DE10044521A1 - Opto-elektronisch integrierter Photoempfänger - Google Patents

Opto-elektronisch integrierter Photoempfänger

Info

Publication number
DE10044521A1
DE10044521A1 DE10044521A DE10044521A DE10044521A1 DE 10044521 A1 DE10044521 A1 DE 10044521A1 DE 10044521 A DE10044521 A DE 10044521A DE 10044521 A DE10044521 A DE 10044521A DE 10044521 A1 DE10044521 A1 DE 10044521A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
photodiode
waveguide
fiber
integrated
opto
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE10044521A
Other languages
English (en)
Other versions
DE10044521C2 (de
Inventor
Heinz-Gunter Bach
Wolfgang Schlaak
Andreas Umbach
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Original Assignee
Fraunhofer Institut fuer Nachrichtentechnik Heinrich Hertz Institute HHI
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fraunhofer Institut fuer Nachrichtentechnik Heinrich Hertz Institute HHI filed Critical Fraunhofer Institut fuer Nachrichtentechnik Heinrich Hertz Institute HHI
Priority to DE10044521A priority Critical patent/DE10044521C2/de
Priority to PCT/DE2001/003437 priority patent/WO2002021178A1/de
Publication of DE10044521A1 publication Critical patent/DE10044521A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE10044521C2 publication Critical patent/DE10044521C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0256Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
    • H01L31/0264Inorganic materials
    • H01L31/0304Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only AIIIBV compounds
    • H01L31/03046Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only AIIIBV compounds including ternary or quaternary compounds, e.g. GaAlAs, InGaAs, InGaAsP
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/12004Combinations of two or more optical elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/1228Tapered waveguides, e.g. integrated spot-size transformers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/26Optical coupling means
    • G02B6/30Optical coupling means for use between fibre and thin-film device
    • G02B6/305Optical coupling means for use between fibre and thin-film device and having an integrated mode-size expanding section, e.g. tapered waveguide
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0232Optical elements or arrangements associated with the device
    • H01L31/02327Optical elements or arrangements associated with the device the optical elements being integrated or being directly associated to the device, e.g. back reflectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
    • H01L31/101Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
    • H01L31/102Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier
    • H01L31/105Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier the potential barrier being of the PIN type
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12083Constructional arrangements
    • G02B2006/12123Diode
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12166Manufacturing methods
    • G02B2006/12195Tapering

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Abstract

Aufgabe der Erfindung ist es, eine Anordnung für einen opto-elektronisch integrierten Photoempfänger vorzuschlagen, der im Vergleich zum Stand der Technik verbesserte Leistungsmerkmale in bezug auf das High-Power-Verhalten zeigt, ohne die anderen wichtigen Empfängerparameter zu benachteiligen. Weiterhin soll die optische Kopplung zur Glasfaser einen unkritischen Justagebereich aufweisen, um eine kostengünstigste Modulmontage zu ermöglichen. Zudem soll sich die Herstellung der Anordnung in bereits bekannte technologische OEIC-Prozesse einpassen. Die Aufgabe wird erfindungsgemäß durch einen Photoempfänger gelöst, bei dem eine wellenleiter-integrierte Photodiode (PD), ein dieser Photodiode (PD) zu einer Standard-Faser vorgeschalteter Spotsize-Konverter (SK) und ein elektrischer Wanderwellenverstärker (TWA) auf einem Chip monolithisch integriert sind, wobei der Spotsize-Konverter (SK) photodiodenseitig aus einem kurzen geraden Teil des Photodioden-Wellenleiters (WL) und faserseitig aus einem in Richtung Faser sich verjüngenden Teil des Photodioden-Wellenleiters (WL) und aus einem sich auf das gesamte Integrationsgebiet erstreckenden unter dem Photodioden-Wellenleiter (WL) angeordneten semi-isolierenden optisch wellenleitungsfähigen Schichtenpaket gebildet ist und zusätzliche Ätzstoppschichten (ÄS) auf dem Photodioden-Wellenleiter (WL) und auf der Photodiode (PD) angeordnet sind.

Description

Die Erfindung betrifft einen opto-elektronisch integrierten Photoempfänger.
Dem Stand der Technik nach sind Lösungen bekannt, die zum einen eine Integration von Photodiode und Taper (optischer Feldtransformator) und zum anderen eine Integration von Photodiode und Verstärker beschreiben.
So ist in IEEE JOURNAL OF SELECTED TOPICS IN QUANTUM ELECTRONICS, VOL. 2, NO. 2, JUNE 1996, pp. 418-423, die integrierte Anordnung eines Photoempfänger-OEIC beschrieben, der eine pin- Photodiode und einen koplanaren Wanderwellenverstärker, bestehend aus vier GaInAs-AIInAs-InP-HEMT's (high electron mobiltity transistor), enthält. Auch in Electronic Letters, Vol. 35, No. 19 (1999), pp. 1639-1640 ist ein vergleichbarer Breitband-Photoempfänger in monolithischer Form als Integration von seitlich beleuchteten Multimode-Wellenleiter-Photodioden mit Wanderwellenverstärkern dargestellt. Obwohl die Parameter dieses Photodiodentyps bezüglich Breitbandigkeit (50 bis 110 GHz) und hoher Responsivität (Ansprechempfindlichkeit) (0,9 A/W) bereits gut sind, zeigt dieser Photodiodentyp ein zu geringes High-Power-Verhalten, was sich in der Abgabe begrenzt hoher Photoströme im Bereich einiger mA bis eine Pulsverbreiterung bei 25 ps (z. B. bei 40 Gbit/s-RZ-Signalen) beobachtet wird, äußert. Dieses nachteilige Verhalten ist auf das kompakte Absorptionsvolumen einer solchen Multimode-Wellenleiter-Photodiode zurückzuführen, in der Raumladungseffekte begrenzend wirken (z. B. beschrieben in IEEE Photon. Technol. Lett., Vol. 6 (1994), pp. 719-721). Auch erfordert dieser Photodiodentyp trotz des Feldmoden-aufweitenden Multimodedesigns immer noch eine abbildende Optik zwischen der reinen Stirnflächenfaser und der hochpräzise zu spaltenden Chipfläche (modifizierter Fasertaper). Beide Aspekte gehen deutlich nachteilig in die Herstellungskostenbilanz ein.
Wellenleiter-integrierte Photodioden mit hoher Pulsstromabgabe (< 20 mA), wie sie beispielsweise in Proc. 24th Europ. Conf. on Optical Communication (ECOC 98); Madrid; Spain, Sept. 20-24,1998, ISBN 84-89900-15-9, Vol. 1, pp. 67-68 beschrieben sind, weisen eine zu geringe Responsität im Verbund mit der Faser-Chip-Kopplung auf, da beim Ankoppeln der Einmodenfaser etwa 3 dB unnötige Verluste durch optische Modenfehlanpassung zu verzeichnen waren. In Technical Digest, OFC'2000, Mar 7-10, 2000, Baltimore, Maryland, paper FG2, pp. 117-119 wird eine Lösung beschrieben, bei der ein Spotsize-Konverter (Taper) mit einer wellenleiter-integrierten Photodiode integriert ist und nunmehr eine Responsivität dieser Anordnung von 0,7 A/W erreicht wurde.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Anordnung für einen opto-elektronisch integrierten Photoempfänger vorzuschlagen, der im Vergleich zum Stand der Technik verbesserte Leistungsmerkmale in bezug auf das High-Power- Verhalten zeigt, ohne die anderen wichtigen Empfängerparameter, wie opto- elektrischen Konversionswirkungsgrad (conversion gain), Verstärkerbreitbandigkeit bei kleiner Welligkeit der Übertragungsfunktion (gain flatness) sowie beste Empfangsempfindlichkeit, zu benachteiligen. Weiterhin soll die optische Kopplung zur Glasfaser einen maximal weiten (unkritischen) Justagebereich mehrerer Mikrometer aufweisen, um eine kostengünstigste Modulmontage zu ermöglichen. Zudem soll sich die Herstellung der Anordnung in bereits bekannte technologische OEIC-Prozesse einpassen.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch einen opto-elektronisch integrierten Photoempfänger gelöst, bei dem eine wellenleiter-integrierte Photodiode, ein dieser Photodiode zu einer Standard-Faser vorgeschalteter Spotsize-Konverter und ein elektrischer Wanderwellenverstärker (distributed amplifier, traveling wave amplifier) auf einem Chip monolithisch integriert sind, wobei der Spotsize-Konverter photodiodenseitig aus einem kurzen geraden Teil des Photodioden-Wellenleiters und faserseitig aus einem in Richtung Faser sich verjüngenden Teil des Photodioden-Wellenleiters und aus einem sich auf das gesamte Integrationsgebiet erstreckenden unter dem Photodioden-Wellenleiter angeordneten semi-isolierenden optisch wellenleitungsfähigen Schichtenpaket gebildet ist und zusätzliche Ätzstoppschichten auf dem Photodioden-Wellenleiter und auf der Photodiode angeordnet sind.
In Ausführungsformen ist vorgesehen, dass das semi-isolierende Schichtenpaket aus mehreren nacheinander angeordneten Schichtpaaren, aufweisend eine GaInAsP:Fe-Leitschicht und eine InP:Fe-Zwischenschicht, besteht und auf einem InP:Fe-Substrat angeordnet ist. Die Eisen(Fe)- Dotierung ist so sorgsam einzustellen, dass das gesamte Wellenleiterpaket inklusive des Spot-Size-Konverters in der Qualität zu einem quasi­ nichtleitenden InP-Substrat:Fe vergleichbar semi-isolierend wird, um störende substratseitige Streukapazitäten der Empfänger- und Verstärkerschaltung, die bandbreitenbegrenzend wirken würden, auszuschließen.
Weiterhin ist vorgesehen, dass die Ätzstoppschicht vorzugsweise eine InP- Schicht ist.
Die erfindungsgemäße Lösung ermöglicht durch komplette Integration einer wellenleiter-integrierten Photodiode, der ein Spotsize-Konverter (Taper, optischer Feldtransformator) zur Standard-Einmodenfaser vorgeschaltet ist, und eines elektrischen Wanderwellenverstärkers (TWA, distributed amplifier), der das optische Empfangssignal nach der optoelektrischen Konversion breitbandig elektrisch nachverstärkt, durch die bessere optische Modenanpassung des Chip-Wellenleiters der Photodiode zur Glasfaser sowohl eine verbesserte Konversionsverstärkung und Responsivität als auch eine verbesserte Empfangsempfindlichkeit insgesamt des Breitband- Empfänger-OEIC's.
Die erfindungsgemäße Lösung ermöglicht nun auch, eine kostengünstig zu montierende Stirnflächenfaser ohne zusätzliche Abbildungsoptiken direkt vor der getaperten Wellenleiter-Chipfacette anzuordnen.
Durch das Einfügen von Ätzstoppschichten wird eine Prozesskompatibilität mit dem Herstellungsprozess des Wanderwellenverstärkers erreicht und gewährleistet, dass beim Integrationsprozess für ein erfolgreiches Überwachsen mittels MBE (Molekularstrahlepitaxie) mittels eines nasschemischen Verfahrens die HEMT-Schichten des Wanderwellenverstärkers, z. B. im Bereich der Photodiode, und der zusätzlich für die Ausbildung des Tapers eingefügte Wellenleiter freigelegt werden. Diese Ätzstoppschicht ist beispielsweise eine 50 nm dicke InP-Schicht, die den Herstellungsprozess des Tapers nicht beeinträchtigt.
Da die elektrische Leitfähigkeit des Wellenleiters und des zusätzlichen Schichtenpakets die elektrische Feldverteilung der (elektrischen) Koplanar- Wellenleiter, die das Hochfrequenzsignal innerhalb des Verstärkers und zu dessen Ausgang "transportieren" (Wanderwellen), beeinflusst, wird eine frequenzabhängige Dämpfung des Hochfrequenzsignals hervorgerufen, die gegen die Verstärkung des Wanderwellenverstärkers wirkt. Die erfindungsgemäße Ausbildung eines semi-isolierenden Schichtenpakets und semi-isolierender Wellenleiter für den Spotsize-Konverter verhindert eine derartige Wirkung. Die Schichten besitzen nun keine oder nur eine vernachlässigbar geringe elektrische Leitfähigkeit und beeinflussen somit nicht mehr das Hochfrequenzübertragungsverhalten.
Weitere Einzelheiten und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus dem folgenden Ausführungsbeispiel, das anhand einer Figur näher erläutert wird.
Die Figur zeigt schematisch den Schichtaufbau eines erfindungsgemäßen opto-elektronisch integrierten Photoempfängers.
Auf einem semi-isolierenden InP:Fe-Substrat S einer Dicke von ca. 500 µm ist eine semi-isolierende Schichtenfolge aus drei Paaren GaInAsP:Fe- Leitschichten LS und InP:Fe-Zwischenschichten ZS mit einer Dicke von ca. 1,9 µm angeordnet, die gemeinsam mit der darauf angeordneten GaInAsP:Fe-Wellenleiterschicht WL einen Spotsize-Konverter SK bilden. Die Wellenleiterschicht WL weist eine Rampe R auf, die beispielsweise mittels Verschiebemaskentechnik hergestellt wurde. Neben dem Spotsize-Konverter SK ist auch eine wellenleiter-integrierte Photodiode PD und ein Wanderwellenverstärker TWA auf HEMT-Basis mit Koplanar-Wellenleiter kWL auf einem Chip integriert. Auf dem Spotsize-Konverter SK und auf der Photodiode PD sind Ätzstoppschichten ÄS angeordnet.
Der Herstellungsprozess des Wanderwellenverstärkers wird im Anschluss an die Vorstrukturierungs- und Überwachstumsprozesse unter Ausnutzung der speziellen Ätzstoppschichten mit bekannten Prozessschritten durchgeführt, wie beispielsweise in IEEE JOURNAL OF SELECTED TOPICS IN QUANTUM ELECTRONICS, VOL. 2, NO. 2, JUNE 1996, pp. 418-423 beschrieben.
Ein erfindungsgemäß realisierter InP-basierter pinTWA-Photoempfänger, aufweisend vier HEMT's, mit integriertem Spotsize-Konverter zeigt eine flache Transimpedanzkurve, wobei nur Abweichungen von ±0,7 dB beobachtet wurden, eine Bandbreite von 47 GHz und einen optoelektrischen Konversionswirkungsgrad von < 55 V/W (bzw. < 1,1 A/W). Durch Optimierung der Rampe des Spotsize-Konverters kann erfahrungsgemäß die Responsivität der integrierten Photodiode auf 0,7 bis 0,8 A/W erhöht werden und damit die Responsivität des Gesamt-Empfänger-OEICs auf < 1,5 A/W.
Die erfindungsgemäße Lösung ermöglicht eine unabhängige Optimierung jeder der drei Teilkomponenten und profitiert nun vom guten High-Power- Verhalten einer wellenleiter-integrierten Photodiode.

Claims (3)

1. Opto-elektronisch integrierter Photoempfänger, bei dem eine wellenleiter-integrierte Photodiode (PD), ein dieser Photodiode (PD) zu einer Standard-Faser vorgeschalteter Spotsize-Konverter (SK) und ein elektrischer Wanderwellenverstärker (TWA) auf einem Chip monolithisch integriert sind, wobei der Spotsize-Konverter (SK) photodiodenseitig aus einem kurzen geraden Teil des Photodioden-Wellenleiters (WL) und faserseitig aus einem in Richtung Faser sich verjüngenden Teil des Photodioden-Wellenleiters (WL) und aus einem sich auf das gesamte Integrationsgebiet erstreckenden unter dem Photodioden-Wellenleiter (WL) angeordneten semi-isolierenden optisch wellenleitungsfähigen Schichtenpaket gebildet ist und zusätzliche Ätzstoppschichten (ÄS) auf dem Photodioden-Wellenleiter (WL) und auf der Photodiode (PD) angeordnet sind.
2. Opto-elektronisch integrierter Photoempfänger nach Anspruch 1, bei dem das semi-isolierende Schichtenpaket aus mehreren nacheinander angeordneten Schichtpaaren, aufweisend eine GaInAsP:Fe-Leitschicht (LS) und eine InP:Fe-Zwischenschicht (ZS), besteht und auf einem InP:Fe- Substrat (S) angeordnet ist.
3. Opto-elektronisch integrierter Photoempfänger nach Anspruch 1, bei dem die Ätzstoppschicht (ÄS) eine InP-Schicht ist.
DE10044521A 2000-09-04 2000-09-04 Opto-elektronisch integrierter Photoempfänger Expired - Lifetime DE10044521C2 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10044521A DE10044521C2 (de) 2000-09-04 2000-09-04 Opto-elektronisch integrierter Photoempfänger
PCT/DE2001/003437 WO2002021178A1 (de) 2000-09-04 2001-09-04 Opto-elektronisch integrierter photoempfänger

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10044521A DE10044521C2 (de) 2000-09-04 2000-09-04 Opto-elektronisch integrierter Photoempfänger

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE10044521A1 true DE10044521A1 (de) 2002-04-04
DE10044521C2 DE10044521C2 (de) 2002-08-01

Family

ID=7655552

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10044521A Expired - Lifetime DE10044521C2 (de) 2000-09-04 2000-09-04 Opto-elektronisch integrierter Photoempfänger

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE10044521C2 (de)
WO (1) WO2002021178A1 (de)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008008480A1 (de) 2008-02-08 2009-08-27 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Monolithisch integrierte optoelektronische Baugruppe
US7583869B2 (en) * 2005-12-07 2009-09-01 Electronics And Telecommunications Research Institute Electroabsorption duplexer
US7676124B2 (en) 2008-02-08 2010-03-09 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Monolithically integrated optoelectronic subassembly
EP2323177A1 (de) 2005-10-21 2011-05-18 Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Wissenschaft E.V. Photodioden-Chip hoher Grenzfrequenz

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005045286A1 (de) 2005-09-22 2007-04-12 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Wellenleiter-integrierte Photodiode

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4944838A (en) * 1989-08-03 1990-07-31 At&T Bell Laboratories Method of making tapered semiconductor waveguides
US5574742A (en) * 1994-05-31 1996-11-12 Lucent Technologies Inc. Tapered beam expander waveguide integrated with a diode laser
DE19626130A1 (de) * 1996-06-28 1998-01-08 Sel Alcatel Ag Optisches Halbleiterbauelement mit tiefem Rippenwellenleiter

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Bach, H.G., et al.: Ultrafast Monolithically In- tegrated inP-Based Photoreceiver: OEIC-Design, Fabrication, and System Application. In: IEEE J. of Selected Topics in Quantum Electronics, Vol.2, Nr.2, Juni 1996,S.418-423 *
Kato, K., et al.:110-GHz,50%-Effciency Mushroom- Mesa Waveguide p-i-n Photodiode for a 1.55-mum Wavelength. In: IEEE Photon. Technol. Lett.,Vol.6,Nr.6,Juni 1994, S.719-721 *
Takahata, K., et al.: 52 GHz bandwith monolith- cally integrated WGPd/HEMT photoreceiver with la- rge O/E conversion factor of 105V/W. In: Electro- nics Letters, Vol.35, Nr.19,16.Sept.1999,S.1639- 1640 *
Unterbörsch, G., et al.: High-Power Performance of a High-Speed Phtodetector. In: Proc.24th Europ. Conf. on Optical Communication, Madrid, Spanien, S.67-68 *

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2323177A1 (de) 2005-10-21 2011-05-18 Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Wissenschaft E.V. Photodioden-Chip hoher Grenzfrequenz
US7583869B2 (en) * 2005-12-07 2009-09-01 Electronics And Telecommunications Research Institute Electroabsorption duplexer
DE102008008480A1 (de) 2008-02-08 2009-08-27 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Monolithisch integrierte optoelektronische Baugruppe
US7676124B2 (en) 2008-02-08 2010-03-09 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Monolithically integrated optoelectronic subassembly
DE102008008480B4 (de) * 2008-02-08 2012-01-19 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Monolithisch integrierte optoelektronische Baugruppe

Also Published As

Publication number Publication date
DE10044521C2 (de) 2002-08-01
WO2002021178A1 (de) 2002-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69721153T2 (de) Verpackung eines optoelektronischen Bauelements
EP0600267B1 (de) Bidirektionaler optischer Sende- und Empfangsmodul
DE68915331T2 (de) Optischer Verstärkungsmodul.
DE60123427T2 (de) Photonischer integrierter detektor mit mehreren asymmetrischen wellenleitern
DE68918133T2 (de) Untereinheiten für hybrid-integrierte optoelektronische Schaltkreise.
EP1018052B1 (de) Elektrooptische anordnung
DE69005794T2 (de) Optische Verstärkungseinrichtung mit niedrigem Rauschen und Reflexion der Pumpleistung.
EP0383138A2 (de) Vorrichtung für den optischen Direktempfang mehrerer Wellenlängen
DE102007057494A1 (de) Optische Kommunikation über parallele Kanäle unter Verwendung einer Modulatoranordnung und eines gemeinsam genutzten Lasers
EP0502386B1 (de) Optisch-Elektrisch-Wandler mit erweitertem Dynamikbereich
WO1998011461A1 (de) Anordnung zum aneinanderkoppeln von wellenleitern
EP0961372A1 (de) Hochfrequenz-Lasermodul und Verfahren zur Herstellung desselben
DE10044521C2 (de) Opto-elektronisch integrierter Photoempfänger
DE112008003958T5 (de) Optische Nanodrahtblockgeräte zum Verstärken, Modulieren und Erfassen optischer Signale
DE69814650T2 (de) Anordnung zur optischen verstärkung und kopplung nach dem multimoden-interferenz-prinzip und deren anwendungen
DE10213599B4 (de) Lichtwellenleiterempfänger mit einem Nachverstärker mit einstellbarer Bandbreite
EP2200194A1 (de) Detektormodul
DE3737251C2 (de) Halbleiter-Trägerelement für ein elektro-optisches Modul
DE3204839C2 (de) Fotodiodenverstärker mit großem Dynamikbereich
DE60034768T2 (de) Antireflektionsbeschichtung im signalband für eine pumpfacette
EP0442312A2 (de) Integrierter optischer Empfänger und/oder Sender
DE19810624A1 (de) Elektrooptisches Modul
DE112017000387T5 (de) Optik-funk-wandler
DE3432743A1 (de) Optisches koppelglied
DE102008008480B4 (de) Monolithisch integrierte optoelektronische Baugruppe

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWAND

R071 Expiry of right