DE10031478A1 - Halbleiterfabrikautomatisierungs-System und Verfahren zum Steuern einer Messanlage zur Messung von Halbleiterwafern - Google Patents

Halbleiterfabrikautomatisierungs-System und Verfahren zum Steuern einer Messanlage zur Messung von Halbleiterwafern

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DE10031478A1 DE2000131478 DE10031478A DE10031478A1 DE 10031478 A1 DE10031478 A1 DE 10031478A1 DE 2000131478 DE2000131478 DE 2000131478 DE 10031478 A DE10031478 A DE 10031478A DE 10031478 A1 DE10031478 A1 DE 10031478A1
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Abstract

Ein Verfahren zum Steuern einer Messanlage zur Messung von Halbleiterwafern in einem Halbleiterfabrik-Automatisierungs-(FA)System umfasst die Schritte: a) Festlegen eines Kommunikationsmodus zwischen einem Bedienerschnittstellenserver und der Messanlage aus einer Offline-Kommunikation zu einem Online-Kommunikationsmodus; b) Laden einer die Halbleiterwafer enthaltenden Halbleiterwafer-Kassette in die Messanlage; c) Senden eines Messrezepts und eines direkt von einem Bediener eingespeisten Befehls an die Messanlage, wobei das Messrezept einen Satz an Messbedingungen entsprechend der Halbleiterwafer-Kassette repräsentiert, und der Befehl Steuerbefehle zum Steuern der Messanlage umfasst; d) Messen der in der Halbleiterwafer-Kassette enthaltenen Halbleiterwafer gemäß dem Messrezept, wodurch Messdaten erzeugt werden; e) Vergleichen der Messdaten mit Referenzdaten, um zu bestimmen, ob die Messdaten konform sind; f) der Messanlage den Befehl erteilen, die Halbleiterwafer erneut zu messen, wenn die Messdaten nicht konform sind; und g) Speichern der Messdaten in einer Echtzeitdatenbank.

Description

Gebiet der Erfindung
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Halbleiterfabrikautomatisierungs-(FA)System und betrifft insbesondere ein Halbleiter-FA-System und Verfahren zum Steuern einer Mess­ anlage zur Messung von Halbleiterwafern.
Beschreibung des Standes der Technik
Im Allgemeinen umfasst ein herkömmliches Halbleiter-FA-System Anlagen (im weiteren als EQ bezeichnet) einschließlich Messanlagen und Prozessanlagen, Stocker-Einheiten und ein automatisches geführtes Fahrzeug (im weiteren als AGV bezeichnet). Eine EQ prozessiert die Halbleiterwafer oder nimmt an den prozessierten Halbleiterwafern Mes­ sungen vor. Beispielsweise misst eine Ellipsometeranlage als eine Messanlage eine Di­ cke eines auf einem Substrat eines Halbleiterwafers abgeschiedenen dünnen Films.
Eine Stocker-Einheit bewahrt eine Halbleiterwafer-Kassette auf, in der zu prozessieren­ de oder in der Anlage zu messende Halbleiterwafer enthalten sind. Ferner enthält die Stocker-Einheit die Halbleiterwafer-Kassette, die bereits in der EQ prozessiert oder ge­ messen worden ist.
Das AGV transportiert die Halbleiterwafer-Kassette von der EQ zu einer weiteren EQ. Ferner transportiert das AGV die Halbleiterwafer-Kassette von der Stocker-Einheit zu der EQ. Des Weiteren transportiert das AGV die Halbleiterwafer-Kassette von der EQ zu der Stocker-Einheit.
Das konventionelle Halbleiter-FA-System umfasst ferner einen EQ-Server (im weiteren als ein EQS bezeichnet), der mit der EQ, z. B. der Ellipsometeranlage, verbunden ist. Der EQS steuert die Ellipsometeranlage, um eine Halbleitermessung zu steuern. Ferner speichert der EQS die Messdaten, nachdem die Ellipsometeranlage die Messung am Halbleiter abgeschlossen hat. Wenn der EQS die Messung am Halbleiter steuert und die Messdaten speichert, kann in dem EQS eine Überlastung auftreten. Daher benötigt das herkömmliche Halbleiter-FA-System dringend ein Ablaufschema, das in effizienter Wei­ se die in dem EQS auftretende Überlastung verhindert.
Überblick über die Erfindung
Es ist daher eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Halbleiter-FA-System und ein Verfahren zum Steuern einer Messanlage bereitzustellen, das in der Lage ist, die in dem Anlagenserver, der mit der Messanlage gekoppelt ist, auftretende Überlastung in effi­ zienter Weise zu verhindern.
Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Halbleiterfabrik-Automati­ sierungs-(FA)System bereitgestellt, mit: einer Messeinrichtung zum Messen von in einer Halbleiterwafer-Kassette enthaltenen Halbleiterwafern gemäß einem Messrezept, wo­ durch Messdaten erzeugt werden, wobei die Messeinrichtung einen Kommunikations­ modus von einem Offline-Kommunikationsmodus zu einem Online-Kommunikations­ modus in Reaktion auf einen Kommunikationsmodus-Umwandlungsbefehl umwandelt und das Messrezept einen Satz an Messbedingungen repräsentiert, die der Halbleiter­ wafer-Kassette entsprechen, einer Bedienerschnittstelleneinrichtung zum Senden des Messrezepts und eines direkt von einem Bediener eingespeisten Befehls zu der Mess­ einrichtung, wobei der Befehl Steuerbefehle zum Steuern der Messanlage umfasst und der Steuerbefehl den Kommunikationsmodus-Umwandlungsbefehl umfasst; und einer mit der Bedienerschnittstelleneinrichtung gekoppelten Speichereinrichtung zum Spei­ chern der Messdaten, wobei der Bediener die Halbleiterwafer-Kassette in die Messein­ richtung einlädt, und die Messdaten mit Referenzdaten vergleicht, um zu bestimmen, ob die Messdaten konform sind; und der Messeinrichtung befiehlt, die Halbleiterwafer er­ neut zu messen, wenn die Messdaten nicht konform sind.
Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zum Steuern einer Messanlage zur Vermessung von Halbleiterwafern in einem Halbleiterfab­ rik-Automatisierungs-(FA)System bereitgestellt, das die Schritte umfasst: a) Festlegen eines Kommunikationsmodus zwischen einem Bedienerschnittstellenserver und der Messanlage von einem Offline-Kommunikationsmodus zu einem Online-Kommunika­ tionsmodus; b) Einladen einer Halbleiterwafer-Kassette mit Halbleiterwafern in die Messanlage; c) Senden eines Messrezepts und eines direkt von einem Bediener eingespeisten Befehls zu der Messanlage, wobei das Messrezept einen Satz an Messbedin­ gungen repräsentiert, die der Halbleiterwafer-Kassette entsprechen, und der Befehl, Steuerbefehle zum Steuern der Messanlage umfasst; d) Messen der in der Halbleiter­ wafer-Kassette enthaltenen Halbleiterwafer gemäß dem Messrezept, wodurch Messda­ ten erzeugt werden; e) Vergleichen der Messdaten mit Referenzdaten, um zu bestim­ men, ob die Messdaten konform sind; f) der Messanlage den Befehl erteilen, die Halbleiterwafer erneut zu messen, wenn die Messdaten nicht konform sind; und g) Speichern der Messdaten in einer Echtzeitdatenbank.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
Die obigen und weitere Aufgaben und Merkmale der vorliegenden Erfindung werden aus der folgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen in Zusammenhang mit den begleitenden Zeichnungen deutlich. Es zeigen:
Fig. 1 ein Blockdiagramm, das ein Halbleiter-FA-System zum Steuern einer Mess­ anlage in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung beschreibt;
Fig. 2 ein Blockdiagramm, das einen in Fig. 1 gezeigten Transportkontrollbereich darstellt; und
Fig. 3 bis 6 Flussdiagramme, die ein Verfahren zum Steuern einer Messanlage gemäß der vorliegenden Erfindung zeigen.
Detaillierte Beschreibung der Erfindung
Gemäß Fig. 1 ist ein Blockdiagramm gezeigt, das ein Halbleiterfabrik-Automatisierungs- (FA)System zum Steuern einer Messanlage gemäß der vorliegenden Erfindung darstellt. Wie gezeigt ist, umfasst das Halbleiter-FA-System zumindest eine Zelle, die eine vorbe­ stimmte Anzahl, z. B. 4, von Halbleiterproduktionsbuchten 400 umfasst. Eine Halbleiter­ produktionsbucht 400 ist mit Anlagen (EQ) 204 einschließlich Messanlagen und Pro­ zessanlagen, Stocker-Einheiten 216 und einem automatischen geführten Fahrzeug (AGV) 214 ausgestattet. Eine EQ 204 als Prozessanlage fungierend bearbeitet Halbleiterwafer, um daraus Halbleiterbauelemente zu erhalten. Die EQ 204 als eine Messanla­ ge fungierend nimmt Messungen an den prozessierten Halbleiterwafern vor.
Die EQ 204 umfasst z. B. eine Ätzanlage, eine Fotolithografieanlage, eine Ofenanlage, eine Ellipsometeranlage und dergleichen als die Messanlage. Insbesondere misst die Ellipsometeranlage eine Dicke eines auf einem Substrat eines Halbleiterwafers abge­ schiedenen dünnen Films.
Eine Stocker-Einheit 216 bewahrt zwischenzeitlich eine Anzahl von Halbleiterwafer- Kassetten auf. Jede der Halbleiterwafer-Kassetten weist eine vorbestimmte Anzahl an Halbleiterwafern auf, die als ein Los bezeichnet wird. Die Halbleiterwafer-Kassetten werden selektiv zu der EQ 204 unter Verwendung des AGV 214 transportiert. Die in der Stocker-Einheit 216 aufbewahrte Halbleiterwafer-Kassette wird zu einer weiteren Halb­ leiterproduktionsbucht 400 transportiert.
Ein Anlagenserver (EQS) 202 ist mit einer gemeinsamen Kommunikationsleitung 500, z. B. einem von der Firma Xerox Corporation lieferbaren EthernetTM gekoppelt. Ein AGV- Kontroller (AGVC) 212 steuert das AGV 214.
Das Halbleiter-FA-System umfasst ebenfalls einen Zellenmanagementbereich 100, eine Echtzeitdatenbank 300, die mit dem Zellenmanagementbereich 100 verbunden ist, eine Zwischenspeichereinheit 310, einen mit der Zwischenspeichereinheit 310 verbundenen Historienmanagementbereich 312 und eine mit dem Historienmanagementbereich 312 verbundene Historiendatenbank 314. Der Zellenmanagementbereich 100 und der Histo­ rienmanagementbereich 312 sind jeweils mit der gemeinsamen Kommunikationsleitung 500 zur Kommunikation untereinander verbunden.
Der Zellenmanagementbereich 100 umfasst einen Zellenmanagementserver (CMS) 206, einen Bedienerschnittstellenserver (im weiteren als OIS bezeichnet) 201 und einen Da­ tensammelserver (im weiteren als DGS bezeichnet) 207. Der DGS 207 speichert mit dem Los verknüpfte Halbleiterprozessdaten in der Echtzeitdatenbank 300.
Die EQ 204 als die Messanlage misst in einer Halbleiterwafer-Kassette enthaltene Halbleiterwafer gemäß einem Messrezept, wodurch Messdaten erzeugt werden. Das Messrezept repräsentiert einen Satz an Messbedingungen, das der Halbleiterwafer-Kas­ sette entspricht.
Die Messanlage, z. B. die Ellipsometeranlage, arbeitet in einem halbautomatischen Mo­ dus als einem Betriebsmodus, wenn der Ellipsometeranlage ein Online-Modus zu Grun­ de liegt und die Halbleiterwafer-Kassette in die Ellipsometeranlage durch einen Bediener eingeladen wird. Ferner arbeitet die Messanlage, z. B. die Ellipsometeranlage, in einem vollautomatischen Modus als dem Betriebsmodus, wenn der Ellipsometeranlage der Online-Modus zu Grunde liegt und die Halbleiterwafer-Kassette durch das AGV 214 in die Ellipsometeranlage geladen wird.
Der OIS 201 sendet das Messrezept, eine Halbleiterwafer-Kassetten-Identifizierung und einen direkt von dem Bediener eingespeisten Befehl zu der Messanlage, wobei der Be­ fehl Steuerbefehle zum Steuern der Messanlage umfasst und die Steuerbefehle einen Kommunikationsmodus-Umwandlungsbefehl umfassen. Der DGS 207 sammelt die Messdaten. Die Echtzeitdatenbank 300 speichert die Messdaten im Echtzeit. Der Be­ diener lädt die Halbleiterwafer-Kassette in die Messanlage und vergleicht die Messdaten mit Referenzdaten, um zu bestimmen, ob die Messdaten konform sind. Der Bediener befiehlt der Messanlage, die Halbleiterwafer erneut zu messen, wenn die Messdaten nicht konform sind.
Der EQS 202 verbindet zum Kommunizieren die Messanlage mit dem OIS 201. An­ schließend misst die Messanlage, z. B. die Ellipsometeranlage, eine Dicke eines auf ei­ nem Substrat eines Halbleiterwafer abgeschiedenen dünnen Films bis alle Halbleiter­ wafer vermessen worden sind.
Der OIS 201 informiert die Messanlage, dass die Messdaten konform sind, wenn die Messdaten im Wesentlichen mit den Referenzdaten übereinstimmen. Ferner informiert der OIS 201 die Messanlage, dass die Messdaten nicht konform sind, wenn die Mess­ daten nicht im Wesentlichen mit den Referenzdaten übereinstimmen.
Die Messanlage sendet einen Datenkonformitätsbericht mit einer Halbleiterwafer- Kassetten-Identifizierung über den EQS 202 an den OIS 201, wenn die Messdaten konform sind. Ferner sendet die Messanlage einen Datennichtkonformitätsbericht mit der Halbleiterwafer-Kassetten-Identifizierung über den EQS 202 an den OIS 201, wenn die Messdaten nicht konform sind.
Gemäß Fig. 2 ist ein Blockdiagramm gezeigt, das einen Transportkontrollbereich, der in Fig. 1 gezeigt ist, darstellt. Wie gezeigt ist, umfasst der Transportkontrollbereich 116 buchteninterne Kontrollserver (ICS) 210, die mit der gemeinsamen Kommunikationslei­ tung 500 verbunden sind, und Stocker-Kontrollserver (SCS) 218. Der ICS 210 verwan­ delt eine Transportnachricht von der gemeinsamen Kommunikationsleitung 500 in einen Transportbefehl. Der SCS 218 erzeugt einen Stocker-Kontrollbefehl, um die Stocker- Einheiten 216 in Reaktion auf den Transportbefehl zu steuern. Der AGVC 212 erzeugt einen AGV-Kontrollbefehl, um ein AGV 214 in Reaktion auf den Transportbefehl zu steuern.
In den Fig. 3 bis 6 sind Flussdiagramme gezeigt, die ein Verfahren zum Steuern ei­ ner Messanlage darstellen, um Halbleiterwafer gemäß der vorliegenden Erfindung zu messen.
Gemäß Fig. 3 sendet im Schritt S302 der OIS 201 einen Kommunikationsmodus- Umwandlungsbefehl, der von einem Bediener eingespeist wurde, an die EQ 204, eine Ellipsometeranlage, die an den EQS 202 gekoppelt ist.
Im Schritt S304 sendet die Ellipsometeranlage eine Kommunikationsverbindungsanfor­ derung an den EQS 202, so dass eine Kommunikation zwischen der Ellipsometeranlage und dem EQS 202 hergestellt wird.
Im Schritt S306 wandelt der EQS 202 einen Kommunikationsmodus zwischen der El­ lipsometeranlage und dem EQS 202 von einem Offline-Modus in einen Online-Modus in Reaktion auf die Kommunikationsverbindungsanforderung um.
Im Schritt S308 lädt der Bediener eine Halbleiterwafer-Kassette mit Halbleiterwafern in die Ellipsometeranlage.
Im Schritt S310 sendet der OIS 201 ein Messrezept als ein Satz an Messbedingungen und eine von dem Bediener eingespeiste Halbleiterwafer-Kassetten-Identifizierung an die Ellipsometeranlage.
Im Schritt S312 sendet der OIS 201 einen von dem Bediener eingespeisten Messungs­ beginnbefehl an die Ellipsometeranlage.
Gemäß Fig. 4 misst im Schritt S314 die Ellipsometeranlage eine Dicke eines auf einem Substrat eines Halbleiterwafers abgeschiedenen dünnen Films.
Im Schritt S316 erzeugt die Ellipsometeranlage Messdaten und sendet die Messdaten an den EQS 202.
Im Schritt S318 wird bestimmt, ob die Ellipsometeranlage alle in der Halbleiterwafer- Kassette enthaltenen Halbleiterwafer gemessen hat.
Im Schritt S320 sendet die Ellipsometeranlage ein Messung-vollständig-Signal an den EQS 202, wenn die Ellipsometeranlage alle in der Halbleiterwafer-Kassette enthaltenen Halbleiterwafer gemessen hat. Wenn ferner die Ellipsometeranlage nicht alle in der Halbleiterwafer-Kassette enthaltenen Halbleiterwafer gemessen hat, werden die Schritte S314 und S320 wiederholt.
Im Schritt S322 sendet der EQS 202 die Messdaten und eine Messung-vollständig- Nachricht über die gemeinsame Kommunikationsleitung 500 an den OIS 201.
Im Schritt S324 vergleicht der Bediener die Messdaten mit Referenzdaten.
Gemäß Fig. 5 bestimmt im Schritt S326 der Bediener, ob die Messdaten im Wesentli­ chen identisch zu den Referenzdaten sind.
Im Schritt S328 informiert der Bediener die Ellipsometeranlage, dass die Messdaten konform sind, wenn die Messdaten im Wesentlichen mit den Referenzdaten überein­ stimmen.
Im Schritt S330 sendet die Ellipsometeranlage einen Datenkonformitätsbericht mit der Halbleiterwafer-Kassetten-Identifizierung zu dem EQS 202.
Im Schritt S332 entlädt der Bediener die Halbleiterwafer-Kassette aus der Ellipsomete­ ranlage.
Im Schritt S334 sammelt der DGS 207 die Messdaten.
Im Schritt S336 speichert die Echtzeitdatenbank 300 die gesammelten Messdaten in Echtzeit.
Gemäß Fig. 6 misst im Schritt S338 die Ellipsometeranlage nochmals die Halbleiterwa­ fer, wenn die Messdaten nicht im Wesentlichen mit den Referenzdaten übereinstimmen.
Im Schritt S340 sendet die Ellipsometeranlage ein Messung-vollständig-Signal an den EQS 202.
Im Schritt S342 sendet der EQS 202 Messdaten und eine Messung-vollständig- Nachricht an den OIS 201.
Im Schritt S344 vergleicht der Bediener die Messdaten mit Referenzdaten.
Im Schritt S346 bestimmt der Bediener, ob die Messdaten im Wesentlichen mit den Re­ ferenzdaten übereinstimmen.
Im Schritt S348 informiert der Bediener die Ellipsometeranlage, dass die Messdaten nicht konform sind, wenn die Messdaten im Wesentlichen nicht mit den Referenzdaten übereinstimmen. Wenn die Messdaten im Wesentlichen mit den Referenzdaten überein­ stimmen, werden die Schritte S326 bis S348 wiederholt.
Im Schritt S350 sendet die Ellipsometeranlage einen Datennichtkonformitätsbericht mit der Halbleiterwafer-Kassetten-Identifizierung. Anschließend werden die Schritte S332 bis S350 wiederholt.
Obwohl die bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung für anschauliche Zwecke offenbart wurden, erkennt der Fachmann auf diesem Gebiet leicht, dass diverse Modifi­ kationen, Hinzufügungen und Ersetzungen möglich sind, ohne vom Schutzbereich und Grundgedanken der Erfindung, wie sie in den begleitenden Patentansprüchen offenbart ist, abzuweichen.

Claims (18)

1. Ein Halbleiterfabrik-Automatisierungs-(FA)System mit:
einer Messeinrichtung zum Messen von in einer Halbleiterwafer-Kassette enthal­ tenen Halbleiterwafern gemäß einem Messrezept, wodurch Messdaten erzeugt werden, wobei die Messeinrichtung einen Kommunikationsmodus von einem Offli­ ne-Kommunikationsmodus zu einem Online-Kommunikationsmodus in Reaktion auf einen Kommunikationsmodus-Umwandlungsbefehl umwandelt, und das Mess­ rezept einen Satz an Messbedingungen repräsentiert, die der Halbleiterwafer-Kas­ sette entsprechen;
einer Bedienerschnittstelleneinrichtung zum Senden des Messrezepts und eines direkt von einem Bediener eingespeisten Befehls an die Messeinrichtung, wobei der Befehl Steuerbefehle zum Steuern der Messanlage umfasst und der Steuer­ befehl den Kommunikationsmodus-Umwandlungsbefehl umfasst; und
einer an die Bedienerschnittstelleneinrichtung gekoppelten Speichereinrichtung zum Speichern der Messdaten,
wobei der Bediener die Halbleiterwafer-Kassette in die Messeinrichtung einlädt; und die Messdaten mit Referenzdaten vergleicht, um zu bestimmen, ob die Mess­ daten konform sind; und der Messeinrichtung den Befehl erteilt, die Halbleiterwafer erneut zu messen, wenn die Messdaten nicht konform sind.
2. Das Halbleiter-FA-System nach Anspruch 1, das weiterhin umfasst: eine Kommunikationsverbindungseinrichtung basierend auf dem Online-Kommu­ nikationsmodus zur Verbindung der Messeinrichtung mit der Bedienerschnittstel­ leneinrichtung zum Kommunizieren.
3. Das Halbleiter-FA-System nach Anspruch 1, wobei die Messeinrichtung eine El­ lipsometeranfage zum Messen einer Dicke eines auf einem Substrat eines Halbleiterwafers abgeschiedenen dünnen Films umfasst.
4. Das Halbleiter-FA-System nach Anspruch 3, wobei das Messrezept eine Halblei­ terwafer-Kassetten-Identifizierung umfasst.
5. Das Halbleiter-FA-System nach Anspruch 4, wobei die Bedienerschnittstellenein­ richtung die Messeinrichtung informiert, dass die Messdaten konform sind, wenn die Messdaten im Wesentlichen mit den Referenzdaten übereinstimmen.
6. Das Halbleiter-FA-System nach Anspruch 5, wobei die Bedienerschnittstellenein­ richtung die Messeinrichtung informiert, dass die Messdaten nicht konform sind, wenn die Messdaten nicht im Wesentlichen mit den Referenzdaten übereinstim­ men.
7. Das Halbleiter-FA-System nach Anspruch 6, wobei die Messeinrichtung einen Datenkonformitätsbericht mit der Halbleiterwafer-Kassetten-Identifizierung über die Kommunikationsverbindungseinrichtung zu der Bedienerschnittstelleneinrichtung sendet, wenn die Messdaten konform sind.
8. Das Halbleiter-FA-System nach Anspruch 7, wobei die Messeinrichtung einen Datennichtkonformitätsbericht mit der Halbleiterwafer-Kassetten-Identifizierung ü­ ber die Kommunikationsverbindungseinrichtung zu der Bedienerschnittstellenein­ richtung sendet, wenn die Messdaten nicht konform sind.
9. Das Halbleiter-FA-System nach Anspruch 8, wobei die Speichereinrichtung um­ fasst:
eine Sammeleinrichtung zum Sammeln der Messdaten; und
eine Echtzeitdatenbank zum Speichern der Messdaten in Echtzeit.
10. Das Halbleiter-FA-System nach Anspruch 9, wobei die Messeinrichtung in einem halbautomatischen Modus als einem Betriebsmodus arbeitet, wenn der Messein­ richtung der Online-Kommunikationsmodus zu Grunde liegt und die Halbleiterwa­ fer-Kassette durch den Bediener in die Messeinrichtung eingeladen wird.
11. Das Halbleiter-FA-System nach Anspruch 10, das weiterhin umfasst: eine Transporteinrichtung zum Transportieren der Halbleiterwafer-Kassette.
12. Das Halbleiter-FA-System nach Anspruch 11, wobei die Messeinrichtung in einem vollautomatischen Modus als dem Betriebsmodus arbeitet, wenn der Messein­ richtung der Online-Kommunikationsmodus zu Grunde liegt und die Halbleiterwa­ fer-Kassette durch die Transporteinrichtung in die Messeinrichtung geladen wird.
13. Verfahren zum Steuern einer Messanlage zur Messung von Halbleiterwafern in ei­ nem Halbleiterfabrik-Automatisierungs-(FA)System mit den Schritten:
  • a) Festlegen eines Kommunikationsmodus zwischen einem Bedienerschnitt­ stellenserver und der Messanlage von einem Offline-Kommunikationsmodus in einen Online-Kommunikationsmodus;
  • b) Einladen einer die Halbleiterwafer enthaltenden Halbleiterwafer-Kassette in die Messanlage;
  • c) Senden eines Messrezepts und eines von einem Bediener direkt einge­ speisten Befehls zu der Messanlage, wobei das Messrezept einen Satz an Messbedingungen entsprechend der Halbleiterwafer-Kassette repräsentiert, und der Befehl Steuerbefehle zum Steuern der Messanlage umfasst;
  • d) Messen der in der Halbleiterwafer-Kassette enthaltenen Halbleiterwafer ge­ mäß dem Messrezept, wodurch Messdaten erzeugt werden;
  • e) Vergleichen der Messdaten mit Referenzdaten, um zu bestimmen, ob die Messdaten konform sind;
  • f) der Messanlage den Befehl erteilen, die Halbleiterwafer erneut zu messen, wenn die Messdaten nicht konform sind; und
  • g) Speichern der Messdaten in einer Echtzeitdatenbank.
14. Das Verfahren nach Anspruch 13, wobei der Schritt d) den Schritt umfasst: Messen einer Dicke eines auf einem Substrat jedes Halbleiterwafers abgeschie­ denen dünnen Films bis alle Halbleiterwafer gemessen worden sind.
15. Das Verfahren nach Anspruch 14, wobei das Messrezept eine Halbleiterwafer- Kassetten-Identifizierung umfasst.
16. Das Verfahren nach Anspruch 15, wobei der Schritt e) weiterhin die Schritte um­ fasst:
  • 1. Informieren der Messanlage, dass die Messdaten konform sind, wenn die Messdaten im Wesentlichen mit den Referenzdaten übereinstimmen; und
  • 2. Informieren der Messanlage, dass die Messdaten nicht konform sind, wenn die Messdaten nicht im Wesentlichen mit den Referenzdaten übereinstim­ men.
17. Das Verfahren nach Anspruch 16, wobei der Schritt f) ferner die Schritte umfasst:
  • 1. Senden eines Datenkonformitätsberichts über einen Anlagenserver zu dem Bedienerschnittstellenserver, wenn die Messdaten konform sind; und
  • 2. Senden eines Datennichtkonformitätsberichts über den Anlagenserver zu dem Bedienerschnittstellenserver, wenn die Messdaten nicht konform sind.
18. Das Verfahren nach Anspruch 17, wobei der Schritt g) Schritte umfasst:
  • 1. Sammeln der Messdaten; und
  • 2. Speichern der Messdaten in der Echtzeitdatenbank.
DE2000131478 1999-06-28 2000-06-28 Halbleiterfabrikautomatisierungs-System und Verfahren zum Steuern einer Messanlage zur Messung von Halbleiterwafern Withdrawn DE10031478A1 (de)

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