CZ306015B6 - Interferometrický systém a způsob měření prostorového rozložení indexu lomu - Google Patents
Interferometrický systém a způsob měření prostorového rozložení indexu lomu Download PDFInfo
- Publication number
- CZ306015B6 CZ306015B6 CZ2014-714A CZ2014714A CZ306015B6 CZ 306015 B6 CZ306015 B6 CZ 306015B6 CZ 2014714 A CZ2014714 A CZ 2014714A CZ 306015 B6 CZ306015 B6 CZ 306015B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- branch
- sample
- diffraction grating
- radiation
- display system
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 238000009826 distribution Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 65
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 34
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 31
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 14
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 8
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 8
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 5
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 5
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 abstract description 3
- 238000009647 digital holographic microscopy Methods 0.000 abstract description 2
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 9
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 210000004102 animal cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000004113 cell culture Methods 0.000 description 1
- 210000003850 cellular structure Anatomy 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 238000011155 quantitative monitoring Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 239000003440 toxic substance Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/41—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
- G01N21/45—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods
- G01N21/453—Holographic interferometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/41—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
- G01N21/45—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
- G01N21/645—Specially adapted constructive features of fluorimeters
- G01N21/6456—Spatial resolved fluorescence measurements; Imaging
- G01N21/6458—Fluorescence microscopy
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/0443—Digital holography, i.e. recording holograms with digital recording means
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
- G01N21/645—Specially adapted constructive features of fluorimeters
- G01N21/6456—Spatial resolved fluorescence measurements; Imaging
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/06—Illumination; Optics
- G01N2201/061—Sources
- G01N2201/06193—Secundary in-situ sources, e.g. fluorescent particles
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/06—Means for illuminating specimens
- G02B21/08—Condensers
- G02B21/14—Condensers affording illumination for phase-contrast observation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/0465—Particular recording light; Beam shape or geometry
- G03H2001/0467—Gated recording using pulsed or low coherence light source, e.g. light in flight, first arriving light
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2222/00—Light sources or light beam properties
- G03H2222/10—Spectral composition
- G03H2222/14—Broadband source, e.g. sun light
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2222/00—Light sources or light beam properties
- G03H2222/20—Coherence of the light source
- G03H2222/24—Low coherence light normally not allowing valuable record or reconstruction
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2223/00—Optical components
- G03H2223/23—Diffractive element
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computing Systems (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
Způsob měření prostorového rozložení indexu lomu je vhodný k využití v digitální holografické mikroskopii k pozorování vzorků v odraženém i procházejícím záření a k pozorování luminiscenčních vzorků. Interferometrický systém zahrnuje první větev (9.1) a druhou větev (9.2) s množstvím optických prvků. První větev (9.1) zahrnuje v rovině opticky sdružené s předmětovou rovinou (8.1) difrakční mřížku (7) pro vytvoření achromatického hologramu s prostorovou nosnou frekvencí ve výstupní obrazové rovině (8.2).
Description
Interferometrický systém a způsob měření prostorového rozložení indexu lomu
Oblast techniky
Předkládaný vynález se týká interferometrického systému a způsobu měření prostorového rozložení indexu lomu k využití v digitální holografícké mikroskopii k pozorování vzorků v odraženém i procházejícím záření a k pozorování luminiscenčních vzorků.
Dosavadní stav techniky
V současnosti je známo několik uspořádání interferometrických systémů založených na mřížkovém interferometru.
Příklady takových uspořádání jsou uvedeny například v užitných vzorech CZ 8547, CZ 19150 a v patentu CZ P 302491. Tyto systémy využívají interference dvou vzájemně koherentních svazků, přičemž jeden je ovlivněn pozorovaným předmětem a druhý prochází zcela mimo předmět. Dva vzájemně koherentní svazky vzniknou rozdělením osvětlovacího svazku vycházejícího z externího zdroje.
V těchto uspořádáních dosud nebylo možné využít výhod holografického zobrazení pro fluoreskující předměty. V případě fluorescence je zdrojem světla sám vzorek, který mohl být dosud umístěn pouze v jedné větvi, a jím emitované záření nebylo koherentní se zářením v referenční větvi a nemohl tedy vzniknout interferenční obraz (interferogram). Předchozí systémy přihlašovatele umožňují zobrazovat pomocí záření emitovaného pozorovaným předmětem pouze tak, jako v běžném (nekonfokálním) fluorescenčním mikroskopu, tedy tak, že se k zobrazování využívá pouze jedna větev interferometru, v rovině detektoru nevzniká hologram a v každém okamžiku se zobrazuje intenzita zdrojů záření z celého objemu předmětu bez možnosti získat úplnou informaci o předmětové vlně, tj. její amplitudu a fázi a bez možnosti hloubkového rozlišení, tj. nevznikají optické řezy.
Pro vytvoření optického řezu v celém zorném poli se běžně využívají konfokální mikroskopy, u nichž je nutné rastrovat jedním bodem, nebo skupinou vzájemně dostatečně vzdálených bodů, což je časově nevýhodné. Navíc zde není možnost získat kvantitativní fázové zobrazení.
Další příklady jsou uvedeny v patentových dokumentech US 5 671 085 a US 2008/158551. V těchto dokumentech je interferometr v osovém uspořádání, kde osy obou svazků jsou v rovině detektoru rovnoběžné a sjednocené. Zařízení popsaná v těchto dokumentech jsou achromatická, takže zdroj záření může být polychromatický. Hlavní nevýhodou těchto zařízení je, že pro získání úplné informace o předmětové vlně (amplitudy a fáze) je nutno zaznamenat množství interferogramů (alespoň tři) lišících se rozdílem dob šíření emitovaného záření v první a v druhé větvi. Metod pro záznam a rekonstrukci je několik, liší se počtem interferogramů, které je třeba zaznamenat a diferencí rozdílu dob šíření - při menším počtu záznamů musí být velikost diference mezi jednotlivými interferogramy známá a přesně nastavená hodnota (chyba nastavení negativně ovlivňuje přesnost získané informace - zejména fáze), při větším počtu záznamů není nutné dodržet přesnou hodnotu diference mezi jednotlivými interferogramy. Pro nastavení diference se používá různých zařízení umožňujících změnu optické délky větve (zrcadlo, soustava zrcadel, soustava klínových destiček, atd.).
Zařízení dle US 5 671 085 má pouze jeden detektor, takže je možné snímat pouze v časové posloupnosti, což prakticky omezuje použití takového zařízení na statické objekty.
Přesnost přístroje (přesnost získané informace - zejména fáze) ovlivňuje také proudění vzduchu a prostředí obklopujícího vzorek, protože rozdíl dob šíření vlnění procházejícího první větví
- 1 CZ 306015 B6 a vlnění procházejícího druhou větví se v čase náhodně mění (navíc různě pro různé obrazové elementy interferogramu), čímž je do vstupních dat (interferogramů) pro výpočet amplitudy a fáze vnesena náhodná a neznámá funkce, která zvyšuje nepřesnost (chybu) výpočtu.
Systém uvedený v patentovém dokumentu US 2008/158551 využívá kombinačního členu (děliče), který rozdělí svazky z první a z druhé větve a přivede je současně k několika detektorům. Kombinační člen zajistí časově neměnnou diferenci rozdílu dob šíření emitovaného záření v první a v druhé větvi, různou pro různé detektory. Všechny detektory mohou snímat synchronně. Oproti zařízení dle (US 5 671 085) není přesnost měření ovlivněna prouděním okolního prostředí. Nevýhodou tohoto systému je, že použitý kombinační člen může vnášet do zobrazení vady související sjeho konstrukcí, např. poměr intenzit záření dopadajícího na různé detektory může záviset na vlnové délce (dle konstrukce interferenčních vrstev na dělicích plochách - výroba vrstev je finančně náročná, vrstvy jsou navrženy na omezený spektrální interval, propustnost/odrazivost není na daném intervalu konstantní). Další nevýhodou je to, že všechny detektory musí zobrazovat tutéž rovinu (nutno nastavit posunutí ve směru kolmém k rovině detektoru a náklon roviny detektoru), totéž zorné pole (nutno nastavit posunutí ve směru rovnoběžném s rovinou detektoru) a pro všechny detektory musí být zaručeno i shodné zvětšení mezi předmětovou rovinou a rovinou detektoru, což je prakticky velmi obtížně splnitelné. Nedokonalosti nastavení lze částečně korigovat numerickým předzpracováním, což zvyšuje časovou náročnost výpočtu.
Podstata vynálezu
Uvedené nedostatky odstraňuje způsob měření prostorového rozložení indexu lomu vzorku v interferometrickém systému zahrnujícím externí zdroj záření, první větev a druhou větev, soustavu odražečů a detektor umístěný ve výstupní obrazové rovině a připojený k výpočetní jednotce, kde první větev zahrnuje první vstupní zobrazovací soustavu a první výstupní zobrazovací soustavu a druhá větev zahrnuje druhou vstupní zobrazovací soustavu, přičemž první vstupní zobrazovací soustava a druhá vstupní zobrazovací soustava jsou umístěny v jedné ose z proti sobě tak, že mají společnou předmětovou rovinu, v níž se nachází luminiscenční vzorek a je opticky sdružená s výstupní obrazovou rovinou spočívající v tom, že zahrnuje krok excitace luminiscenčních částic obsažených v tomto vzorku externím zdrojem záření, přičemž luminiscenční částice poté emitují záření vlastní, toto emitované záření prochází první větví a druhou větví a dopadá na detektor, kde spolu záření z obou větví interferuje a krok zachycení prvního interferogramu na detektoru a jeho uložení do výpočetní jednotky, krok posunutí vzorku ve směru společné osy z vstupních zobrazovacích soustav vůči předmětové rovině, krok zachycení druhého interferogramu a jeho uložení do výpočetní jednotky, krok vypočtení amplitudy vlnění emitovaného vzorkem a rozdílu fází mezi první větví a druhou větví z prvního a z druhého interferogramu, krok vypočtení rozdílu mezi rozdílem fází z prvního interferogramu a rozdílem fází z druhého interferogramu a krok vypočtení průměrné hodnoty indexu lomu v objemovém elementu definovaném velikostí obrazového elementu a velikostí uvedeného posunu vzorku v ose z.
Ve výhodném provedení je vypočtení průměrné hodnoty indexu lomu ňi(x,y) v daném objemovém elementu vzorku provedeno pomocí vztahu:
_ f Ά áOPO/x.y) , 4ú);(z,y) λ , + »= + »· kde ΔΟΡΰι je změna rozdílu optických drah, n0 je index lomu prostředí obklopujícího vzorek, Δζί je velikost posunu vzorku v ose z, λ je vlnová délka záření emitovaného vzorkem, Δψί je změna rozdílu fází na intervalu ΔΖ(.
V dalším výhodném provedení se k vypočtení změny rozdílu fází použije obrazový element prvního a druhého fázového obrazu o stejných souřadnicích (x,ý).
-2CZ 306015 B6
Nedostatky systémů známých ze stavu techniky dále odstraňuje interferometrický systém zahrnující externí zdroj záření, první větev a druhou větev, soustavu odražečů a detektor umístěný ve výstupní obrazové rovině, kde první větev zahrnuje první vstupní zobrazovací soustavu a první výstupní zobrazovací soustavu a druhá větev zahrnuje druhou vstupní zobrazovací soustavu, přičemž první vstupní zobrazovací soustava a druhá vstupní zobrazovací soustava jsou umístěny v jedné ose proti sobě tak, že mají společnou předmětovou rovinu opticky sdruženou s výstupní obrazovou rovinou spočívající v tom, že v rovině opticky sdružené s předmětovou rovinou dále zahrnuje alespoň jednu difrakční mřížku pro vytvoření achromatického hologramu s prostorovou nosnou frekvencí ve výstupní obrazové rovině.
Ve výhodném provedení je soustava odražečů uzpůsobena tak, že je na detektor směrován nenulový difrakční řád záření difraktovaného na zmíněné difrakční mřížce.
Interferometrický systém může pro získání obrazové informace využívat záření z externího zdroje, které interagovalo se vzorkem nebo obrazovou informaci ze záření emitovaného vzorkem.
V dalších provedeních může zahrnovat různé typy difrakční mřížky, které je navíc možné realizovat jako vyměnitelné.
Další přednosti a výhody tohoto vynálezu budou zřejmé po důkladném přečtení příkladů provedení s odpovídajícími odkazy na průvodní obrázky.
Objasnění výkresů
Obr. 1 je schematické znázornění příkladu výhodného provedení interferometrického systému
Obr. 2 je schematické znázornění druhého příkladu výhodného provedení interferometrického systému
Obr. 3 je schematické znázornění třetího příkladu výhodného provedení interferometrického systému
Obr. 4 je schematické znázornění čtvrtého příkladu výhodného provedení interferometrického systému
Obr. 5 je schematické znázornění pátého příkladu výhodného provedení interferometrického systému
Obr. 6 je schematické znázornění šestého příkladu výhodného provedení interferometrického systému
Obr. 7 je schematické znázornění sedmého příkladu výhodného provedení interferometrického systému
Obr. 8 je schematické znázornění osmého příkladu výhodného provedení interferometrického systému
Obr. 9 je příklad zpracování holografického záznamu za účelem získání zobrazení amplitudy (modul komplexní amplitudy) a fáze (argument komplexní amplitudy)
Obr. 10 je znázornění posuvného panelu pro výměnu difrakčních mřížek
Obr. 11 je znázornění otočného panelu pro výměnu difrakčních mřížek
Obr. 12 a) schematické znázornění optických drah první a druhé větve zobrazovacího interferometru s vloženým předmětem, b) posunutí předmětu o ňzb c) průběh indexu lomu ve zvoleném obrazovém elementu podél osy z a průměrný index lomu ňť na intervalu ΔΖί, d) průběh rozdílu fází φ mezi první a druhou větví v závislosti na poloze předmětu podél osy z, e) průběh funkce φ = mod27r(0), která značí zbytek po dělení rozdílu fází φ hodnotou 2π, f) navzorkované hod
-3 CZ 306015 B6 noty funkce φ.
Příklady uskutečnění vynálezu
Příklad výhodného provedení interferometrického systému je schematicky znázorněn na obr. 1. Jedná se o interferometrický systém pro vytvoření hologramu luminiscenčního vzorku 1 nebo vzorku 1 nasvíceného vhodným externím zdrojem záření.
Luminiscenční vzorek 1 je obvykle vzorek fluorescenční, tj. luminiscenčními částicemi jsou částice fluorescenčního barviva obsažené ve vzorku 1. Další možné příklady luminiscenčního vzorku 1 zahrnují např. autofluorescenci nebo fosforescenci. Vhodnými příklady takového vzorku 1 jsou rostlinné i živočišné buňky, shluky buněk, mikroorganizmy anebo technické mikroobjekty. Sledování luminiscenčních částic vzorku 1 zde tedy probíhá až po jeho excitaci (ozáření) externím zdrojem záření. Dále v příkladech uskutečnění vynálezu budou uvedeny příklady s fluorescenčním barvivém. Předpokládá se, že odborník znalý této oblasti techniky je schopen aplikovat uvedené příklady i na ostatní typy luminiscence.
V případě vzorku 1 nasvíceného vhodným externím zdrojem záření je vzorek ozařován např. časově a prostorově nekoherentním externím zdrojem záření, přičemž je zkoumáno záření, které interagovalo se vzorkem 1. Za interakci se považují například odraz, ohyb, rozptyl, absorpce a fázový posun. To se využije u vzorků 1, které nevykazují luminiscenci.
Na obr. 1 se nachází příklad interferometrického systému tvořený externím zdrojem záření (není na obrázku), první větví 9.1, druhou větví 92, přenosovou soustavou odražečů a detektorem 5.
První a druhá větev (9.1, 9.2) začínají v předmětové rovině 8.1 a končí ve výstupní obrazové rovině 82. První a druhá větev (92, 92) obecně v různých provedeních obsahují množinu optických prvků, zahrnující například odražeč nebo čočku a také složitější optické prvky, jako je objektiv, prvek s měnitelnou ohniskovou vzdáleností, vychylovací prvek, soustava odražečů, prvek s pevnou optickou délkou či prodlužovací prvky.
Předmětová rovina 8.1 prochází vzorkem 1. První větev 9.1 a druhá větev 92 mají přibližně stejnou optickou délku a přibližně stejné zvětšení, a to od začátku po konec větví. Rozdíl mezi dobou šíření záření v první větvi 9,1 a ve druhé větvi 92 je tedy menší než koherenční doba použitého záření. Toto může být v systému z obr. 1 provedeno tak, že jsou optické délky komponent v obou větvích voleny tak, aby kompenzovaly různé geometrické délky větví a použití odlišných zobrazovacích soustav, nebo lze pro nastavení shodných optických délek využít prodlužovací prvek 4.1 (42), jak je uvedeno v dalších provedeních. Zvětšení v první větvi 92 a v druhé větvi 92 od předmětové roviny 82 až po výstupní obrazovou rovinu 8.2 je přibližně stejné a první výstupní obraz vytvořený první větví 92 ve výstupní obrazové rovině 82 a druhý výstupní obraz vytvořený druhou větví 92 ve výstupní obrazové rovině 82 se v podstatě překrývají, čímž je zajištěna interference záření z obou těchto větví.
Externí zdroj záření je připojen tak, aby umožnil ozáření vzorku 1 umístěného v předmětové rovině 82.· Toto může být provedeno například ozářením skrze jednu vstupní zobrazovací soustavu, nebo současně skrze obě vstupní zobrazovací soustavy, přičemž proti sobě jdoucí záření z externího zdroje v okolí předmětové roviny 82 konstruktivně interferuje, nebo ozářením vzorku 1 světelným listem (light-sheet) vně vstupních zobrazovacích soustav, přímo v předmětové rovině 82. Externí zdroj záření, ozařující vzorek 1 může být zdroj s libovolným stupněm časové i prostorové koherence. Šipka na obrázku znázorňuje libovolné záření z externího zdroje 6.
V první větvi 92 je umístěna první vstupní zobrazovací soustava 22 a první výstupní zobrazovací soustava 32. První primární obrazová rovina 8.3 je opticky konjugovaná s předmětovou rovinou 82 skrze první vstupní zobrazovací soustavu 22 a s výstupní obrazovou rovinou 82 skrze
-4CZ 306015 B6 první výstupní zobrazovací soustavu 3.1.
V druhé větvi 9.2 je umístěna druhá vstupní zobrazovací soustava 22. Výstupní obrazová rovina 8.2 je opticky konjugovaná s předmětovou rovinou 8.1 skrze druhou vstupní zobrazovací soustavu 22. Uvedené vstupní zobrazovací soustavy jsou v tomto provedení sestaveny z objektivů zobrazujících v nekonečnu a z objektivů zobrazujících v konečné vzdálenosti. V jiných provedeních může být využit pouze jeden z uvedených typů objektivů nebo jejich libovolná kombinace. Objektivem chápeme první zobrazovací prvek umístěný za sledovaným objektem, který vytváří jeho obraz buď v konečné nebo nekonečné vzdálenosti za tímto zobrazovacím prvkem, nebo komponentu k tomuto účelu určenou. První vstupní zobrazovací soustava 2.1 a druhá vstupní zobrazovací soustava 2.2 jsou umístěny v jedné ose proti sobě tak, že mají společnou předmětovou rovinu 8.1. Optické osy první výstupní zobrazovací soustavy 3.1 a druhé vstupní zobrazovací soustavy 2.2 jsou v rovině detektoru sjednocené a rovnoběžné s normálou detektoru. V tomto provedení je první výstupní zobrazovací soustava 3.1 složena ze dvou optických prvků, mezi nimiž je umístěn odražeč, jak je znázorněno na obr. 1. Např.: první optický prvek první výstupní zobrazovací soustavy 3.1 je umístěn tak, že jeho předmětové ohnisko leží v blízkosti první přimámí obrazové roviny 8.3 a druhý optický prvek první výstupní zobrazovací soustavy 3.1 je umístěn tak, že jeho obrazové ohnisko leží v blízkosti výstupní obrazové roviny 82.
Nejdůležitějším prvkem interferometrického systému je první difrakční mřížka 7.1, která je v tomto provedení umístěna v první primární obrazové rovině 8.3.
Svazek záření v první větvi 9.1, jehož osa je sjednocena s osou první vstupní zobrazovací soustavy 2.1, vychází z této zobrazovací soustavy 2.1 a směřuje do první primární obrazové roviny 8.3, difraktuje na první difrakční mřížce 7.1 a dále se šíří směrem k první výstupní zobrazovací soustavě 3.1.
Osa svazku je za difrakční mřížkou 7.1 v obecném případě odkloněna od osy první výstupní zobrazovací soustavy 3.1 o úhel a15 pro který platí: sin(ai) = s λ f, kde s je celé číslo a značí difrakční řád, A je vlnová délka difraktovaného záření a / je prostorová frekvence difrakční mřížky (hustota vrypů).
V případě nultého difrakčního řáduje s = 0, tj. také a2 = 0 a osa svazku v nultém difrakčním řádu 11 je za difrakční mřížkou sjednocena s osou první výstupní zobrazovací soustavy 3.1. Zrcadlo 12 je zároveň umístěno pod takovým úhlem, že kdyby bylo větší tak, aby odráželo i svazek v nultém difrakčním řádu, byla by osa tohoto svazku rovnoběžná s normálou výstupní obrazové roviny 8.2. Protože je ovšem žádoucí směrovat na detektor 5 pouze jeden difrakční řád, a to jiný než nultý, tj. např. první, je velikost a poloha zrcadla volena tak, aby svazky ostatních difrakčních řádů včetně nultého odfiltrovalo, jak je zřejmé z obrázků. To lze alternativně řešit i pomocí utlumovacích prvků umístěných v dráze svazku.
V případě prvního difrakčního řáduje s = 1, tj. a2 Ψ 0 a osa svazku v prvním difrakčním řáduje za difrakční mřížkou různoběžná s osou první výstupní zobrazovací soustavy 3.1 a svírá s ní nenulový úhel ax. Svazek záření difraktovaný difrakční mřížkou 7.1 pod nenulovým úhlem a2 tedy vstupuje do první výstupní zobrazovací soustavy 3.1 s osou odkloněnou rovněž o úhel vzhledem k optické ose první výstupní zobrazovací soustavy 3.1 a vystupuje z výstupní zobrazovací soustavy 3.1 s osou odkloněnou o nenulový úhel β^ vzhledem k optické ose první výstupní zobrazovací soustavy 3.1 a poté vstupuje do výstupní obrazové roviny 82 interferometru s osou odkloněnou rovněž o úhel β2 vzhledem k normále výstupní obrazové roviny 82.
Mezi úhly a βγ platí vztah sin^) = 5111(00/771^ kde m1 je zvětšení první výstupní zobrazovací soustavy 3.1.
Ostatní difrakční řády, zejména nultý a druhý se obecně za difrakční mřížkou vyskytují a jejich relativní intenzita se mění s vlnovou délkou, ale pro zobrazování v tomto provedení nejsou využi
-5CZ 306015 B6 ty. Naopak jsou pro zvýšení kvality zobrazení odfiltrovávány. V alternativním provedení ovšem lze pracovat s jiným, například druhým difrakčním řádem a odstraňovat řády ostatní.
Svazek záření v druhé větvi 92, jehož osa je sjednocena s osou druhé vstupní zobrazovací soustavy 22, vychází z této zobrazovací soustavy 22 a směřuje do výstupní obrazové roviny 8.2. Normála výstupní obrazové roviny 82 je rovnoběžná s osou druhé vstupní zobrazovací soustavy 22.
Osa svazku první větve 9.1 a osa svazku druhé větve 92 spolu ve výstupní obrazové rovině 82 svírají obecně nenulový úhel β2, pro nějž platí: sin(/?x) = = ίΔΖ Svazek první větve 9.1
771^.
a svazek druhé větve 9.2 jsou vzájemně koherentní, interferují spolu a ve výstupní obrazové rovině 82 vzniká interferogram s prostorovou nosnou frekvencí —, nezávislou na vlnové délce (tj. interferogram je achromatický). Prostorová nosná frekvence interferogramu není závislá na poloze zdroje záření v předmětové rovině 8.1, tj. předkládaný interferometrický systém je prostorově invariantní. Ve výstupní obrazové rovině 82 se nachází detektor 5.
V jiných provedeních může být difrakční mřížka 7 umístěna ve druhé větvi 92, případně ve větvích obou. Frekvence f difrakční mřížky 7 musí být větší než čtyřnásobek převrácené hodnoty násobku minimální vlnové délky Zmin, pro kterou je difrakční mřížka 7 určena a numerické apertury NAd svazku dopadajícího na difrakční mřížku 7, tedy musí splňovat vztah f > -------.
AmlnNAd Interferogram je pak hologramem.
V provedení na obr. 1 je využita difrakční mřížka 7 transmisní, alternativně však lze využít i reflexní difrakční mřížku 7.
V příkladu na obr. 2 se jedná o analogii výše popsaného systému znázorněného na obr. 1 s tím rozdílem, že první výstupní zobrazovací soustava 3.1 zobrazuje v nekonečnu a je přidána společná zobrazovací soustava 10, kterou může být například objektiv s měnitelnou ohniskovou vzdáleností.
V dalším příkladu na obr. 3 se jedná o obdobný systém jako na obr. 1 s tím rozdílem, že je použita první výstupní zobrazovací soustava 3.1 zobrazující v konečné vzdálenosti.
Na obr. 4 se nachází analogie výše popsaného systému znázorněného na obr. 3. První větev 9.1 a druhá větev 92 začínají v předmětové rovině 8.1, ve které leží vzorek 1 a končí ve výstupní obrazové rovině 82. V první větvi 9,1 je umístěna první vstupní zobrazovací soustava 2.1 a první výstupní zobrazovací soustava 3.1 a prodlužovací prvek 4.1. První primární obrazová rovina 8.3 je opticky konjugovaná s předmětovou rovinou 8.1 skrze první vstupní zobrazovací soustavu 2.1 a s výstupní obrazovou rovinou 82 skrze první výstupní zobrazovací soustavu 3.1.
Prodlužovací prvek 4,1 slouží k nastavení shodných optických délek obou větví a optickou délku může prodlužovat i zkracovat, takže je zřejmé, že v jiném provedení vynálezu může být prodlužovací prvek 4.1 umístěn pouze ve druhé větvi 92 nebo ve větvích obou.
Ve druhé větvi 92 je umístěna druhá vstupní zobrazovací soustava 22 a druhá výstupní zobrazovací soustava 32. Druhá primární obrazová rovina 8.4 je opticky konjugovaná s předmětovou rovinou 8.1 skrze druhou vstupní zobrazovací soustavu 22 a s výstupní obrazovou rovinou 82 skrze druhou výstupní zobrazovací soustavu 32.
Uvedené zobrazovací soustavy jsou sestaveny z objektivů zobrazujících v nekonečnu nebo zobrazujících v konečné vzdálenosti nebo z jejich libovolné kombinace. Jak bude uvedeno dále v popisu vynálezu, výstupní zobrazovací soustavy (3.1 a 32) obou větví mohou mít některé prvky společné. V tomto příkladu provedení mají společnou zobrazovací soustavu 10, kterou může být
-6CZ 306015 B6 například objektiv s měnitelnou ohniskovou vzdáleností (nazýváno též transfokátor, nebo zoom). První vstupní zobrazovací soustava 2.1 a druhá vstupní zobrazovací soustava 2.2 jsou umístěny v jedné ose proti sobě tak, že mají společnou předmětovou rovinu 8.1.
V příkladu na obr. 5 se jedná o analogii výše popsaného systému znázorněného na obr. 4 s tím rozdílem, že v druhé větvi je umístěn prodlužovací prvek 42.
V příkladu na obr. 6 se jedná o příklad jiného prostorového uspořádání systému znázorněného na obr. 4, s tím rozdílem, že první větev 9.1 kromě první vstupní zobrazovací soustavy 2,1, difrakční mřížky 7.1 a první výstupní zobrazovací soustavy 3,1, zahrnuje také první prodlužovací prvek 4.1 tvořený přenosovou soustavou odražečů. Dále už shodně druhá větev 9.2 zahrnuje druhou vstupní zobrazovací soustavu 2,2 a druhou výstupní zobrazovací soustavu 32. Obě soustavy zahrnují společnou zobrazovací soustavu 10. která směruje záření z obou větví na detektor 5.
Další příklad provedení interferometrického systému podle vynálezu je uveden na obr. 7. Jedná se o analogii výše popsaného systému znázorněného na obr. 6 s tím rozdílem, že v obou větvích, tedy v první i druhé, je zařazena difrakční mřížka (7.1 a 7.2). Jedná se tedy o uspořádání, kdy je v blízkosti první primární obrazové roviny 8.3 umístěna první difrakční mřížka 7.1 a v blízkosti druhé primární obrazové roviny 8.4 je umístěna druhá difrakční mřížka 72. Prodlužovací prvky 4.1 a 4.2 mohou být realizovány mnoha způsoby. V tomto provedení jsou tvořeny přenosovými soustavami odražečů.
Mezi úhly a2 a β2 platí obdobný vztah jako mezi úhly ατ a β2 popsaný výše v příkladu provedení z obr. 1.
Další příklad provedení interferometrického systému podle vynálezu je uveden na obr. 8. Jedná se o analogii výše popsaného systému znázorněného na obr. 6 s tím rozdílem, že je v druhé větvi 92 použit druhý prodlužovací prvek 42 jiného typu a že transmisní difrakční mřížka 7.1 je nahrazena difrakční mřížkou 7.1 reflexní. Reflexní difrakční mřížku 7.1 lze využít i u všech dříve uvedených příkladů provedení.
Relativní intenzita difrakčních řádů závisí na vlnové délce difraktovaného záření. Difrakční mřížku 7 je vhodné navrhnout tak, aby účinnost mřížky byla maximální pro využívaný difrakční řád (např. blejzované mřížky). To platí pouze pro jednu vlnovou délku, pro ostatní vlnové délky účinnost využívaného difrakčního řádu klesá a naopak roste relativní intenzita nevyužívaných řádů. Je proto výhodné, aby difrakční mřížka 7 byla uložena vyměnitelně, aby bylo možno interferometrický systém přizpůsobit vlnové délce záření dopadajícího na difrakční mřížku.
Difrakční mřížka 7 je ve výhodném provedení umístěna na panelu obdélníkového tvaru, na kterém je možno umístit několik difrakčních mřížek 7. Výměna difrakční mřížky 7 je pak provedena posunutím panelu s difrakčními mřížkami 7, a to buď ručně, nebo s pomocí libovolného pohonu. Na obr. 9 je uveden příklad posuvného panelu difrakční mřížky 7.
V dalším provedení je difrakční mřížka 7 umístěna na panelu kruhového tvaru, na něhož je možno umístit několik difrakčních mřížek 7. Výměna difrakční mřížky 7 je pak provedena otočením panelu s difrakčními mřížkami 7, a to také buď ručně, nebo s pomocí libovolného pohonu. Na obr. 10 je uveden příklad otočného panelu difrakční mřížky 7.
Při práci ve fluorescenčním režimu jsou částice fluorescenčního barviva obsažené ve vzorku 1 vloženém mezi první vstupní zobrazovací soustavou 2.1 a druhou vstupní zobrazovací soustavou 22 v předmětové rovině 8.1 excitovány externím zdrojem záření a poté emitují záření vlastní. Záření emitované částicemi fluorescenčního barviva ve vzorku 1 je časově nekoherentní. Jeho spektrální šířka je v řádu jednotek až desítek nanometrů. Jednotlivé částice fluorescenčního barviva navíc emitují vzájemně nekoherentní záření. Fluorescenční vzorek 1 se tedy makroskopicky chová jako širokopásmový (časově nekoherentní) objemový prostorově nekoherentní zdroj záře
-7CZ 306015 B6 ní. Emitované záření se šíří do všech směrů, prochází první větví 9.1 a druhou větví 9.2 a dopadá na detektor 5, kde spolu záření z obou větví interferuje a detektor 5 snímá výsledný interferogram, který je díky konstrukci interferometrického systému achromatickým, mimoosovým hologramem. Interferometrický systém je prostorově invariantní v tom smyslu, že vytvářený hologram má prostorovou nosnou frekvenci nezávislou na poloze zdroje záření.
Výstupní přenosová soustava odražečů 12 (viz obr. 8) usměrňuje záření na detektor 5. Tato soustava může být provedena mnoha způsoby. Detektor 5 bývá obvykle provedený jako plošný detektor 5, např. jako CCD čip. Jak bylo zdůrazněno v popisu výše, interference může nastat pouze v případě, že záření emitované částicemi fluorescenčního barviva má v obou větvích interferometrického systému rozdíl optických drah menší než je koherenční délka tohoto záření. K detektoru 5 je připojena výpočetní jednotka (není na obrázku), která může být provedena jako standardní počítač.
Například s využitím výše popsaných příkladů interferometrického systému lze realizovat způsob měření prostorového rozložení indexu lomu. Na detektoru 5 se tedy nejdříve zaznamená intenzita interference první a druhé větve 9.1 a 9.2, tj. interferogram, který je dále uložen do výpočetní jednotky. U interferenčního systému podle vynálezu je zaznamenaný interferogram hologramem, tj. obsahuje úplnou informaci o předmětové vlně (o její amplitudě a fázi). U jiných systémů známých ze stavu techniky je třeba získat interferogramů několik a z nich až následně rekonstruovat předmětovou vlnu (její amplitudu a fázi).
Rekonstrukci amplitudy a fáze předmětové vlny lze provést několika způsoby, které se liší především dle použitého interferenčního systému a zároveň lze pro jeden typ interferometrického systému použít různé numerické metody. U interferenčního systému podle vynálezu se využívá např. filtrace spektra prostorových frekvencí hologramu ve fourierovském prostoru. Spektrum prostorových frekvencí hologramu lze získat např. využitím 2D diskrétní Fourierovy transformace. V postranním pásmu spektra prostorových frekvencí se provede výřez oblasti okolo prostorové nosné frekvence hologramu a na výřezu se provede zpětná 2D diskrétní Fourierova transformace. Prostorová nosná frekvence je frekvence, ve které nabývá frekvenční spektrum v postranním pásmu svého maxima. Velikost výřezu je dána kružnicí se středem v nosné frekvenci a poloměrem úměrným kde NA0 je numerická apertura objektivu, Zmin je minimální vlnová délka emitovaného záření a m je celkové zvětšení mezi předmětovou rovinou 8.1 a výstupní obrazovou rovinou 8.2.
Výsledkem inverzní Fourierovy transformace je komplexní amplituda předmětové vlny, jejíž modul udává reálnou amplitudu předmětové vlny a argument komplexní amplitudy udává fázi předmětové vlny. Vypočtené hodnoty fáze jsou omezeny na interval < —π; π >. Pro správné zobrazení a interpretaci fáze je nutné fázové skoky odstranit (tzv. navázat fázi) přičtením celých násobků hodnoty 2π. Obr. 11 popisuje právě zpracování holografíckého signálu popsaného výše.
Holografícký signál lze tedy odvodit z teorie interference záření, a to např. postupem popsaným výše. Shmeme-li výše uvedený postup, tak se numerickým zpracováním získá fázové zobrazení a amplitudové zobrazení. Numerické zpracování zahrnuje operace Fourierova transformace, filtrace spektra prostorových frekvencí, inverzní Fourierova transformace. Výsledkem je komplexní amplituda signálu, jejíž modul představuje amplitudu a argument jeho fázi.
Ostatní způsoby výpočtu amplitudy a fáze předmětové vlny není třeba popisovat, protože jsou v oboru dobře známé. Dále už se bude u různých systémů postupovat obdobně.
V dalším kroku se vzorek 1 posune ve směru osy z a zachytí se druhý interferogram, který je dále uložen do výpočetní jednotky. Takovým posouváním vzorku 1 ve směru optické osy z po intervalech délky Δζι, lze tedy získat sérii N hologramů, přičemž index i = 1,2, ...,N - 1 značí pořadové číslo intervalu posunutí mezi i. a (i + 1). snímkem hologramu. Velikost posunutí Δζι se
-8CZ 306015 B6 může lišit pro různé snímky, proto se rozlišují indexem i. Amplitudové zobrazení vytváří optický řez. Zobrazuje pouze tu část vzorku 1, která leží v blízkém okolí společné předmětové roviny 8.1. Ze série těchto řezů (sada N obrazů) lze zrekonstruovat prostorové rozložení částic fluorescenčního barviva ve vzorku L Ze série fázových zobrazení lze získat prostorové rozložení indexu lomu uvnitř měřeného vzorku L
Na obr. 12 a) je schematické znázornění optických drah první větve 9.1 a druhé větve 9.2 interferometrického systému s vloženým vzorkem 1. První větev 9,1 je od předmětové roviny 8.1 směrem k detektoru 5 nalevo, druhá větev směrem k detektoru 5 napravo. Obě větve mají shodnou délku.
Částice fluorescenčního barviva umístěná na optické ose z v bodě + D emituje záření do všech směrů. Paprsek jdoucí proti směru osy z, tj. první větví 9,1 směrem k detektoru 5 nalevo, projde optickou dráhu OPL, (x, y) danou vztahem:
OPLfyx.y) = íl anodz + ^i+D n(x,y,z)dz.
Paprsek jdoucí po směru osy z, tj. druhou větví 9.2 směrem k detektoru 5 napravo, projde optickou dráhu danou vztahem:
0P/?i(x,y) = fyDn(x,y,z)dz+ ^i+2Dn0dz.
Rozdíl optických drah mezi prvou a druhou větví je pak dán vztahem:
0PDi(x,y) = OPLi(x,y) - OPRfx.y) = rl rdi+D rT rdi+2D nodz + I n(x,y,z)dz — I n(x,y,z)dz — I nodz.
at Jl Jat+D Jr
Posuneme-li vzorek 1 vůči předmětové rovině 8.1 o Azh tj. z polohy at+D do polohy ai+1 + D, jak je znázorněno na obrázku 12 b), změní se OPDi na OPDt+1. Změna rozdílu optických drah Z0PD[ (x, y) je rovna:
AOPDfx.y) = 0PDi+1(x,y) - OPDfx.y) = 2 n(x,y,z)-nodz.
Pak ňOPDfx.y) odpovídá dvojnásobku vyšrafované plochy v obr. 12 c). Na obr 12 c) je zakreslen průběh indexu lomu n(z) ve zvoleném obrazovém elementu v místě o určitých souřadnicích (x,y) podél osy z. Obrazový element je tedy například pixel CCD čipu nebo jde o libovolnou část interferogramu, tedy skupinu pixelů. Průměrný index lomu ňž(x,y) na intervalu Δζ, je:
ňfx.y) _ ΔΟΡΡ^χ,γ) 2ΔΖ[ °'
Rozdíl optických drah 0PD(x, y) lze přepočítat na rozdíl fází φ podle vztahu φ = — OPD, kde Λ λ je vlnová délka emitovaného záření. Průběh φ(ζ) pro index lomu n(z) z obrázku 12 c) je zakreslen na obrázku 12 d). Pro AOPDfx.y) platí:
Δ OP Di (x,y) = Δφί (x, y) , kde Δφι = φι+1 — φι je rozdíl mezi rozdílem fází vypočteným z prvního interferenčního obrazu a rozdílem fází vypočteným z druhého interferenčního obrazu a vyjadřuje změnu rozdílu fází na intervalu Δζ^ tj. mezi polohami + D a ai+1 + D vzorku J_.
-9CZ 306015 B6
Fázová informace rekonstruovaná např. výše popsaným postupem z digitálního záznamu hologramu je diskrétním souborem hodnot φ^, které vzorkují funkci φ = mod27r($), která značí zbytek po dělení rozdílu fází φ hodnotou 2π. Grafické zobrazení funkce φ(ζ) je na obrázku 12 e). Navzorkované hodnoty jsou znázorněny na obrázku 12 f). Vzorkovaní musí být dostatečné, tj. interval Δζι dostatečně malý, aby bylo možné navzorkovanou funkci^? spolehlivě navázat (odstranit skoky o 2tt), tedy získat funkci φ = φ + p 2π, kde p je neznámé celé číslo. Nejkratší interval m, na kterém se φ změní o 2π, určíme z podmínky:
2π
Δφί = φί+1 - φί = —ΔΟΡΩι < 2π ^ία//°η(χ^'ζ>>~ηοάζ - 2π’ přičemž levá strana nerovnice bude největší pro λ = an = nmax. Po úpravě dostáváme:
^min ^(nmax~ no)
Maximální interval vzorkování Δζ{ volíme menší než m/3 a tedy dZj < —.
6(nmax no)
Navazování funkce φ se provádí v prostoru (x,y,z). Hodnotu parametru p není nutné znát, protože pro výpočet prostorového rozložení indexu lomu uvnitř měřeného vzorku 1, tj. průměrné hodnoty indexu lomu ňi(x,y) na každém intervaludzí? je potřeba znát změnu rozdílu fází Δφι a jelikož platí: Δφι = Δφι, je tedy:
Fázového zobrazení lze využít také k upřesnění polohy částic fluorescenčního barviva ve směru optické osy.
Způsob měření prostorového rozložení indexu lomu i samotný interferometrický systém je možné použít i pro množství jiných zařízení spadajících do rozsahu ochrany tohoto vynálezu, přestože je popsán ve vztahu k jeho výhodným provedením. Předpokládá se, že se uvedené patentové nároky vztahují i na tyto varianty a úpravy zařízení spadající do skutečného rozsahu ochrany vynálezu.
Průmyslová využitelnost
Průmyslové využití interferometrického systému a způsobu měření prostorového rozložení indexu lomu dle vynálezu je např. pro kvantitativní monitorování změn prostorového rozložení buněčné hmoty v čase v závislosti na vnějších podmínkách, tj. pozorování např. živých buněčných kultur a mikroorganizmů a jejich reakci na různé vnější podněty např. tlak, teplota, toxické látky, léčiva apod. Index lomu buněčných struktur je totiž přímo úměrný hustotě hmoty v těchto strukturách obsažené.
Claims (16)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Způsob měření prostorového rozložení indexu lomu vzorku (1) v interferometrickém systému zahrnujícím externí zdroj záření, první větev (9.1) a druhou větev (9.2), soustavu odražečů a detektor (5) umístěný ve výstupní obrazové rovině (8.2) a připojený k výpočetní jednotce, kde první větev (9.1) zahrnuje první vstupní zobrazovací soustavu (2.1) a první výstupní zobrazovací soustavu (3.1) a druhá větev (9.2) zahrnuje druhou vstupní zobrazovací soustavu (2.2), přičemž první vstupní zobrazovací soustava (2.1) a druhá vstupní zobrazovací soustava (2.2) jsou umístěny v jedné ose z proti sobě tak, že mají společnou předmětovou rovinu (8.1), v níž se nachází luminiscenční vzorek (1) a je opticky sdružená s výstupní obrazovou rovinou (8.2), vyznačující se tím, že zahrnuje krok excitace luminiscenčních částic obsažených v tomto vzorku (1) externím zdrojem záření, přičemž luminiscenční částice poté emitují záření vlastní, toto emitované záření prochází první větví (9.1) a druhou větví (9.2) a dopadá na detektor (5), kde spolu záření z obou větví interferuje a krok zachycení prvního interferogramu na detektoru (5) ajeho uložení do výpočetní jednotky, krok posunutí vzorku (1) ve směru společné osy z vstupních zobrazovacích soustav (2.1,2.2) vůči předmětové rovině (8.1), krok zachycení druhého interferogramu a jeho uložení do výpočetní jednotky, krok vypočtení amplitudy vlnění emitovaného vzorkem (1) a rozdílu fází mezi první větví (9.1) a druhou větví (9.2) z prvního a z druhého interferogramu, krok vypočtení rozdílu mezi rozdílem fází z prvního interferogramu a rozdílem fází z druhého interferogramu a krok vypočtení průměrné hodnoty indexu lomu v objemovém elementu definovaném velikostí obrazového elementu a velikostí uvedeného posunu vzorku (1) v ose z.
- 2. Způsob měření prostorového rozložení indexu lomu podle nároku 1, vyznačující se tím, že vypočtení průměrné hodnoty indexu lomu ήιίχ,γ) vdaném objemovém elementu vzorku (1)je provedeno pomocí vztahu: ňfx^) = + n0 = λ + n0, kde ΔΟΡΰί je změna rozdílu optických drah, n0 je index lomu prostředí obklopujícího vzorek, Δζι je velikost posunu vzorku (1) vose z, Λ je vlnová délka záření emitovaného vzorkem (1), Διβι je změna rozdílu fází na intervalu ΔΖί.
- 3. Způsob měření prostorového rozložení indexu lomu podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, žesek vypočtení změny rozdílu fází použije obrazový element prvního a druhého fázového obrazu o stejných souřadnicích (x,y).
- 4. Interferometrický systém zahrnující externí zdroj záření, první větev (9.1) a druhou větev (9.2), soustavu odražečů a detektor (5) umístěný ve výstupní obrazové rovině (8.2), kde první větev (9.1) zahrnuje první vstupní zobrazovací soustavu (2.1) a první výstupní zobrazovací soustavu (3.1) a druhá větev (9.2) zahrnuje druhou vstupní zobrazovací soustavu (2.2), přičemž první vstupní zobrazovací soustava (2.1) a druhá vstupní zobrazovací soustava (2.2) jsou umístěny v jedné ose proti sobě tak, že mají společnou předmětovou rovinu (8.1) opticky sdruženou s výstupní obrazovou rovinou (8.2), vyznačující se tím, že v rovině opticky sdružené s předmětovou rovinou (8.1) dále zahrnuje alespoň jednu difrakční mřížku (7) pro vytvoření achromatického hologramu s prostorovou nosnou frekvencí ve výstupní obrazové rovině (8.2).
- 5. Interferometrický systém podle nároku 4, dále zahrnuje prodlužovací prvek (4.1) pro nastavení shodných optických délek obou větví.
- 6. Interferometrický systém podle nároku 4 nebo 5, dále zahrnuje druhou výstupní zobrazovací soustavu (3.2).
- 7. Interferometrický systém podle kteréhokoliv z nároků 4 až 6, vyznačující se tím, že soustava odražečů je uzpůsobena tak, že je na detektor (5) směrován nenulový difrakční řád- 11 CZ 306015 B6 záření difraktovaného na zmíněné difrakční mřížce (7).
- 8. Interferometrický systém podle kteréhokoliv z nároků 4 až 7, vyznačující se tím, že pro získání obrazové informace využívá záření z externího zdroje, které interagovalo se vzorkem (1).
- 9. Interferometrický systém podle nároků 4 až 7, vyznačující se tím, že získává obrazovou informaci ze záření emitovaného vzorkem (1).
- 10. Interferometrický systém podle kteréhokoliv z nároků 4až9, vyznačující se tím, že detekované záření není koherentní.
- 11. Interferometrický systém podle kteréhokoliv z nároků 4 až 10, vyznačující se tím, že první výstupní zobrazovací soustava (3.1) a druhá výstupní zobrazovací soustava (3.2) mají alespoň jeden optický prvek společný.
- 12. Interferometrický systém podle kteréhokoliv z nároků 4 až 11, vyznačující se tím, že difrakční mřížka (7) je provedena jako transmisní amplitudová difrakční mřížka (7) nebo transmisní fázová difrakční mřížka (7).
- 13. Interferometrický systém, podle kteréhokoliv z nároků 4 až 11, vyznačující se tím, že difrakční mřížka (7) je provedena jako reflexní amplitudová difrakční mřížka (7) nebo reflexní fázová difrakční mřížka (7).
- 14. Interferometrický systém podle kteréhokoliv z nároků 4 až 13, vyznačující se tím, že dále zahrnuje alespoň jeden prvek s měnitelnou ohniskovou vzdáleností.
- 15. Interferometrický systém kteréhokoliv z nároků 4 až 14, vyznačující se tím, že difrakční mřížka (7) je vyměnitelná.
- 16. Interferometrický systém podle kteréhokoliv z nároků 4 až 15, vyznačující se tím, že k detektoru (5) je připojena výpočetní jednotka pro numerické zpracování výstupu.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CZ2014-714A CZ306015B6 (cs) | 2014-10-20 | 2014-10-20 | Interferometrický systém a způsob měření prostorového rozložení indexu lomu |
PCT/CZ2015/000117 WO2016062296A1 (en) | 2014-10-20 | 2015-10-05 | Interferometric system and method of measurement of refractive index spatial distribution |
US15/520,293 US20170322151A1 (en) | 2014-10-20 | 2015-10-05 | Interferometric System and Method of Measurement of Refractive Index Spatial Distribution |
EP15797580.6A EP3209999A1 (en) | 2014-10-20 | 2015-10-05 | Interferometric system and method of measurement of refractive index spatial distribution |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CZ2014-714A CZ306015B6 (cs) | 2014-10-20 | 2014-10-20 | Interferometrický systém a způsob měření prostorového rozložení indexu lomu |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CZ2014714A3 CZ2014714A3 (cs) | 2016-06-22 |
CZ306015B6 true CZ306015B6 (cs) | 2016-06-22 |
Family
ID=54608209
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ2014-714A CZ306015B6 (cs) | 2014-10-20 | 2014-10-20 | Interferometrický systém a způsob měření prostorového rozložení indexu lomu |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20170322151A1 (cs) |
EP (1) | EP3209999A1 (cs) |
CZ (1) | CZ306015B6 (cs) |
WO (1) | WO2016062296A1 (cs) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3488221B1 (en) * | 2016-07-20 | 2023-10-25 | IMEC vzw | An integrated lens free imaging device |
EP3580598A1 (en) | 2016-12-05 | 2019-12-18 | Memorial Sloan Kettering Cancer Center | Modulation interferometric imaging systems and methods |
KR20210033342A (ko) | 2019-09-18 | 2021-03-26 | 삼성전자주식회사 | 초 해상도 홀로그래픽 현미경 |
FR3114650A1 (fr) * | 2020-09-25 | 2022-04-01 | Biomerieux | Procédé d'analyse d'un échantillon biologique avec analyse de conformité initiale |
FR3114651A1 (fr) * | 2020-09-25 | 2022-04-01 | Biomerieux | Procédé d'analyse d'un échantillon biologique avec détermination de la répartition spatiale de biomasse le long de l'axe optique |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5671085A (en) * | 1995-02-03 | 1997-09-23 | The Regents Of The University Of California | Method and apparatus for three-dimensional microscopy with enhanced depth resolution |
US6778270B2 (en) * | 2002-09-13 | 2004-08-17 | Finisar Corporation | Holographic demultiplexor |
EP1734417A1 (en) * | 2004-03-31 | 2006-12-20 | Pioneer Corporation | Hologram reproduction device and hologram reproduction method |
US20080158551A1 (en) * | 2006-12-21 | 2008-07-03 | Hess Harald F | Systems and methods for 3-dimensional interferometric microscopy |
US20100172003A1 (en) * | 2007-06-11 | 2010-07-08 | Pioneer Corporation | Hologram apparatus and recording and reproducing method of the same |
CZ302491B6 (cs) * | 2010-04-14 | 2011-06-15 | Vysoké ucení technické v Brne | Interferometrický systém s prostorovou nosnou frekvencí zobrazující v polychromatickém zárení |
CZ302520B6 (cs) * | 2008-05-06 | 2011-06-29 | Ústav prístrojové techniky AV CR, v.v.i. | Interferometrický systém s kompenzací zmen indexu lomu prostredí |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CZ8547U1 (cs) | 1999-03-09 | 1999-04-16 | Radim Chmelík | Holografický konfokální mikroskop pro bílé světlo |
CZ19150U1 (cs) | 2008-10-06 | 2008-12-08 | Vysoké ucení technické v Brne | Holografický mikroskop |
CN102576209B (zh) * | 2009-10-08 | 2016-08-10 | 布鲁塞尔大学 | 离轴数字全息显微镜 |
-
2014
- 2014-10-20 CZ CZ2014-714A patent/CZ306015B6/cs not_active IP Right Cessation
-
2015
- 2015-10-05 EP EP15797580.6A patent/EP3209999A1/en not_active Withdrawn
- 2015-10-05 US US15/520,293 patent/US20170322151A1/en not_active Abandoned
- 2015-10-05 WO PCT/CZ2015/000117 patent/WO2016062296A1/en active Application Filing
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5671085A (en) * | 1995-02-03 | 1997-09-23 | The Regents Of The University Of California | Method and apparatus for three-dimensional microscopy with enhanced depth resolution |
US6778270B2 (en) * | 2002-09-13 | 2004-08-17 | Finisar Corporation | Holographic demultiplexor |
EP1734417A1 (en) * | 2004-03-31 | 2006-12-20 | Pioneer Corporation | Hologram reproduction device and hologram reproduction method |
US20080158551A1 (en) * | 2006-12-21 | 2008-07-03 | Hess Harald F | Systems and methods for 3-dimensional interferometric microscopy |
US20100172003A1 (en) * | 2007-06-11 | 2010-07-08 | Pioneer Corporation | Hologram apparatus and recording and reproducing method of the same |
CZ302520B6 (cs) * | 2008-05-06 | 2011-06-29 | Ústav prístrojové techniky AV CR, v.v.i. | Interferometrický systém s kompenzací zmen indexu lomu prostredí |
CZ302491B6 (cs) * | 2010-04-14 | 2011-06-15 | Vysoké ucení technické v Brne | Interferometrický systém s prostorovou nosnou frekvencí zobrazující v polychromatickém zárení |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20170322151A1 (en) | 2017-11-09 |
CZ2014714A3 (cs) | 2016-06-22 |
WO2016062296A1 (en) | 2016-04-28 |
EP3209999A1 (en) | 2017-08-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6438054B2 (ja) | 三次元干渉顕微鏡観察のためのシステムおよび方法 | |
Slabý et al. | Off-axis setup taking full advantage of incoherent illumination in coherence-controlled holographic microscope | |
JP5399322B2 (ja) | 三次元干渉顕微鏡観察 | |
US9874737B2 (en) | Method and apparatus for combination of localization microscopy and structured illumination microscopy | |
US9410880B2 (en) | Laser differential confocal mapping-spectrum microscopic imaging method and device | |
CZ306015B6 (cs) | Interferometrický systém a způsob měření prostorového rozložení indexu lomu | |
US20150292941A1 (en) | Modal decomposition of a laser beam | |
JP5120873B2 (ja) | 分光計測装置及び分光計測方法 | |
US9684282B2 (en) | System, method and apparatus for wavelength-coded multi-focal microscopy | |
US11921045B2 (en) | Holographic three-dimensional multi-spot light stimulation device and method | |
KR101593080B1 (ko) | 회절 위상 현미경 시스템 및 이를 이용한 측정방법 | |
CN114324245B (zh) | 基于部分相干结构光照明的定量相位显微装置和方法 | |
CZ2010288A3 (cs) | Interferometrický systém s prostorovou nosnou frekvencí zobrazující v polychromatickém zárení | |
RU2608012C2 (ru) | Двухканальный дифракционный фазовый микроскоп | |
Kim et al. | Experimental and theoretical study of the Gouy phase anomaly of light in the focus of microlenses | |
CZ28139U1 (cs) | Interferometrický systém | |
RU2673784C1 (ru) | Двухкомпонентный интерферометр общего пути | |
Kim et al. | Photonic Nanojet engineering: Focal point shaping with scattering phenomena of dielectric microspheres | |
de Leon | Optical design of volume holographic imaging systems for microscopy | |
CZ21593U1 (cs) | Interferometrický systém s prostorovou nosnou frekvencí zobrazující v pólychromatickém záření | |
BG1854U1 (bg) | Холографски микроскоп със спектрално маркиране на изследваните обекти |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Patent lapsed due to non-payment of fee |
Effective date: 20211020 |