CZ281523B6 - Způsob elektrofotografické výroby luminiscenčního stínítka barevné obrazovky - Google Patents

Abstract

Způsob elektrofotografické výroby luminiscenčního stínítka barevné obrazovky zahrnuje kroky nanášení vodivé vrstvy (32) na podložku obrazovky, překrytí této vodivé vrstvy (32) fotovodivou vrstvou (34), ustavení elektrostatického náboje na fotovodivé vrstvě (34) a vystavení zvolených oblastí fotovodivé vrstvy (34) viditelnému světlu pro ovlivnění náboje na ní. Zvolené oblasti se potom vyvolávají třením elektricky nabitými suchými práškovými, povrchovově ošetřenými materiály stínítka. Zlepšený způsob zvyšuje přilnavost povrchově ošetřených materiálů k fotovodivé vrstvě (34) kontaktováním povrchově ošetřených materiálů rozpouštědlem, aby se fotovodivá vrstva (34) a povrchově ošetřené materiály staly lepivými. Usušené stínítko je potom fixováno soustavou povlaků vodné alkoholové směsi dvojchromanového polyvinylalkoholu a křemičitanu draselného, dále je potaženo filmem, hliníkováno a vypečeno.ŕ

Description

Způsob elektrografické výroby luminiscenčního stínítka

Oblast techniky

Vynález se týká způsobu elektrofotografické výroby stínítka a zejména výroby stínítka pro barevnou obrazovku při použití suchých práškových povrchově ošetřených materiálů konstrukce stínítka elektricky nabitých třením.

Dosavadní stav techniky

Konvenční obrazovka typu se stínící maskou obsahuje vakuovanou obálku, v níž je umístěno stínítko obsahující matici fosforových prvků tři různých emisních barev, uspořádaných v cyklickém pořádku, prostředek pro vytváření tří konvertgentních elektronových svazků nasměrovaných ke stínítku a soustavu pro selekci barev nebo stínící masku, obsahující tenký mnohaotvorový plech, přesně umístěný mezi stínítkem a prostředkem pro vytváření elektronového svazku. Otvory opatřený plech stíní stínítko a rozdíly v konvertgentních úhlech umožňují prošlým částem každého elektronového svazku selektivně budit fosforové prvky požadované emisní barvy. Matice světlo absorbujícího materiálu obklopuje fosforové prvky.

V jednom známém procesu pro vytváření každé matice fosforových prvků na pozorovacím stínítku obrazovky je vnitřní povrch čelní desky pokryt řídkou kaší fotosenzitivního plnidla a fosforovými částečkami uzpůsobenými pro emisi světla jedné ze tří emisních barev. Řídká kašička je usušena pro vytvoření povrchu a světelné pole je promítané ze zdroje přes otvory ve stínící masce a na vysušený povlak tak, že maska pracuje jako fotografická matrice. Exponovaný povlak je následné vyvolán pro vytváření první barvu emitujících fosforových prvků. Proces se opakuje pro fosforové prvky emitující druhou a třetí barvu za použití téže stínící masky, ale při přemístěni světelného zdroje pro každou expozici. Každá poloha světelného zdroje aproximuje konvergenční úhel jednoho z elektronových svazků, který budí příslušné barvy emitující fosforové prvky. Podrobnější popis tohoto procesu, který je znám jako fotolitografický vlhký proces, může být nalezen v americkém patentovém spise č. 2 625 734 vydaném Η. B. Lawovi 20. ledna 1953.

Nevýhodou shora popsaného vlhkého procesu je, že tento proces není schopen splnit vysoké požadavky na rozlišení následující generace přístrojů zábavné elektroniky a dokonce ještě vyšší požadavky na rozlišeni pro monitory, pracovní stanice a aplikace vyžadující barevný alfanumerický text. Navíc vlhký fotolitografický proces včetně výroby matrice vyžaduje 182 hlavních procesních kroků, dále vyžaduje rozsáhlé instalace a použití čisté vody a vyžaduje i odsávání odpadového fosforu a jeho regeneraci a používá velká množství elektrické energie pro exponování a sušení fosforových materiálů.

Americký patentový spis č. 3475161, popisuje proces pro elektrofotografické stínění barevné obrazovky. Vnitřní povrch čelní desky obrazovky je pokryt vypařitelným vodivým materiálem a potom překryt vrstvou vypařitelného fotovodivého materiálu.

-1CZ 281523 B6

Fotovodivé vrstva je potom jednolité nabita, selektivně exponována světlem přes stínící masku pro vytvoření latentního nabitého obrazu a vyvolána za použití tekutého nosiče o vysoké molekulární váze. Tekutý nosič obsahuje v suspenzi množství fosforových částeček dané emisní barvy, které jsou selektivně umístěny na vhodně nabité oblasti fotovodivé vrstvy pro vyvolání latentního obrazu. Nabíjecí, expoziční a depoziční proces je opakován pro každý ze tři barvu emitujících fosforů, to jest zelený, modrý a červený uspořádaných na stínítku. Zlepšení v elektrofotografickém stínění je popsáno v americkém patentovém spise 4 448 866. V tomto patentu se má adheze fosforových částeček zvýšit jednolitou expozicí částí fotovodivé vrstvy ležící mezi nanešenými vzorci fosforových částic světlem, a to po každém nanášecím kroku, pro snížení nebo vybití jakéhokoliv zbytkového náboje a pro umožnění jednotnějšího znovunabití fotovodiče pro následná nanášení. Protože poslední dva patenty popisují elektrofotografický proces, to jest v podstatě vlhký proces, mnoho z nevýhod, které byly popsány shora vzhledem k vlhkému fotolitografickému procesu podle amerického patentu č. 2 625 734 se týkají také vlhkého elektrofotografického procesu.

Patentové přihlášky US č. 287 356, 287 358 a 287 355, popřípadě popisují zlepšený proces výroby stínítka obrazovky za použití suchých práškových, třením elektricky nabitých materiálů stínítka a povrchově ošetřených fosforových částic opatřených spojovacím činidlem pro řízení charakteristik třením vznikajícího náboje na fosforových částicích. V průběhu výrobního procesu jsou povrchově ošetřené materiály stínítka elektrostaticky přitahovány k fotovodivé vrstvě na čelní desce a přitažlivá síla je funkcí velikosti třením vzniklého náboje na materiálech stínítka. K upevnění povrchově ošetřených materiálů k fotovodivé vrstvě se použilo tepelného lepení. Tepelné lepení však někdy způsobuje trhliny ve fotovodivé vrstvě, která se v průběhu následného kroku filmováni ve výrobním procesu odchlipne. Je tedy žádoucí zajistit způsob alternativní k tepelnému lepení, aby se zabránilo ztrátám stínítek v průběhu výrobního procesu.

Podstata vynálezu

Způsob elektrofotografické výroby sestavy stínítka na podložce pro použiti v obrazovce podle vynálezu zahrnuje kroky nanášení vodivé vrstvy na podložku a překrytí vodivé vrstvy fotovodivou vrstvou, vytvořeni elektrostatického náboje na fotovodivé vrstvě a exponování zvolených oblastí fotovodivé vrstvy viditelným světlem pro ovlivnění náboje na ni. Potom jsou zvolené oblasti fotovodivé vrstvy vyvolány třením elektricky nabitými suchými práškovými povrchové ošetřenými materiály struktury stínítka. Zlepšený proces zvyšuje přilnavost povrchově ošetřených materiálů k fotovodivé vrstvě kontaktováním povrchově ošetřených materiálů a pod nimi ležící fotovodivé vrstvy rozpouštědlem, čímž se materiály a vrstva stanou lepivými, potom se materiály fixuji, aby se minimalizovalo jejich posunutí.

Přehled obrázků na výkresech

Vynález bude dále podrobněji popsán podle připojených výkresů, kde na obr. 1 je pohled, částečně v axiálním řezu, na barevnou obrazovku vyrobenou podle tohoto vynálezu, na obr. 2 je řez

-2CZ 281523 B6 soustavou stínítka v obrazovce znázorněné na obr. 1, na obr. 3a až 3f jsou znázorněny vybrané kroky ve výrobě obrazovky znázorněné na obr. 1 a na obr. 4 je blokové schéma současného elektrofotografického suchého stínícího procesu.

Popis konkrétního provedení

Obr. 1 znázorňuje barevnou obrazovku 10, mající skleněnou obálku 11, obsahující pravoúhlý čelní panel 12 a válcovité hrdlo 14, propojené pravoúhlou nálevkou 15. Nálevka 15 má vnitřní vodivý povlak, který není znázorněn a který se dotýká anodového knoflíku 16 a je protažen do hrdla 14. Panel 12 obsahuje podložku nebo pozorovací čelní desku 18 a obvodovou přírubu nebo boční stěnu 20, která je přiletována k nálevce 15 skleněnou fritou 21. Tříbarevné fosforové stínítko 22 je uloženo na vnitřní ploše čelní desky 18. Stínítko 22 , znázorněné na obr. 2, je s výhodou čárové stínítko, které zahrnuje soustavu stínítkových prvků sestavených z fosforových pásků R, G popřípadě B, emitujících červenou, zelenou, popřípadě modrou barvu, které jsou uspořádány v barevných skupinách nebo obrazových prvcích do tří pruhů nebo triád v cyklickém pořádku a táhnou se ve směru, který je obecně kolmý k rovině v níž jsou generovány elektronové svazky. V normální pozorovací poloze pro toto příkladné provedení se fosforové pásky R,G,B táhnou ve vertikálním směru. Fosforové pásky R,G,B jsou s výhodou od sebe odděleny světlo absorbujícím matricovým materiálem 23., jak je v oboru známo. Alternativně může být stínítko 22 i bodovým stínítkem. Tenká vodivá vrstva 24., s výhodou z hliníku, překrývá stínítko 22 a zajišťuje prostředek pro přiloženi jednotného potenciálu ke stínítku 22 stejné jako odrážející světlo emitované z fosforových prvků přes čelní desku 18. Stínítko 22 a překrývající hliníková vodivá vrstva 24 tvoří sestavu stínítka 22.

Opět podle obr. 1 mnohatvarová elektroda selekce barev nebo stínící maska 25 je odstranitelné připevněna běžnými prostředky v předem stanoveném prostorovém vztahu k sestavě stínítka 22. Elektronová tryska 26, znázorněná schematicky čárkovaně na obr. 1, je centrálně upevněna v hrdle 14 pro generování a směrování tří elektronových svazků 28 podél konvergentních drah přes otvory v masce 25 na stínítko 22. Elektronová tryska 26 může být například bipotenciálni elektronová tryska typu popsaného v americkém patentu č. 4 620 133, nebo jakákoliv jiná vhodná elektronová tryska.

Obrazovka 10 je konstruována pro použití s vnějším magnetickým vychylovacim jhem, jako je jho 30 umístěné v oblasti spojení nálevky 15 s hrdlem 14. Když je aktivováno jho 30., působí na tři elektronové svazky 28 magnetickými poli, které způsobují, že elektronové svazky 28 rastrují horizontálně a vertikálně v pravoúhlém rastru na stínítku 22. Počáteční rovina vychýlení, to jest při nulovém vychýlení, je znázorněna čarou P - P na obr. 1 asi uprostřed jha 30,. Pro jednoduchost nejsou skutečná zakřivení drah vychýlených elektronových svazků ve vychylovaci oblasti znázorněna .

Stínítko 22 je vyrobeno novým elektrofotografickým způsobem, který je schematicky znázorněn na obr. 3a až 3f. Na počátku je čelní panel 12 omýván žíravým roztokem, opláchnut vodou, leptán

-3CZ 281523 B6 ústrojným roztokem kyseliny fluorovodíkové a opláchnut opět vodou, jak je známo v oboru. Vnitřní povrch pozorovací čelní desky 18 je potom pokryt vrstvou 32 elektricky vodivého materiálu, která zajištuje elektrodu pro ji překrývající fotovodivou vrstvu 34.

Vodivá vrstva 32 je pokryta fotovodivou vrstvou 34 obsahující odpařitelný organický polymerický materiál, vhodné fotovodivé barvivo citlivé na viditelné světlo a rozpouštědlo. Složení a způsob vytváření vodivé vrstvy 32 a fotovodivé vrstvy 34 jsou popsány ve shora zmíněné US patentové přihlášce č. 287, 356.

Podle vynálezu je fotovodivá vrstva 34 překrývající vodivou, vrstvu 32 nabita v temném prostředí konvenčním pozitivním koronárním vybíjecím zařízením 36 schematicky znázorněným na obr. 3b, které se pohybuje přes vrstvu 34 a nabíjí ji v rozmezí od +200 V do +700 V, ačkoliv nejvýhodnéjší oblastí je +200 až +400 V. Stínící maska 25 je vložena do panelu 12 a kladně nabitý fotovodič je exponován přes stínící masku 25 světlem ze xenonové lampy 38 s reflektorem uspořádaným v konvenčním trojitém majáku, představovaném čočkou 40 z obr. 3c. Po každém exponování je lampa 38 přemístěna do odlišné polohy pro kopírování úhlu dopadu elektronových svazků 28 z elektronové trysky. Požadují se tři expozice ze tří různých poloh lampy 38, pro vybití oblastí fotovodiče, kde budou následně nanešeny světlo emitující fosfory pro vytvoření stínítka 22. Po expozičním kroku se stínící maska 25 odstraní od čelního panelu 12 a čelní panel 12 se přemístí do první vývojnice 42, viz obr. 3d, první vývojnice 42 obsahuje vhodně připravené částečky ve formě suchého prášku světlo absorbujícího černého materiálu, tvořícího matici stínítka 22 a neznázorněných povrchové upravených izolačních nosných kuliček, které mají průměr asi od 200 do 300 mikrometrů a které předávají třením vzniklý elektrický náboj částečkám materiálů černé matrice, jak je zde popsáno. Nosné kuličky jsou povrchově ošetřeny, jak je popsáno v americké patentové přihlášce č. 287357.

Vhodné materiály černé matrice obecně obsahuj í černé pigmenty, které jsou stabilní při provozní teplotě obrazovky 10 450 ’C. Černé pigmenty vhodné pro použití při výrobě matricových materiálů 23 zahrnují železomanganový oxid, železokobaltový oxid, zinkoželezný sirník a izolační saze. Materiál černé matrice se připravuje rozmícháním a rozpuštěním pigmentu, polymeru a vhodného činidla řízení náboje, které řídí velikost třením vznikajícího elektrického náboje předávaného materiálu matrice. Materiál je rozemlet na průměrnou velikost částic asi 5 mikrometrů.

Černý matricový materiál a povrchově ošetřené nosné kuličky jsou smíchány v první vývojnici 42 za použití asi 1 až 2 hmotnostních % černého matricového materiálu. Materiály jsou smíchány tak, že jemně rozdělené matricové částečky jsou v kontaktu a jsou například záporné nabity povrchové ošetřenými nosnými kuličkami. Záporné nabité částečky matricového materiálu jsou vypuzeny z vývojnice 42 a přitahovány ke kladně nabité neexponované oblasti fotovodivé vrstvy 34 pro přímé vyvíjení v této oblasti.

Fotovodivá vrstva 34, obsahující matrici 23 je jednotné znovu nabita na kladný potenciál asi 200 až 400 V pro aplikaci prvního ze tří třením elektricky nabitých suchých práškových povrchově ošetřených, barvu emitujících materiálů fosforového

-4CZ 281523 B6 stínítka 22, které jsou vyrobeny procesem popsaným ve shora zmíněných US patentových přihláškách č. 287, 358 a 287, 355. Stínící maska 25 je znovu vložena do panelu 12 a vybrané oblasti fotovodivé vrstvy 34., odpovídající umístění, kde bude uložen fosforový materiál emitující zelené světlo, jsou exponovány viditelným světlem z prvního místa uvnitř majáčku pro selektivní vybití exponovaných oblastí. Umístění prvního světla se přibližuje konvergenčnimu úhlu elektronového svazku 28 dopadajícího na zelené emitující fosfor. Stínící maska 25 je odstraněna z panelu 12 a panel je přemístěn ke druhé vývojnici 42. Druhá vývojnice 42 obsahuje třením elektricky nabité, suché práškové a povrchové ošetřené částice zelené světlo emitujícího fosforu materiálu stínítka 22 a povrchově ošetřené nosné skleněné kuličky. Fosforové částice jsou povrchově ošetřeny vhodným náboj řídicím materiálem, jako je například polyamid, polyetyloxazolin nebo želatina.

Tisíc gramu povrchově ošetřených nosných kuliček je kombinováno s 15 až 25 gramy povrchově ošetřených fosforových částic ve druhé vývojnici 42. Nosné kuličky jsou ošetřeny pro předáni náboje, například kladného, fosforovým částicím. Kladné nabité, zelené světlo emitující fosforové částice jsou vypuzeny z druhé vývojnice 42 . odpuzovány kladné nabitými oblastmi fotovodivé vrstvy 34 a matrice 23 a usadí se na vybité, světlu vystavené oblasti fotovodivé vrstvy 23 v procesu známém jako inversní vyvíjení. Usazené, zelené světlo emitující fosforové částice jsou fixovány k fotovodivé vrstvě 34 vystavením povrchové ošetřeného fosforu infračervenému zářeni, které taví nebo teplotně spojuje fosfor s fotovodivou vrstvou 34.

Proces nabíjení, exponování, vyvíjení a fixace se opakuje pro suché práškové, modré a zelené světlo emitující fosforové částice materiálu stínítka. Exponování viditelným světlem pro selektivní vybití kladně nabitých oblastí fotovodivé vrstvy 34 se provádí z druhé a potom ze třetí polohy v majáčku pro aproximaci konsergenčních úhlů elektronových svazků 28 dopadajících na modré světlo emitující fosfor a na červené světlo emitující fosfor. Třením elektricky kladné nabité suché práškové částice jsou smíchány s povrchově ošetřenými nosnými kuličkami ve shora popsaném poměru a vypuzeny z třetí a potom čtvrté vývojnice 42 , odpuzovány kladně nabitými oblastmi dříve nanesených materiálů stínítka 22 a usadí se na vybitých oblastech fotovodivé vrstvy 34 pro zajištění modré, popřípadě červené světlo emitujících fosforových prvků.

Suché práškové fosforové částice jsou povrchově ošetřeny pokrytím částic vhodným polymerem. Napařovací směs se vytvoří rozpuštěním asi 0,5 až 5,0 a s výhodou 1,0 až 2,0 hmotnostních procent polymeru ve vhodném rozpouštědle. Fosforové částice mohou být pokryty napařovací směsí použitím bud rotačního napařovače a fluidizované sušičky, absorbčnim způsobem, nebo při použiti rozprašovací sušárny. Napařené fosforové částice se vysuší, rozdrobí a je-li to nutné prošijí sítem 400 mesh, což představuje přibližně 16 ok na délkový milimetr, za sucha podrtí, je-li to žádoucí, s modifikátorem tečeni, jako je křemenný materiál, například Cobosil nebo jeho ekvivalent. Koncentrace modifikátoru tečení je v rozmezí přibližně od 0,1 do 2,0 hmotnostních procent povrchové ošetřeného fosforu.

-5CZ 281523 B6

Ve druhé ze zmíněných dvou aplikací jsou fosforové částice nejdříve opatřeny spojitým povlakem oxidu křemičitého a potom jsou překryty silanovým nebo titanátovým pojícím činidlem, vytvořeným rozpouštěním asi 0,1 gramu pojícího činidla v asi 200 ml vhodného rozpouštědla.

Materiály stínítka 22, obsahující povrchově ošetřený matricový materiál 23 a povrchově ošetřené fosforové částice jsou zatavený do fotovodivé vrstvy 34 kontaktováním fotovodivé vrstvy 34 a povrchové ošetřených materiálů parami rozpouštědla, jako je chlorobenzen, které jsou emitovány ze zásobníku 44, znázorněném na obr. 3e, uspořádaného v neznázorněné obálce nad čelní deskou

18. Těžké páry nasakují a změkčují podkladovou fotovodivou vrstvu 34 a polymerické pojící činidlo pokrývající fosforové částice a matricový materiál 23 a dávají vrstvě a povlakům lepivost pro zvýšeni přilnavosti povrchové ošetřených materiálů stínítka 22 k fotovodivé vrstvě 34.. Umístěním stínítka 22 čelní desky 18 směrem nahoru, jak je zřejmé z obr. 3e, používá se pro zvýšení přilnavosti mezi lepivými, povrchově ošetřenými materiály stínítka 22 a fotovodivou vrstvou 34 gravitační síly. Nasákáni par se uskutečňuje mezi čtyřmi a dvaceti čtyřmi hodinami a panely se před dalším zpracováním suší.

Jak je znázorněno na obr. 3f, je čelní deska 18 potom fixována v sérii kroku pro zajištění fixační vrstvy 46, překrývající stínítko 22 a matrici 23. Pro plné pokrytí granulovaných materiálů stínítka 22 se požadují opakované aplikace fixační vrstvy 46 pro minimalizaci jejich posunutí. V prvním příkladném provedení vynálezu, kde fosforové částice jsou potaženy želatinou, je fixovací smés vytvořena kombinaci 0,1 hmotnostních procent polyvinylalkoholu s 25 hmotnostními procenty vody a 75 hmotnostními procenty metyl- nebo isoprofylalkoholu. Smés je rozprášena na stínítko 22 z rozprašovací trysky 48 umístěné asi 61 až 122 cm od stínítka. Doba rozprašování je mezi dvěma a pěti minutami a rozprašovací tlak je asi 28,124 kg na čtvereční metr. Tyto parametry zajišťují tak zvané suché rozprášení. Potom se po dobu asi dvou minut rozprašuje druhý povlak, a to 0,5 hmotnostních procent polyvinylalkoholu, 50 hmotnostních procent vody a 50 hmotnostních procent metylalkoholu nebo isopropylalkoholu, potom se napráší třetí povlak sestávající z 1,0 hmotnostního procenta polyvinylalkoholu, 50 hmotnostních procent vody a 50 hmotnostních procent směsi alkoholu, a to po dobu dalších dvou minut. Je možno provést i naprášeni čtvrtého povlaku, sestaveného z vodného roztoku jednoho hmotnostního procenta polyvinylalkoholu, tedy bez přídavného alkoholu, který se naprašuje další dvě minuty přes třetí povlak, když následné zpracující kroky zahrnují naprašování filmu. Čtvrtý povlak je však zbytečný, jestliže následně zpracují kroky zahrnují emulzní naprašování filmu. Filmem opatřené stínítko 22 je potom hliníkováno a vypékáno na teplotě asi 425 ’C po dobu 30 minut pro vypuzení odpářitelných organických složek stínítka 22.

Ve druhém příkladném provedení vynálezu, v němž materiály stínítka 22 obsahují termoplastický povlakový materiál, může být fixace dosažena ve dvou krocích. Nejprve je na stínítko 22 naprášena smés 1,0 hmotnostního procenta polyvinylalkoholu, 50 hmotnostních procent vody a 50 hmotnostních procent metylalkoholu nebo isopropylalkoholu, jak je popsáno shora. Potom se na panel čelní desky 18 vylije vodní kaše 0,5 hmotnostních procent polyvi-6CZ 281523 B6 nylalkoholu, bez dalšího alkoholu a disperguje se, jak je v oboru známo. Fixovaný panel je pokryt filmem bud emulsním, nebo naprašovacím způsobem, z nichž oba jsou v oboru známy, a potom je pohliníkován a vypékán jak bylo popsáno shora.

V každém z těchto příkladných provedení obsahuje polyvinylalkohol 10 hmotnostních procent dvojchromanu sodného nebo dvojchromanu amonného. Mezi každým fixačním krokem je fixační vrstva 46 s výhodou zaplavena světlem a neznázorněné rtuťové obloukové lampy nebo xenonové lampy 38 pro zesítění polymerů v polyvinylalkoholu, čímž se fixační vrstva 46 stane odolnou vůči vodě. Zatímco dvojchromanový polyvinylalkohol je přednostním materiálem pro fixační vrstvu 46., lze použít i křemičitanu draselného.

PATENTOVÉ NÁROKY

Claims (4)

1. Způsob elektrografické výroby luminiscenčního stínítka (22) barevné obrazovky (10), zahrnující kroky pokrytí povrchu podložky odpařitelnou vodivou vrstvou, překrytí této vodivé vrstvy odpařitelnou fotovodivou vrstvou (34) zahrnující barvivo citlivé na viditelné světlo ustavení stejnoměrného elektrostatického náboje na této fotovodivé vrstvě (34), vystavení zvolených oblastí fotovodivé vrstvy (34) viditelnému světlu pro ovlivnění náboje na ni, vyvolání vybraných oblastí této fotovodivé vrstvy (34) třením elektricky nabitým suchým práškovým, povrchově ošetřeným, první barvu emitujícím fosforem, dále opakování postupu od ustavení stejnoměrného elektrického náboje po vyvíjení zvolených oblastí fotovodivé vrstvy (34) nejdříve pro druhou a potom pro třetí barvu emitující, třením elektricky nabitý, suchý práškový a povrchově ošetřený fosfor pro vytvoření luminiscenčního stínítka (22) obsahujícího obrazové prvky trojích barvu emitujících fosforů, vyznačující se tím, že přilnavost povrchové ošetřených fosforových materiálů k fotovodivé vrstvě (34) se zvyšuje kontaktováním povrchově ošetřených fosforových materiálů a pod nimi ležící fotovodivé vrstvy (34) rozpouštědlem, až se stanou lepkavými, a dále fixováním povrchové ošetřených materiálů nejméně jedním potahem suchého poprašku směsi vodného alkoholu s materiály vybranými ze skupiny sestávající z dvojchromového polyvinylalkoholu a křemičitanu draselného pro minimalizaci posunu povrchově ošetřených fosforových materiálů.

2. Způsob podle nároku 1, vyznačující se tím, že kontaktování se dosahuje nasakovánim povrchově ošetřených fosforových materiálů a pod nimi ležící fotovodivé vrstvy (34) párami chlorbenzenu.

3. Způsob podle nároku 1, vyznačující se tím, že v průběhu fixováni povrchově ošetřených fosforových materiálů se provádí nejméně dvojí potahování k vytvoření fixovací vrstvy (46).

-7CZ 281523 B6

4. Způsob podle nároku 4, vyznačující že v průběhu fixování se vystavuje každý povlak ozáření.

se tím, aktiniovému