DE10016380C2 - Gehäuse für ein elektrisches Bauteil - Google Patents

Gehäuse für ein elektrisches Bauteil

Info

Publication number
DE10016380C2
DE10016380C2 DE2000116380 DE10016380A DE10016380C2 DE 10016380 C2 DE10016380 C2 DE 10016380C2 DE 2000116380 DE2000116380 DE 2000116380 DE 10016380 A DE10016380 A DE 10016380A DE 10016380 C2 DE10016380 C2 DE 10016380C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
housing
housing according
filler
electrical component
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE2000116380
Other languages
English (en)
Other versions
DE10016380A1 (de
Inventor
Ingo Wennemuth
Andreas Woerz
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Infineon Technologies AG
Original Assignee
Infineon Technologies AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Infineon Technologies AG filed Critical Infineon Technologies AG
Priority to DE2000116380 priority Critical patent/DE10016380C2/de
Priority to PCT/EP2001/002706 priority patent/WO2001073842A1/de
Publication of DE10016380A1 publication Critical patent/DE10016380A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE10016380C2 publication Critical patent/DE10016380C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/552Protection against radiation, e.g. light or electromagnetic waves
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Gehäuse für ein elek­ trisches Bauteil gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Ein derartiges Gehäuse ist beispielsweise aus der EP 714 125 A2 bekannt.
Elektrische Bauteile, insbesondere Halbleiterbauelemente wie Halbleiterspeicher, sind von einem Gehäuse umgeben, um das elektrische Bauteil vor Einwirkungen zu schützen.
Es ist bereits bekannt, ein elektrisches Bauteil gegen magne­ tische Felder abzuschirmen. Dazu weist beispielsweise das elektrische Bauteil selbst eine magnetisch leitende Beschich­ tung auf oder das Gehäuse ist von einem magnetisch leitenden Metallgehäuse umgeben.
Die bekannten Abschirmmaßnahmen sind jedoch relativ aufwendig und kostenintensiv.
Aus WO 99/33106 ist ein Kunststoffverbundkörper bekannt, der einen Leadframe, eine Kleberschicht und eine über die Kleber­ schicht mit dem Leadframe verbundene integrierte Schaltung bestehend aus einem Halbleitermaterial aufweist. Die Kleber­ schicht weist wenigstens einen Füllstoff sowie einen Kunst­ stoff auf. Der Füllstoff umfasst nanoskalige, insbesondere sphärische Partikel, die leitfähig oder isolierend sein kön­ nen.
Aus DE 34 33 779 A1 ist eine Schutzschicht für Halbleiter­ schaltungen bekannt, die zum Isolieren von Anschlussstellen einer Halbleiterschaltung dient. Die Schutzschicht besteht aus einem Isolierstoff mit einem elektrisch leitenden Zusatz. Der Zusatz ist derart bemessen, dass eine von außen auf die Schutzschicht einwirkende Hochspannung, z. B. durch elektro­ statische Aufladung, durch die Schutzschicht hindurch über die Anschlussstellen nach Masse abgeleitet wird. Als elektrisch leitender Zusatz wird vorzugsweise Graphit verwendet.
Aus der bereits genannten EP 714 125 A2 sind ein Halbleiterbauelement und ein Ver­ fahren zur Herstellung des Halbleiterbauelementes bekannt, wobei das Halbleiterbauelement mit einer Schicht aus Silicon mit Füllstoff bedeckt ist. Der Füllstoff weist Teilchen mit einem Durchmesser von bis zu 500 µm und einem spezifischen Gewicht von bis zu 0,95 auf. Aufgrund des spezifischen Ge­ wichtes schwimmen die Füllpartikel im Bereich der Oberfläche des Silicons und ordnen sich somit entfernt vom Halbleiter­ bauelement. Als Füllstoff werden elektrisch leitende Materia­ lien, z. B. Kupfer-Aluminium, Silber-Zink und Kohlenstoff ver­ wendet. Zur Vermeidung einer Beschädigung des Halbleiterbau­ elementes durch eine statische elektrische Aufladung wird ein Füllmaterial verwendet, das entweder vollständig elektrisch leitend ist oder eine Oberfläche aufweist, die elektrisch leitend ist.
Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, eine kostengünstige magnetische Abschirmung eines elektrischen Bauteils bereitzu­ stellen.
Die Aufgabe der Erfindung wird durch die Merkmale des An­ spruchs 1 gelöst. Besonders vorteilhaft ist es, die in dem Gehäuse eingebetteten Füllkörper mit einer magnetisch leiten­ den Schicht zu umgeben. Auf diese Weise wird eine Abschirmung ohne große Kosten erreicht.
Weitere vorteilhafte Ausbildungen der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird im folgenden anhand der Figuren näher er­ läutert; Es zeigen
Fig. 1 ein elektrisches Bauteil mit einem Gehäuse,
Fig. 2 einen beschichten Füllkörper und
Fig. 3 einen beschichteten Füllkörper mit Haftvermittlung.
Fig. 1 zeigt ein elektrisches Bauteil in Form eines Halblei­ terspeichers 1, der mit einem Gehäuse 2 umgeben ist. Der Halbleiterspeicher 1 weist elektrische Anschlüsse 4 auf, die durch das Gehäuse 2 nach außen geführt sind. Das Gehäuse 2 besteht aus einem Trägermaterial, das beispielsweise aus Kunstharz besteht, und darin eingebetteten Füllkörpern 3. Die Füllkörper 3 sind vorzugsweise als Quarzpartikel ausgebildet, die einen Durchmesser von 50 bis 100 µm aufweisen. 50 bis 90 Gewichtsprozente des Gehäuses 2 werden durch die Füllkörper dargestellt.
Das Gehäuse 2 wird beispielsweise in einem Spritzvorgang her­ gestellt, bei dem flüssiges Kunstharz, in dem Füllkörper ein­ gebracht sind, um den Halbleiterspeicher 1 herumgespritzt wird. Nach deni Spritzvorgang wird der Halbleiterspeicher 1 mit der umspritzten Schicht getrocknet und auf diese Weise das Gehäuse 2 in einer mechanisch stabilen Form erhalten.
Fig. 2 zeigt, den Aufbau eines Füllkörpers 3, auf dem eine erste Schicht 5 aufgebracht ist. Die erste Schicht 5 ist als magnetisch leitende Schicht ausgebildet. Die erste Schicht 5 besteht vorzugsweise aus einer Eisen-Nickel-Legierung, die eine niedrige Permeabilität aufweist. Vorzugsweise weist die Eisen-Nickel-Legierung einen Anteil von 10 bis 80 Gew.-% an Nickel auf.
Auf der ersten Schicht 5 ist vorzugsweise eine zweite Schicht 6 aufgebracht. Die zweite Schicht 6 stellt eine Isolier- und Haftschicht dar. Die zweite Schicht 6 besteht beispielsweise aus einem Polymerhaftvermittler mit einer Metallkomplex und Epoxid-Endgruppe.
Die Funktion der zweiten Schicht 6 besteht darin, die erste Schicht 5 elektrisch zu isolieren und gleichzeitig eine Haft­ verbesserung zwischen dem Trägermaterial 7 und den Füllkör­ pern 3 herzustellen.
Fig. 3 zeigt einen Füllkörper 3, der zusätzlich eine dritte Schicht 8 aufweist, die zwischen dem Füllkörper 3 und der ersten Schicht 5 angeordnet ist. Die dritte Schicht 8 ist als Haftschicht ausgebildet, die das Haften der ersten Schicht 5 auf dem Füllkörper 3 verbessert. Vorzugsweise besteht die dritte Schicht 8 mindestens teilweise aus Titan.
In einer einfachen Ausführungsform reicht es aus, die Füll­ körper 3 nur teilweise mit einer ersten Schicht 5 zu verse­ hen. Die erste Schicht 5 wird beispielsweise bei einem Sput­ tervorgang auf die Füllkörper 3 aufgebracht. Anschließend werden die beschichten Füllkörper 3 mit dem flüssigen Kunst­ harz vermischt und durch einen Spritzvorgang ein Gehäuse 2 hergestellt.
In einer weiteren Ausführungsform fehlt die zweite Schicht 6, wobei bei dieser Ausführungsform das Kunstharz 7 elektrisch isolierend ausgebildet ist. Anstelle des Kunstharzes kann auch anderes Material verwendet werden, das sich zum Herstel­ len eines Gehäuses unter Beimischung von Füllkörpern eignet.
Die Füllkörper 3 sind beispielsweise Quarzpartikel, können jedoch auch aus einem anderen Material bestehen, das sich als Füllkörper zur Herstellung eines mechanischen Gehäuses eig­ net.

Claims (9)

1. Gehäuse für ein elektrisches Bauteil, das mindestens teilweise aus Trägermaterial und darin eingebetteten Füllkörpern besteht, dadurch gekennzeichnet, dass min­ destens ein Teil der Füllkörper (3) mindestens teilweise mit einer magnetisch leitenden Schicht (5) umgeben ist.
2. Gehäuse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass auf der Schicht (5) eine Haftschicht (6) aufgebracht ist.
3. Gehäuse nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass 50-90% Gewichtsprozent des Gehäuses in Form von Füllkörpern dargestellt ist.
4. Gehäuse nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch ge­ kennzeichnet, dass die Schicht mindestens teilweise aus einer Eisen-Nickel-Legierung besteht.
5. Gehäuse nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Eisen-Nickel-Legierung 10 bis 80% Nickel aufweist.
6. Gehäuse nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch ge­ kennzeichnet, dass die Schicht (5) als Sputterschicht aufgebracht ist.
7. Gehäuse nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch ge­ kennzeichnet, dass zwischen der Schicht (5) und dem Füllkörper (3) eine Haftschicht (8) angeordnet ist.
8. Gehäuse nach Anspruch 1, dadurch ge­ kennzeichnet, dass auf der Schicht (5) eine Isolierschicht (6) aufgebracht ist.
9. Gehäuse nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch ge­ kennzeichnet, dass das Trägermaterial elektrisch isolie­ rend ausgebildet ist.
DE2000116380 2000-03-29 2000-03-29 Gehäuse für ein elektrisches Bauteil Expired - Fee Related DE10016380C2 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2000116380 DE10016380C2 (de) 2000-03-29 2000-03-29 Gehäuse für ein elektrisches Bauteil
PCT/EP2001/002706 WO2001073842A1 (de) 2000-03-29 2001-03-10 Gehäuse für ein elektrisches bauteil

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2000116380 DE10016380C2 (de) 2000-03-29 2000-03-29 Gehäuse für ein elektrisches Bauteil

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE10016380A1 DE10016380A1 (de) 2001-10-11
DE10016380C2 true DE10016380C2 (de) 2002-01-24

Family

ID=7637339

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2000116380 Expired - Fee Related DE10016380C2 (de) 2000-03-29 2000-03-29 Gehäuse für ein elektrisches Bauteil

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE10016380C2 (de)
WO (1) WO2001073842A1 (de)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3433779A1 (de) * 1984-09-14 1986-03-27 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Schutzschicht fuer halbleiterschaltungen
EP0714125A2 (de) * 1994-11-24 1996-05-29 Dow Corning Toray Silicone Company Limited Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner Herstellung
WO1999033106A1 (de) * 1997-12-19 1999-07-01 Infineon Technologies Ag Kunststoffverbundkörper

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01120899A (ja) * 1987-11-05 1989-05-12 Sanyo Electric Co Ltd 電子部品装着方法
JPH03171654A (ja) * 1989-11-29 1991-07-25 Fujitsu Ltd 半導体装置およびその製造方法
US5389434A (en) * 1990-10-02 1995-02-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Electromagnetic radiation absorbing material employing doubly layered particles
US5820721A (en) * 1991-07-17 1998-10-13 Beane; Alan F. Manufacturing particles and articles having engineered properties
JPH0935927A (ja) * 1995-07-20 1997-02-07 Tokin Corp 複合磁性体及びそれを用いた電磁干渉抑制体
JPH09115708A (ja) * 1995-10-16 1997-05-02 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 電磁波吸収材およびパッケージ
JP3555831B2 (ja) * 1998-01-20 2004-08-18 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置および電子装置
JPH11214592A (ja) * 1998-01-21 1999-08-06 Hitachi Ltd 半導体装置および電子装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3433779A1 (de) * 1984-09-14 1986-03-27 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Schutzschicht fuer halbleiterschaltungen
EP0714125A2 (de) * 1994-11-24 1996-05-29 Dow Corning Toray Silicone Company Limited Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner Herstellung
WO1999033106A1 (de) * 1997-12-19 1999-07-01 Infineon Technologies Ag Kunststoffverbundkörper

Also Published As

Publication number Publication date
WO2001073842A1 (de) 2001-10-04
DE10016380A1 (de) 2001-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102009001930B4 (de) Sensorbaustein
WO2010037810A1 (de) Verfahren zur herstellung eines geschwindigkeits-sensorelements
WO2010037812A2 (de) Sensorelement und trägerelement zur herstellung eines sensors
DE102005027767A1 (de) Integriertes magnetisches Sensorbauteil
WO1997036729A1 (de) Kunststoffsensor und verfahren zu dessen herstellung
DE102017104262B4 (de) Halbleiterbauelement und verfahren zum herstellen desselben mit antistatischem die-befestigungsmaterial
WO2006034682A1 (de) Halbleiterbauteil mit in kunststoffgehäusemasse eingebetteten halbleiterbauteilkomponenten
DE10144704B4 (de) Verfahren zum Verbinden eines Bauelements mit einem Träger
WO2013087243A1 (de) Elektrisches bauelement und verfahren zur herstellung eines elektrischen bauelements
EP1040519A1 (de) Kunststoffverbundkörper
EP1040321A1 (de) Messwertaufnehmer und ein verfahren zu dessen herstellung
DE4016953C2 (de)
DE10336747A1 (de) Halbleiterbauelementanordnung mit einer Nanopartikel aufweisenden Isolationsschicht
DE10016380C2 (de) Gehäuse für ein elektrisches Bauteil
DE102010061750A1 (de) Bauteil mit einer elektronischen Einrichtung und Verfahren zu dessen Herstellung
DE3925744C2 (de) Beschleunigungsdetektor
DE60036784T2 (de) Integrierte schaltungsanordnung, elektronisches modul für chipkarte, das die anordnung benutzt, und verfahren zu deren herstellung
WO2006134006A1 (de) Elektrisch leitfähige, mechanisch flexible verbindung zwischen elektrischen bzw. elektronischen bauteilen
DE3522091A1 (de) Schichtschaltung mit umhuellung
DE102005054267B3 (de) Halbleiterbauteil und Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendung des Elektrospinningverfahrens
DE2619433A1 (de) Elektrisches bauelement
DE202022106171U1 (de) Impulsdrahtmodul und Impulsdrahtmodulanordnung
DE102008000786A1 (de) Sensorvorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Sensorvorrichtung
EP4000149A1 (de) Elektrische leiteranordnung
DE102013224899A1 (de) Varistorpaste, optoelektronisches Bauelement, Verfahren zum Herstellen einer Varistorpaste und Verfahren zum Herstellen eines Varistorelements

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee