DD206722A3 - Verfahren und anordnung zur strukturkantenbestimmung in elektronenstrahlgeraeten - Google Patents
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Abstract
EIN VERFAHREN MIT DAZUGEHOERIGER ANORDNUNG ZUR KONTROLLE HINSICHTLICH LAGE, BREITE ODER ABSTAND SOWIE GUETE MIKROELEKTRONISCHER STRUKTUR WIRD IN ELEKTRONENSTRAHLGERAETEN AUF AUF DEM GEBIET DER MIKROLITHOGRAFIE ANGEWENDET. ES HAT DAS ZIEL, DAS MESSEN UND KONTROLLIEREN DERARTIGER STRUKTUREN UNTERSCHIEDLICHER GROESSE UND FORM BIS ZU STRUKTURBREITEN UND -ABSTAENDEN IM SUBMIKROMETERBEREICH HOCHPRODUKTIV SOWIE AUTOMATISCH UND OBJEKTIVIERT ZU ERMOEGLICHEN, WOBEI DIE AUFGABE DARIN BESTEHT, EINE FUER DIE GENAUIGKEITSANFORDERUNGEN AUSREICHEND HOHE ANZAHL VON ELEKTRONEN ZUR AUSWERTUNG ZU VERWENDEN. DAS WESEN DER ERFINDUNG BESTEHT DARIN, DASS ERSTENS EINE ZEILE SENKRECHT ZUR KANTENRICHTUNG MEHRFACH ABGETASTET UND ZWEITENS JEWEILS IN VORGEGEBENEN ABSTAENDEN LAENGS DER KANTENRICHTUNG MEHRERE ZEILEN EINFACH ABGETASTET WERDEN. DURCH SUMMATION EINZELNER SIGNALKURVEN GEBILDET, DIE AUFSCHLUSS UEBER DEN KANTENVERLAUF GIBT. DIE KANTENRAUHIGKEIT WIRD AUS DER STEILHEIT BEIDER KURVEN ERMITTELT. ZUR DURCHFUEHRUNG DES VERFAHRENS WERDEN DIE BEI AUFTREFFEN DES ELEKTRONENSTRAHLS AUS DEM OBJEKT AUSTRETENDEN ELEKTRONEN EINEM EMPFAENGER DER ERFINDUNGSGEMAESSEN SCHALTUNGSANORDNUNG ZUGEFUEHRT.
Description
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Titel äer Erfindung;
Verfahren und Anordnung zur Strukturkantenbeatimmung in Elektronenstrahlgeräten
Anwendungsgebiet der Erfindung:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordnung zu dessen Durchführung, die zur Kontrolle hinsichtlich Lage, Breite oder Abstand sowie Güte von mikrolithografisch hergestellten Strukturen dienen, indem der Verlauf der Strukturkanten automatisch ermittelt wird.
Anwendbar ist die Erfindung auf dem Gebiet der Mikrolithografie in Elektronenstrahlgeräten, die zur Messung und Kontrolle derartiger Strukturmuster dienen. Die Strukturen können als Lackhaftmasken, in metallisierten Glaskörpern oder als Halbleiterscheiben ν or liegen.
Charakteristik
der bekannten teohniaohen Lösungen:
Bekannt ist, für derartige Messungen lichtoptische Meßgeräte einzusetzen, wie aus Prospekten der Fa. Nikon/Japan zu "Micro-Pattern Inspection Station" oder zu "Laser Interferometrie x-y Measuring Machine" hervorgeht.
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Diese Methoden sind jedoch nur möglich, solange die'minimalen Elementeabmessungen bzw. -abstände nicht kleiner als einige Mikrometer-sind.
Dabei wird aus Intensitätsgriinden ein Lichtbündel mit rechteckigem Querschnitt, dessen schmale Seite bis zu 1 um und dessen lange Seite bis zu einigen 100 um mißt, über die Kante der Struktur geführt und das transmittierte oder reflektierte Lichtsignal über Fotodetektoren ausgewertet.
Nachteilig ist, daß damit Forderungen an die geometrische Gestalt der zu vermessenden Strukturen verbunden sind und somit die Vielfalt erheblich eingeschränkt wird. Weiterhin ist bekannt, Elektronenstrahlgeräte zur Kontrolle von Strukturen einzusetzen. Zum Beispiel in der Patentschrift des DD-ViP 124 091 ist beschrieben, daß nach dem Prinzip eines Hasterelektronenmikroskopes eine feine Elektronensonde üb er das zu vermessende Objekt geführt, ein Abbild des Objektes synchron dazu auf einem Bildschirm dargestellt und mit einem projizierten Maßstabsnetz verglichen wird. Die Messung erfolgt direkt mit Hilfe des Maßstäbsnetzes oder durch definierte Objektverschiebung unter Verwendung einer auf den Leuchtschirm projizierten Bezugsmarke.
Nachteilig ist daran, daß die Meßproduktivität zu gering ist und die Meßgenauigkeit subjektiv beeinflußt wird.
Ziel
der
Erfindung
Das Ziel der Erfindung ist, eine Möglichkeit zum Messen und Kontrollieren von mikrolithografisch hergestellten Strukturen unterschiedlicher Größe und Form bis zu Strukturbreiten und -abständen im Submikrometerbereich zu schaffen. Das Verfahren soll hochproduktiv sein sowie automatisch und objektiviert ablaufen.
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IdHB11982*997234
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Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein derartiges Verfahren mit einer Anordnung zu dessen Durchführung zu entwickeln, das gestattet, einerseits die Messung von Strukturbreiten im Submikroraeterbereich durchzuführen, andererseits eine für die Genauigkeitsanforderungen ausreichend hohe Anzahl von Elektronen der Auswertung zugrundezulegen, sowie Aussagen über die Güte der Strukturkanten zu gewinnen.
In einem Verfahren zur Ermittlung des Verlaufs von Strukturkanten in Meßgeräten zur Bestimmung der Lage, der Ausdehnung oder des Abstandes sowie der Güte von vorzugsweise mikrolithografisch hergestellten Strukturmustern, wobei die bei einem Abrastern mit dem Elektronenstrahl entstehenden Signale zur Erfassung der Strukturkanten ausgenutzt werden und der Elektronenstrahl schrittweise über die zu vermessende Kante geführt wird, wird die Aufgabe gemäß der Erfindung anhand folgender Verfahrensschritte gelöst:
a) In der senkrecht zur Kantenausdehnung stehenden Sweeprichtung wird längs einer Linie in konstanten vorgegebenen Schritten das Strukturmuster durch Verschieben des Elektronenstrahls punktweise abgetastet, wobei das in jedem Punkt erhaltene Signal digitalisiert und im Speicher eines Rechners abgelegt wird. Da der Durchmesser der Elektronensonde klein ist, wird daher auch nur die Eigenschaft der Kante in diesem kleinen Bereich erfaßt und andererseits auch keine Forderung an die Längenausdehnung der Kante erhoben.
b) Der Schritt a) wird mehrfach (η-fach) wiederholt, wobei die Koordinate des Sweeps in Kantenrichtung nicht verändert wird, um das Signal-Rausch-Verhältnis des in a) gewonnenen Signals zu verbessern.
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c) Die in den Schritten a) und b) erhaltenen digitalisierten Signalwerte, die zu gleichen Orten längs der Sweeprichtung gehören, werden zu einer Signalkurve summiert.
d) Mir η verschiedene Orte in vorgegebenen Abständen a längs der Strukturkante, die senkrecht zur Sweeprichtung liegt, wird jeweils der Schritt a) wieder-
: holt, um den Einfluß der Kantenrauhigkeit auf das Meßsignal zu verringern.
e) Die im Schritt d) erhaltenen Abtastsignale werden digitalisiert und für alle Abtastpunkte gleicher Koordinate in Sweeprichtung summiert. Das so gewonnene Signal stellt sich als räumlich-zeitliches Mittel über einen Kantenbereich von n.a dar. Der Abstand a wird so gewählt, daß der Sweepversatz der Kantenausdehnung angepaßt ist, d.h. n.a ^,1, 1 = Kantenausdehung.
f) Bei der Signalbildung im Schritt e) werden bei endlicher Kantenrauhigkeit Signale überlagert, die zueinander in Sweeprichtung in Größenordnung der Kantenrauhigkeit verschoben sind. Das resultierende Kantensignal ist also im allgemeinen flacher als ein solches, bei dem a= O gilt .
Die Steilheit der nach c) gewonnenen Signalkurve, d.h. für a = O, wird durch die Steilheit der nach e) gewonnenen Signalkurve, d.h. für a+0, dividiert und dieser Quotient mit einer aus Testobjekten ermittelten Konstanten verknüpft. Dabei entsteht ein Wert, der ein Maß für die Kantenrauhigkeit der zu vermessenden Struktur ist.
Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens dient e ine Anordnung in einem Elektronenstrahigerät, in dem der Elektronenstrahl auf die zu messende Struktur auftrifft und in Abhängigkeit von dieser Struktur ein aus austretenden Elek-
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tronen gebildetes Signal einem Empfänger zugeführt wird. Die Anordnung ist durchfolgende Merkmale gekennzeichnet: Das Empfängersignal, das in seiner Größe sehr unterschiedlich sein kann und einen störenden Grundpegel enthält, wird einem Normierungsglied zugeführt. Das normierte Signal wird in einem AD-Wandler, der Über eine Torschaltung von der Zentraleinheit eines Rechners eingelesen wird, digitalisiert und der Zentraleinheit zugeführt.
Zur digitalen Verschiebung des Elektronenstrahls für die x- und y-Koordinatenrichtung ist je ein Positionszähler vorgesehen, der über DA-Wandler und Endverstärker die Position des Elektronenstrahls über ein Ablenksystem bestimmt. An einem Eingang jedes Positionszählers liegen Informationen über Anfangs- bzw. Endwerte in Sweeprichtung an. Bei Erreichen des Endwertes eines Positionszählers erfolgt e ine Meldung an die Zentraleinheit. Gleichzeitig wird der Positionszähler auf den Anfangswert zurückgesetzt und ein Taktimpuls an den Positionszähler der zweiten Koordinatenrichtung abgegeben. Dadurch kann ein erneuter Abtastsweep auf einer Zeile erfolgen, die parallel zur vorhergehenden verläuft, wobei beide Zeilen einen vorgegebenen Abstand a haben.
Zwischen beiden Positionszählern befindet sich eine elektronische Umschaltvorrichtung zur Wahl der Abtastsweep in x- oder y-Koordinatenrichtung. Dabei dienen als Taktimpulse die Einleseimpulse der Signaldigitalisierung, die außerdem über ein Verzögerungsglied als Startsignal dem AD-Wandler zugeführt werden.
Durch den Einleseimpuls wird das digitalisierte Signal in die Zentraleinheit übernommen. Die Rückflanke dieses Impulses erhöht den Positionszähler} und der Elektronenstrahl nimmt die nächste Position ein. Nach einer Verzögerungszeit wird der AD-Wandler gestaltet und der neue Signalwert digitalisiert.
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Zur Glättung verrauschter Signale dient ein vor dem Normier ungsgli ed geschalteter Tiefpaß, dessen Zeitkonstante auf die Verzögerungszeit des AD-Wandlers abgestimmt ist.
Zur Verbesserung des Kantensignals hinsichtlich Auswertbarkeit kann es vorteilhaft sein, die Signale verschiedener Empfänger additiv oder subtraktiv zu mischen.
Zur Verbesserung der Genauigkeit der Elektronenstrahlpositionierung dienen folgende Merkmale der Schaltungsanordnung;
Die Anpassung der Schrittweite an die zu vermessende Struktur und die Ablenkempfindlichkeit des Ablenksystems erfolgt über eine Impulsvervielfacherstufe und ein digital einstellbares analoges Dämpfunsglis d.
Die Schieflage des Objektes gegen die Richtung der Ablenksysteme wird durch Drehkorrektureinheiten berücksichtigt.
Der Positionszähler mit Schrittweiteneinstellung und schnellem M;-Wandler wird nur für den eigentlichen Rastersweep symmetrisch zur angenommenen Kantenposition genutzt, und die Grundauslenkung des Strahls zu dieser angenommenen Kantenpßsition durch einen zweiten DA-Wandler vor Beginn der Meßreihe eingestellt. Dieser DA-Wandler ist genauer und langsamer, sein Ausgangssignal wird der gerasterten Ablenkspannung additiv hinzugefügt.
Im folgenden soll die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispiels und der dazugehörigen Zeichnung erläutert werden. In der Zeichnung zeigen
Figur 1 Darstellung des Strukturkantenverlaufs,
Figur 2 Schaltungsanordnung zur Erfassung von Strukturkanten ,
Figur 3 Schaltungsanordnung zur Verbesserung des Kantensignals,
Figur 4 Schaltungsanordnung zur Verbesserung der Elektronenstrahlpositionierung.
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Die erfindungsgemäße Lösung zur Erfassung von Strukturkanten geht davon aus, daß ein Elektronenstrahl digital verschoben und das von einem Empfänger erhaltene Signal digitalisiert wird.
Pig. la zeigt im Querschnitt eine Struktur 1 auf einem Trägermaterial 2.
In Pig. Ib ist die Strukturkante 3, die zu vermessen ist, dargestellt. PUr die Lage der Strukturkanten wurde die y-Koordinatenrichtung gewählt. Senkrecht dazu liegt die Sweeprichtung, in der die Strukturkante 3 in vorgegebenen Schritten, z.B. 5 mn, abgetastet wird. Das in jedem Abtastpunkt erhaltene Signal aus Rückstreuelektronen, Sekundärelektronen oder einer Mischung beider wird digitalisiert und gespeichert. Da der Durchmesser der Elektronensonde klein ist, d.h. typiacherweise 10 nm, wird dabei auch nur die Kante in diesem kleinen Bereich erfaßt, andererseits auch keine Forderung an die Längenausdehnung der Kante erhoben. Die Verweilzeit pro Punkt beträgt z.B. 4 us. Aufgrund der geringen Anzahl registrierter Elektronen hat das Signal der Fig. 16 ein kleines Signal-Rausch-Verhältnis. Um dieses zu verbessern, wird das Abtasten bei y = konstant η-fach (z.B. η = 50) wiederholt und die digitalisierten Signalwerte zu einer Signalkurve 5 summiert, die in Fig. 1d dargestellt i3t. In diesem Beispiel dauert damit die Erfassung der Kante n.2ms = 0,1&. Bei dieser Art der Signalbildung wird die Kantenrauhigkeit nicht berücksichtigt. Deshalb werden nach erfolgtem Abtastsweep bei y« jeweils nach Verschieben des Elektronenstrahls längs der y-Richtung um ^y η weitere Messungen durchgeführt. Die entstandenen Signale werden überlagert zu einer Signalkurve 6, die in Fig. 1· f dargestellt ist und ein räumlich-zeitliches Mittel über den Kantenbereich η.Δy darstellt, wobei Ay so gewählt wird, daß n.^y^l (1 = Kantenausdehnung) gilt. Die Steilheit der Signalkurve 5 wird durch die Steilheit der Signalkurve 6 geteilt und dieser Quotient mit einer Konstanten
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verknüpft, die aus Testobjekten ermittelt wurde. Dabei entsteht ein liiert, der ein Maß für die Kantenrauhigkeit ist.
Figur 2 zeigt eine Schaltungaanordnung zur Durchführung des Verfahrens, in der ein Signal eines Empfängers 7 in einem Normierungsglied 8 durch additive Pegelverachiebung und multiplikative Verstärkungsänderung normiert wird. Zur Digitalisierung dieses Signals dient ein AD-Y/andler 9, der über eine Torschaltung 10 von der Zentraleinheit 11 eines Rechners eingelesen wird. Ein Verzögerungsglied 21 erhält den Einleseimpuls EI von der Zentraleinheit 11 und gibt ein Startsignal St an den AD-Wandler 9 ab. Die digitale Verschiebung wird je Koordinatenrichtung durch einen Positionszähler 12 und 13 realisiert, die über je einen DA-V/andler 14 und 15 sowie je einen Endverstärker 16 und 17 ein Ablenksystem 18 für dia χ- Rieht ung und ein Ablenksystem 19 für die y-Richtung beeinflussen. Die Anfangs- und Endwerte Aw und Ew einer Rastersweep werden von der Zentraleinheit 11 den Positionszählern 12} 1.3 vorgegeben, sie beschreiben d ie vermutliche Kantenlage. Durch eine elektronische Umschaltvorrichtung 20 kann wahlweise eine x- oder y-Zeile erzeugt werden. Als Taktimpulse dienen dabei die Einleseimpulse El der Signaldigitalisierung. Bei Erreichen des Endwertes einer Zeile, die im Beispiel in x-Richtung liegt, wird durch den Positionszähler 12 ein Signal M an die Zentraleinheit 11 gegeben. Gleichzeitig wird dieser Positionszähler auf den Anfangswert zurückgesetzt und ein Taktimpuls an den Positionszähler 13 abgegeben. Ein erneuter Abtastsweep erfolgt dadurch auf einer Zeile, die parallel zur ersten um den Abstand 4y versetzt ist.
In Figur 3 ist eine Schaltungsanordnung zur Verbesserung des Kantensignals dargestellt, in der zwei Empfänger 22 und 23 für Rückstreuelektronen und ein Empfänger 24 f ür Sekundärelektronen vorgesehen sind. Die Ausgangssignale der Empfänger 22 und 23 werden in einem Summierglied 25 additiv oder subtraktiv gemischt, das resultierende Signal sowie das. ^usgang3Signal des Empfängers 24 zur Glattung jeweils über
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einen Tiefpaß 26 und 27 den Normierungaglia dern 28 und 29 zugeführt, deren Ausgangssignale in einem weiteren Summierglied 30 additiv oder subtraktiv verknüpft und in einem ÄD-Wandler 31 digitalisiert werden.
Die. .Ze it konstanten dee Tiefpasses 26 sowie des Tiefpasses 2? ist auf die Verzögerungszeit des ad-Wan diers 31 abgestimmt.
Die Schaltungsanordnung der Figur 3 bewirkt eine Verbesserung der Elektronenstrahlpositionierung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens. Die Anpassung des Abstandes Δy an die zu vermessende Strukturkante der Länge 1 sowie an die Ablenkempfindlichkeit der Ablenksysteme 18; 19 erfolgt über eine Impulsvervielfacherstufe 33, die dem Positionszähler 13 vorgeschaltet iat. Außerdem iat dafür ein analoges Dämpfungsglied 35 vorgesehen, das dem DA-Wandler 15 nachgeschaltet ist.
Analog dazu wird die Schrittweite in x-Richtung durch eine Impulsvervielfacherstufe 32, die dem Positionszähler 12 vorgeschaltet ist, und durch ein analoges Dämpfungsglied 34, dem DA-Wandler H nachgeschaltet, realisiert.
Die Schieflage der zu messenden Struktur gegen die Richtung der Ablenksysteme 18; 19 wird durch Drehkorrektureinheiten 36; 37 berücksichtigt. Dabei wird ein einstellbarer Teil der Ablenkspannung der einen Koordinate additiv bzw. subtraktiv der anderen Koordinate hinzugefügt.
Eine erhebliche Genauigkeitssteigerung bei der Positionierung des Elektronenstrahls wird dadurch erreicht, daß der Positionszähler 12 mit dem schnellen DA·*-Wan dl er 14 und dem Dämpfungsglied 34 nur für den eigentlichen Sweep, der im Beispiel in x-Richtung und symmetrisch zur Kantenposition erfolgt, genutzt wird. Die Grundauslenkung des Elektronenstrahls zu dieser angenommenen Kantenposition wird durch einen zweiten DA-Wandler 38 bzw. 39 für die x- bzw. y-Koordinatenrichtung ν or Beginn der Meßreihe eingestellt. Diese arbeiten genauer und langsamer,z.B. mit 16 bit.
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Der digitale Wert dieser Grundauslenkung wird von der Zentraleinheit 11 ermittelt und in zwei den DA-Wandlern 38j 39 jeweils vorgeschalteten Pufferspeichern 40j 41 ausgegeben. Die Ausgangssignale der DA-Wandler 38} 39 werden jeweils mit dem Ausgangssignal des DA-Wandlers 14 oder 15 der entsprechenden Koordinate in einem Summierglied 40 oder 41 summiert, dem auch das Ausgangssignal der betreffenden Drehkorrektureinheit 36 oder 37 zugeführt wird und das mit einem der Endverstärker 16 bzw. 17 verbunden ist.
Zur Erreichung eines hohen Automatisierungsgrades ist es günstig, alle einstellbaren Einheiten digital, d.ft. in den Figuren 3 und 4 mit d gekennzeichnet, von der Zentraleinheit 11 anzusteuern und zusätzliche Rückmeldungen an die Zentraleinheit zu bilden, z.B. Maximal- und Minimalwert des normierten Signals, Stellung der Positionszähler und Bereitschaft des AD-Wandlers.
Durch entsprechende Einstellung des Impulsvervielfachers 33 kann der Abstand Δ y zwischen den Zeilen variiert werden oder dieselbe Zeile zur mehrmaligen Abtastung beibehalten.
Ist eine weitere Vergrößerung von Δy erforderlich, können die Taktimpulse in eine höherwertige Bitstelle des Positionszählers eingespeist werden. Die Mitteilung an die Zentraleinheit 11 über die vermutliche Kantenlage kann erfolgen, indem die Sollposition in die Zentraleinheit 11 eingegeben wird. Dieses Verfahren dient zur Messung bekannter Strukturen an vorgegebenen Meßpunkten. Andererseits kann die Mitteilung erfolgen, indem das Objekt auf einem Bildschirm dargestellt und die zu vermessende Kante in geeigneter Weise markiert wird. Zur bildqrzeugenden Rasterung werden dabei die Positionszähler 12; 13 genutzt. Die Markierung kann z.B. durch eine eingeblendete, verschiebbare Marke erfolgen.
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Claims (5)
- - 11 Brfindunaaanapruch234526Verfahren zur Ermittlung des Verlaufs von Strukturkanten in Meßgeräten zur Bestimmung der Lage, der Ausdehnung oder des Abstandes sowie der Güte von vorzugsweise mikrolithografisch hergestellten Strukturmustern, wobei die beim Abtasten mit dem Elektronenstrahl entstehenden Signale zur Erfassung der dtrukturkanten ausgenutzt werden und der Elektronenstrahl schrittweise über die zu vermessende Kante geführt wird, durch folgende Verfahrensschritte gekennzeichnet:a) in der senkrecht zur Kantenausdehnung stehenden Sweeprichtung wird längs einer Linie in konstanten vorgegebenen Schritten das Strukturmuster punktweise mittels Elektronenstrahls abgetastet, die Abtastsignale werden digitalisiert und gespeichert,b) der Schritt a) wird mehrfach wiederholt, wobei die Koordinate in Kantenrichtung nicht verändert witrd,c) die in den Schritten a) und b) erhaltenen und digitalisierten Signalwerte, die jeweils zu gleichen Orten längs der Sweeprichtung gehören, werden zu einer Signalkurve summiert,d). für η verschiedene Orte in vorgegebenen Abständen a längs der Strukturkante, senkrecht zur Sweeprichtung wird jeweils der Schritt a) wiederholte) die im Schritt d) erhaltenen und digitalisierten Abtastsignale werden für alle Abtastpunkte gleicher Koordinate in Sweeprichtung summiert, und es wer- · den Signale als räumlich-zeitliche Mittelwerte über einen wählbaren Strukturkantenbereich n.a gebildet,3883234526 7f) die Steilheit der nach c) gewonnenen Signalkurve wird durch die Steilheit der nach e) erhaltenen Signalkurve geteilt, und dieser Quotient mit einer aus Testobjekten ermittelten Konstanten verknüpft zu einem Wert, der ein Maß für djae Kantenrauhigkeit der zu vermessenden Struktur ist.. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach Punkt 1 in einem Elektronenstrahlmeßgerät, in dem der Elektronenstrahl auf die zu messende Struktur auftrifft und in Abhängigkeit von dieser Struktur ein aus austretenden Elektronen gebildetes Signal einem Empfänger zugeführt wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Empfängersignal über ein Normierungsglied und einen AD-Wandler, der über eine Torschaltung von der Zentraleinheit eines Rechners eingelesen wird, der Zentraleinheit zugeführt ist, daß ein Einleaeimpuls über ein Verzögerungsglied als Startsignal dem ^D-Wandler zugeführt ist, daß zur digitalen Verschiebung des Elektronenstrahls für die x- und y-Koordinatenrichtung je ein Positionszähler vorgesehen ist,'daß an einem Eingang jedes Positionszählers vorgegebene Anfangs- bzw.
- Endwerte des Rastersweep anliegen, daß jeweils ein erstes Ausgangssignal der Positionszähler über je einen DA-Wandler und einen Endverstärker einem Ablenksystem zur Positionierung des Elektronenstrahls in der betreffenden KoordiiB tenrichtung zugeführt ist und jeweils ein zweiter Ausgang jedes Positionszählers mit der Zentraleinheit verbunden ist, wobeijdiese beiden Ausgangs Signa Ie Informationen über das Erreichen des Endwertes in Sweeprichtung enthalten, daß zwischen beiden Poaitionszählern eine elektronische Umschaltvorrichtung zur Wahl der Sweeprichtung in x- oder y-Koordinatenrichtung vorgesehen ist, wobei als Taktimpulse die Einleseimpulse der Signaldigitalisierung dienen,3883234526 7daß die aweiten Ausgänge der Positionsszähler über die Umschaltvorrichtung jeweils mit dem anderen Positionszähler verbunden sind.
- 3. Anordnung nach Punkt 2 » dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Empfänger vorgesehen sind, die jeweils über ein als Tiefpaß wirkendes Verzögerungsglied mit einem Normierung3glied verbunden sind, und die Ausgangssignale aller Normierungsglieder über ein additiv oder subtraktiv wirkendes Summierungsglied mit dem AD-Y/andler zugeführt sind.
- 4. Anordnung nach Punkt 3 , dadurch gekennzeichnet,daß zumindest einem Teil der Empfänger ein Summierungsglied nachgeschaltet und dieses mit einem Verzögerungsglied verbunden ist.
- 5. Anordnung nach Punkt 2 , dadurch gekennzeichnet, daß zur Anpassung der Schrittweite in Sweeprichtung und des iibstandea a in Kantenrichtung an die zu vermessende Struktur in die Takteingangsleitung der Positionszähler eine einstellbare Impulsvervielfacherstufe und jeweils zwischen dem DA-Wandler und dem Bndverstärker ein einstellbares analoges Dämpfungsglied geschaltet ist, daß zur Korrektur der Schieflage des Objektes Drehkorrektureinheiten vorgesehen sind, daß je Koordinatenrichtung ein zweiter, genauer und langsamer als der erste arbeitender DA-Wandler vorgesehen ist, dessen Ausgangssignal mit der gerasterten Ablenkspannung additiv verknüpft ist.Hierzu 5 Seiten Zeichnungen.3883•UüDl -4QUC*UUOQQA
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