungen,
beispielsweise Messing oder Bronze. Es sind aber auch Zerkleinerungs-Vorrichtun
gen aus anderen Materialien geeignet, beispielsweise solche mit keramischen
Beschichtungen, beispielsweise aus Wolframcarbid.
Als Mühle eignet sich beispielsweise eine Walzenmühle oder eine Kugelmühle, wo
bei auch andere Mühlentypen eingesetzt werden können.
Der Zerkleinerungsvorgang wird beispielsweise so durchgeführt, dass das resul
tierende zerkleinerte Silicium einen mittleren Korndurchmesser von 10 bis 1000 µm,
bevorzugt von 100 bis 600 µm aufweist.
Geeignete Kupferkatalysatoren sind beispielsweise Kupfer, vorzugsweise in Form
von Kupferpulver mit einer Korngröße von weniger als 100 µm, oder Verbindungen
des Kupfers, vorzugsweise Kupferoxid, in der das Kupfer die Oxidationsstufe I be
sitzt oder Kupferchlorid wie z. B. Kupfer-I-chlorid.
Dem Katalysator können weitere katalytisch aktive Bestandteile, sogenannte
Promotoren zugesetzt werden. Solche katalytisch aktiven Bestandteilen sind bei
spielsweise Zink in metallischer Form oder als Oxid oder Chlorid, Zinn, Phosphor,
Arsen und Aluminium in elementarer Form oder als Verbindung oder auch Alkali-
und Erdalkalimetalle bzw. deren Verbindungen.
Die Zugabe weiterer katalytisch aktiver Bestandteile erfolgt vorzugsweise ebenfalls
bei der Zerkleinerung des Siliciums.
Das erfindungsgemäß einzusetzende Silicium, das in zerkleinerter Form vorliegt und
das beim Zerkleinern mit einem Katalysator versetzt wird, kann vor der erfindungs
gemäßen Umsetzung mit Alkyl- und/oder Arylchlorid einer Vorreaktion, z. B. mit
Chlorwasserstoff oder Chlorwasserstoff und Wasserstoff unterzogen werden.
Üblicherweise wird im erfindungsgemäßen Verfahren ein zerkleinertes Silicium ein
gesetzt, in dem die Konzentration des Katalysators, berechnet als Metall, zwischen
0,5 bis 10 Gew.-%, bezogen auf des Gesamtgewicht von zerkleinertem Silicium und
Katalysator, liegt, vorzugsweise zwischen 1 bis 5 Gew.-%. Es ist jedoch auch mög
lich, zerkleinertes Silicium mit einer höheren Konzentration an Katalysator einzu
setzen.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann beispielsweise bei einem Druck von 2 bis
4 bar (absolut), bevorzugt von 2,5 bis 3,5 bar durchgeführt werden.
Beispielsweise wird bei Temperaturen von 280 bis 350°C, bevorzugt von 290 bis
310°C, gearbeitet.
Die Wahl des Reaktors, in dem die erfindungsgemäße Umsetzung erfolgen soll, ist
nicht kritisch, solange der Reaktor unter den Reaktionsbedingungen hinreichende
Stabilität aufweist und den Kontakt der Ausgangsstoffe erlaubt. Beispielsweise kann
in einem Festbettreaktor, einem Drehrohrofen oder einem Wirbelbettreaktor gear
beitet werden. Die Reaktionsführung in einem Wirbelbettreaktor ist bevorzugt.
Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren lassen sich beispielsweise Alkyl- oder
Arylchlorsilane erhalten, die einen, zwei oder auch drei am Silicium gebundene
Alkyl- oder Arylreste aufweisen. Beispielsweise handelt es sich bei den Alkylresten
um C1-C8-Alkyl, vorzugsweise um Methyl, Ethyl, Propyl oder Isopropyl, besonders
bevorzugt um Methyl, bei den Arylresten um C6-C10-Aryl, vorzugsweise Phenyl.
Beispielsweise wird das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung von Trichlor
methylsilan H3C-SiCl3, Dichlordimethylsilan (H3C)2-SiCl2, Chlortrimethylsilan
(H3C)3-SiCl, Trichlorphenylsilan H5C6-SiCl3, Dichlordiphenylsilan (H5C6)2-SiCl2
und Chlortriphenylsilan (H5C6)3-SiCl genutzt.
Claims (10)
1. Verfahren zur Herstellung von Alkyl- und/oder Arylchlorsilanen durch
Umsetzung von Silicium mit Alkyl- und/oder Arylchlorid, dadurch
gekennzeichnet, dass das Silicium in zerkleinerter Form vorliegt und das
Silicium beim Zerkleinern mit einem Katalysator versetzt wird.
2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Silicium und
der gewünschte Katalysator gemeinsam in einer Mühle zerkleinert werden.
3. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Silicium in
einer Mühle zerkleinert wird, die aus einem Material besteht, aus dem durch
Abrieb während des Mahlvorgangs die gewünschte Katalysatorkonzentration
im Silicium eingestellt wird.
4. Verfahren gemäß mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekenn
zeichnet, dass das zerkleinerte Silicium einen mittleren Teilchendurchmesser
von 10 bis 1000 µm aufweist.
5. Verfahren gemäß mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekenn
zeichnet, dass die Konzentration des Katalysators, berechnet als Metall, im
zerkleinerten Silicium 0,5 bis 10 Gew.-%, bezogen auf des Gesamtgewicht
von zerkleinertem Silicium und Katalysator, beträgt.
6. Verfahren gemäß mindestens einem der Ansprüche 1 bis S. dadurch gekenn
zeichnet, dass die Konzentration des Katalysators, berechnet als Metall, im
zerkleinerten Silicium 1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf des Gesamtgewicht von
zerkleinertem Silicium und Katalysator, beträgt.
7. Verfahren gemäß mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekenn
zeichnet, dass die Umsetzung bei einem Druck von 2 bis 4 bar (absolut)
durchgeführt wird.
8. Verfahren gemäß mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekenn
zeichnet, dass die Umsetzung bei Temperaturen von 280 bis 350°C durchge
führt wird.
9. Verfahren gemäß mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekenn
zeichnet, dass ein Alkylchlorsilan der Gruppe Trichlormethylsilan H3C-SiCl3,
Dichlordimethylsilan (H3C)2-SiCl2 und Chlortrimethylsilan (H3C)3-SiCl
hergestellt wird.
10. Verfahren gemäß mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekenn
zeichnet, dass ein Arylchlorsilan der Gruppe Trichlorphenylsilan H5C6-SiCl3,
Dichlordiphenylsilan (H5C6)2-SiCl2 und Chlortriphenylsilan (H5C6)3-SiCl
hergestellt wird.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2000153346 DE10053346A1 (de) | 2000-10-27 | 2000-10-27 | Verfahren zur Herstellung von Alkyl- und Arylchlorsilanen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2000153346 DE10053346A1 (de) | 2000-10-27 | 2000-10-27 | Verfahren zur Herstellung von Alkyl- und Arylchlorsilanen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE10053346A1 true DE10053346A1 (de) | 2002-05-08 |
Family
ID=7661303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2000153346 Ceased DE10053346A1 (de) | 2000-10-27 | 2000-10-27 | Verfahren zur Herstellung von Alkyl- und Arylchlorsilanen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE10053346A1 (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017178080A1 (de) * | 2016-04-15 | 2017-10-19 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur organochlorsilanherstellung im wirbelbettverfahren |
-
2000
- 2000-10-27 DE DE2000153346 patent/DE10053346A1/de not_active Ceased
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017178080A1 (de) * | 2016-04-15 | 2017-10-19 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur organochlorsilanherstellung im wirbelbettverfahren |
| CN109195977A (zh) * | 2016-04-15 | 2019-01-11 | 瓦克化学股份公司 | 在流化床方法中生产有机氯硅烷的方法 |
| JP2019519473A (ja) * | 2016-04-15 | 2019-07-11 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトＷａｃｋｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ ＡＧ | 流動床プロセスにおけるオルガノクロロシランの製造方法 |
| US10544169B2 (en) | 2016-04-15 | 2020-01-28 | Wacker Chemie Ag | Process for organochlorosilane production in the fluidized bed process |
| CN109195977B (zh) * | 2016-04-15 | 2021-03-26 | 瓦克化学股份公司 | 在流化床方法中生产有机氯硅烷的方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3689628T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkylhalosilanen. | |
| EP1370490B1 (de) | Verfahren zur herstellung von chlorsilanen | |
| EP1318967B1 (de) | Verfahren zur herstellung von trichlorsilan | |
| DE69909208T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkylhalogensilanen | |
| EP0391133B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkylhalogensilanen | |
| DE3501085C2 (de) | Pulverförmige, Silicium und Kupfer enthaltende Masse zur Herstellung von Organohalogensilanen sowie deren Verwendung | |
| EP1326803A1 (de) | Verfahren zur herstellung von trichlorsilan | |
| EP1505070B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Chlorsilanen | |
| DE69013482T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Organohalosilanen. | |
| DE69813402T2 (de) | Herstellung von Alkylhalogensilanen | |
| DE10049963B4 (de) | Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan | |
| EP0671402B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen | |
| EP0416406B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkylhalogensilanen | |
| DE10053346A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkyl- und Arylchlorsilanen | |
| DE3425424C2 (de) | ||
| DE10044794A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan | |
| DE69907295T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkylhalogensilanen | |
| DE3312775C2 (de) | ||
| EP0620226B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen | |
| EP0759438A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Dimethyldichlorsilan | |
| DE19621306C1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkylhalogensilanen | |
| DE1079607B (de) | Verfahren zur Herstellung von Silicium, Siliciumlegierungen, Silicium-Metall-Gemischen und Siliciden mit einem Gehalt an Katalysatoren fuer die Synthese von Siliciumverbindungen | |
| DE102012015417B4 (de) | Verfahren zur Aufarbeitung von Sägerückständen aus der Produktion von Siliciumwafern | |
| DE10048794A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan | |
| DE10044795B4 (de) | Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: SOLARWORLD AG, 53113 BONN, DE |
|
| 8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
| 8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: EVONIK DEGUSSA GMBH, 45128 ESSEN, DE |
|
| 8131 | Rejection |