CS715589A2 - Method of electrotopographical production of luminescent crt face - Google Patents

Description

1 iie-Á4cAVÚz) i umní ni S cevYčVb Vx?

Vynález se týká způsobu elektrofotografické výroby^stínítkav"a zejména výroby stínítka pro barevnou obrazovku při použití suchých práškových materiálů konstrukce stínítka elektricky na-bitých třením.

Konvenční obrazovka, typu se stínící maskou obsahuje odčer-panou obálku, v níž je umístěno stínítko obsahující matici fos-forových prvků tří různých emisních barev uspořádaných v cyklic-kém pořádku , prostředek pro vytváření tří konvertgentníchelektronových svazků nasměrovaných ke stínítku a soustavu proselekci barev či stínící masku, obsahující tenký mnohaotvorovýplech přesně umístěný mezi stínítkem a prostředkem pro vytvářeníelektronového svazku. Otvory opatřený plech stíní stínítko arozdíly v konvertgentních úhlech umožňují prošlým částem každéhoelektronového svazku selektivně budit fosforové prvky požado-vané emisní barvy. Matice světlo absorbujícího materiálu obklo-puje fosforové prvky. V jednom známém procesu pro vytváření každé matice fosfo-rových prvků na pozorovacím stínítku obrazovky je vnitřní povrchčelní desky pokryt řídkou kaší fotosenzitivního plnidla a fosfo-rovými částečkami uzpůsobenými pro emisi světla jedné ze tříemisních barev. Řídká kasička je usušena pro vytvoření povrchua světelné pole je promítáno ze zdroje přes otvory ve stínícímasce a na vysušený povlak tak, že maska pracuje jako fotografickámatrice. Exponovaný povlak je následně vyvolán pro vytváření první 2 barvu emitujících fosforových prvků. Proces se opakuje profosforové prvky emitující druhou a třetí barvu za použitítéže stínící masky, ale při přemístění světelného zdroje prokaždou expozici. Každá poloha světelného zdroje aproximujekonvergenční úhel jednoho z elektronových svazků, který budípříslušné barvu emitující fosforové prvky. Podrobnější popisprocesu podle doposud známého stavu techniky, který je známjako fotolitografický vlhký proces, může být nalezen v americkémpatentovém spise č. 2 625 734 vydaném H.B. Lav/ovi 20. ledna 1953.

Nevýhodou výše popsaného vlhkého procesu. je, že tento pro-ces není schopen splnit vysoké požadavky na rozlišení následu-jící generace přístrojů zábavné elektroniky a dokonce ještěvyšší požadavky na rozlišení pro monitory, pracovní stanicea aplikace vyžadující barevný alfanumerický text. ITavíc vlhkýfotolitografický proces včetně výroby matrice vyžaduje 182hlavních procesních kroků, což je znázorněno na obr. 1 a 2,kde číslo pod každým blokem indikuje počet požadovaných Stanic,dále vyžaduje rozsáhlé instalace a použití čisté vody a vyža-duje i odsávání odpadového fosforu a jeho regeneraci a používávelká množství elektrické energie pro exponování a sušení fos-forových materiálů.

Americký patentový spis č. 3 475 161, vydaný H.G. Langemu 28. října 1969, popisuje proces pro elektrofotografické stíněníbarevné obrazovky. Vnitřní povrch čelní desky obrazovky jepokryt vypařitelným vodivým materiálem a pak překryt vrstvouvyoařitelného fotovodivého materiálu. Potovodiva vrstva je p<~k 3 jednolitě nabita, selektivně exponována světlem přes stíníca' masku pro vytvoření latentního nabitého obrazu a vyvolána za pou-žití tekutého nosiče katalyzátoru o vysoké molekulární vázev suspenzi, množství fosforových částeček dané emisní barvy,které jsou selektivně umístěny na vhodně nabité oblasti fotovo-divé vrstvy pro vyvolání latentního obrazu. Nabíjecí, expozičnía depoziční proces je opakován pro každý ze tří barvu emitují-cích fosforů, to jest zelený, modrý a červený uspořádaných nastínítku. Zlepšení v elektrofotografickém stínění je popsáno vamerickém patentovém spise 4 448 866 vydaném H.G. Olieslagersovia spol. 15· května 1984. V tomto patentovaném procesu se máadheze fosforových částeček zvýšit jednolitou expozicí částífotovodivé vrstvy ležící mezi nanesenými vzorci fosforovýchčástic světlem a to po každém nanášecím kroku, pro sníženínebo vybití jakéhokoliv zbytkového náboje a pro umožnění jednotnějšího znovunabití fotovodiče pro následná nanášení. Poněvadžposlední dva patenty popisují elektrofotografický proces, to jestv podstatě vlhký proces, mnoho z nevýhod, které byly popsányvýše vzhledem k vlhkému fotolitografickému procesu podle americ kého patentu č. 2 625 734 se týkají také vlhkého elektrofoto-grafického procesu.

Proces podle tohoto vynálezu je suchý elektrofotografickýproces, kteiý eliminuje nebo minimalizuje mnohé z nevýhod pro-cesů podle dosavadního stavu techniky.

Způsob elektrofotografické výroby sestavy stínítka na pod- ložce pro použití v obrazovce podle vynálezu zahrnuje kroky 4 postupného nanášení vodivé vrstvy na podložku a překrytí foto-vodivé vrstvy, vytvoření elektrostatického náboje na fotovodi-vé vrstvě a exponování zvolených oblastí fotovodivé vrstvy vidi- *telným světlem pro ovlivnění náboje na ní. Tak je fotovodivávrstva vyvolána materiálem struktury nabitého stínítka. Zlepšenýproces používá materiál struktury stínítka ve formě suchéhoprášku opatřeného alespoň činidlem řízení povrchového nábojepro řízení třením zůůsobeného elektrického nabíjení materiálustínítka.

Vynález bude dále podrobněji popsán podle přiloženýchvýkresu, kde na obr. 1 je blokové schéma konvenčního vlhkéhoprocesu s černou matricí, na obr. 2 je blokové schéma hlavníchkroků v konvenčním vlhkém procesu výroby fosforového stínítka,na obr. 3 je pohled, částečně v axiálním řezu, na barevnou obra-zovku vyrobenou podle tohoto vynálezu, na obr. 4 je řez soustavoustínítka v obrazovce znázorněné na obr. 3, na obr. 5a je znázor-něna část čelní desky obrazovky mající vodivou vrstvu a fotovo-divou vrstvu, na obr. 5b je znázorněno nabíjení fotovodivé vrstvyna čelní desce obrazovky znázorněné na obr. 5a, na obr. 5c jeznázorněna čelní deska obrazovky a část stínící masky v průběhunásledných expozičních kroků v procesu výroby stínítky naobr. 5d je znázorněna čelní deska obrazovky v průběhu kroku vyví-jení v procesu výroby stínítka, na obr. 5e je znázorněna částeč-ně sestavená čelní deska obrazovky v průběhu následujícího fi-xačního kroku v procesu výroby stínítka, na obr. 6 je blokovéschéma současného elektrofotografického procesu se suchou ma-tricí a na obr. 7 je 'dokové schéma současného elektrofotogra- 5 fického suchého procesu stínění fosforu a sestavení stínítka,

Obr. 3 znázorňuje barevnou obrazovku 10, mající skleněnouobálku 11, obsahující pravoúhlý čelní panel 12 a válcovitéhrdlo 14, propojené pravoúhlou nálevkou 15. Nálevka mávnitřní vodivý povlak, který není znázorněn a který se dotýkáanodového knoflíku 16, a je potažen do hrdla 14« Panel 12obsahuje podložku či pozorovací čelní desku 18 a obvodovoupřírubu či boční stěnu 20, která je přiletována k nálevce 15skleněnou fritou 21. Tříbarevné fosforové stínítko 22 jeuloženo na vnitřní ploše čelní desky 18. Stínítko 22, znázor-něné na obr. 4, je s výhodou čárové stínítko, které zahrnujesoustavu stínítkových prvků sestavených z fosforových páskůR,G případně B, emitujících červenou, zelenou, případně mod-rou barvu, které jsou uspořádány v barevných skupinách neboobrazových prvcích do tří pruhů nebo triád v cyklickém po-řádku a táhnou se ve směru, který je obecně kolmý k roviněv níž jsou generovány elektronové svazky. V normální pozoro-vací poloze pro toto příkladné provedení se fosforové páskytáhnou ve vertikálním směru. Fosforové pásky jsou s výhodouod sebe odděleny světlo absorbujícím matericovým materiálem23, jak je v oboru známo. Alternativně může být stínítkoi bodovým stínítkem. Tenká vodivá vrstva 24, s výhodou z hli-níku, překrývá stínítko 22 a zajištuje prostředek pro přilo-žení jednotného potenc iálu ke stínítku stejně jako odrážejícísvětlo emitované z fosforových prvků přes čelní desku 18.Stínítko 22 a překrývající hliníková vodivá vrstva 24 tvořísestavu stínítka. 6

Opět podle obr. 3 mnohatvorova elektroda selekce barevči stínící maska 25 je odstranitelně připevněna běžnými pro-středky v předem stanoveném prostorovém vztahu k sestavě stí-nítka. Elektronová tryska 26, znázorněná schématicky čárkovaněna obr. 3, je centráln ě upevněna v hrdle 14 pro generovánía směrování tří elektronových svazků 28 podél konvergentníchdrah přes otvory v masce 25 na stínítko 22. Elektronová trys-ka 26 může například obsahovat bipotenciální elektronovou tryskutypu popsaného v americkém patentu č. 4 620 133 vydaného Morre-lovi aspol.. 28. října 1986 nebo jakoukoliv jinou vhodnouelektronovou trysku.

Obrazovka 10 je konstruována pro použití s ^j.ším magne-tickým vychylovacím jhem, jako je jho 30 umístěné v oblastispojení nálevky 15 s hrdlem 14. Když je aktivováno jho 30. pů-sobí na tři elektronové svazky 28 magnetickými poli, které způ-sobují, že elektronové svazky 28 rastrují horizontálně a verti-kálně v pravoúhlém rastru na stínítku 22. Počáteční rovinavychýlení, to jest při nulovém vychýlení, je znázorněna čarouP - P na obr. 3 asi uprostřed jha 30. Pro jednoduchost nejsouskutečná zakřivení drah vych-ýlených elektronových svazků vevychylovací oblasti znázorněna.

Stínítko 22 je vyrobeno novým elektrofotografickým pro-cesem, který je schematicky znázorněn na obr. 5a až 5e a v bloko-vých diagranech z obr. 6 a 7. Na počátku je panel 12 omývánžíravým roztokem, opláchnut vodou, leptán ústrojným roztokem 7 kyseliny fluorovodíkové a opláchnut opět vodou, jak je známo v oboruVnitřní povrch pozorovací čelní desky 18 je pak pokryt vrstvou32 elektricky vodivého materiálu, která zajištuje elektrodu proji překrývající fotovodivou vrstvu 34. Vodivá vrstva 32 můžebýt neorganickým vodičem, jako je oxid cínu nebo oxid india, nebosmíchaný oxid india a cínu nebo s výhodou odpařitelný organickývodivý materiál, sestávající z polyelektrolytů komerčně známýchjako Polybréne (1,5-dimethy -1,5-diaza- undecamethylene poly-methobromid, hexadimethine bromid) nebo jiné kvartérní amonné soli-,Polybrene je vhodně nanesen na vnitřní povrch zobrazovacího stínit-ka 18 ve vodním roztoku, obsahujícím asi 10 hmotnostních procentpropanolu,asi 10 hmotnostních procent vodou rozpustného, adhezizlepšujícího polymeru, jako je pólyvinylaikohol, polyakrylickákyselina, určité polyamidy a podobně. Vodivá preparace je běžněnanesena na čelní desku 18, například odstředivým nanášeníma vysušena pro zajištění vrstvy mající tlouštku asi 1 až 2 mikrc—metry, a povrchový odpor nižší než 10 ohmů na čtvereční jednotku.

Vodivá vrstva 32 je pokryta fotovodivou vrstvou 34 obsa-hující odpařitelný organický polymerický materiál, vhodné foto-vodivé barvivo a rozpouštěddlo. Polymerický materiál je s výhodouorganický polymer jako polyvinyl carbazole nebo organický mono-mer jako n-etyl-carbazole, n-vinyl carbazole nebo tetrafenyl-butatrien, rozpuštěný v polymerickém pojidle jako polymethyl-metakrylát nebo polypropylen karbonát.

Barvicí složka může být jakékoliv fotovodivé barvivo, kteréje rozpustné v použitých rozpustidlech, zůstává stabilní za pod- 8 piínek zde popsaného procesu a které je citlivé na světlo veviditelném spektru, s výhodou vrozsahu 400 - 700 nm. Vhodnábarviva zahrnují krystalovou violet, chlidinovou modř, roda~min EG apodobně. Barvivo je typicky přítomno ve fotovodivésměsi v asi 0,1 až 0,4 hmot. %. Rozpouštědlo pro fotovodivousměs je organická látka, jako chlorbenzen nebo cyklopentanonapod., která bude s vrstvami 32 a 34 vytvářet tak malou kří-žovou kombinaci, jak je to jen možné. Potovodivá vrstva jenanesena na vodivou vrstvu n£příklad odstředivým nanášeníma vysušena pro vytvoření vrstvy o tlouštce od asi 2 až 6 mikro-metrů.

Podle vynálezu je fotovodivá vrstva 34 překiývající vodi-vou vrstvu ^2 nabita v temném prostředí konvenčním pozitivnímkoronárním vybíjecím zařízením &amp; schematicky znázorněným naobr. 5b, které se pohybuje přes vrstvu 34 a nabíjí ji v rozmezíod +200 V do +700 V, ačkoliv nejvýhodnější oblastí je +200 až+400 V. Stínící maska 2£ je vložena do panelu 12 a kladněnabitý fotovodič je exponován přes stínící masku 25 světlemze xenonové lampy 38 s reflektorem uspořádaným v konvenčnímtrojitém majáku, představovaném čočkou 40 z obr. 5c. Po každémexponování je lampa 38 přemístěna do odlišné polohy pro kopí-rování úhlu dopadu elektronových svazků 28 z elektronové trys-ky. Požadují se tři expozice ze tří různých poloh lampy 38,pro vybití oblastí fotovodiče, kde budou následně nanešenysvětlo emitující fosfory pro vytvoření stínítka. Po expozič-ním kroku se stínící maska 22 odstraní od panelu 12 a panel 9 se přemístí do první vývojky 42, víz obr. 5d, obsahující vhodněpřipravené částečky ve formě suchého prášku světlo absorbujícíhočerného materiálu, tvořícího matici stínítka a neznázorněnýchpovrchově upravených izolačních nosných kuliček, které majíprůměr asi od 200 do 300 mikrometrů a které předávají.třenímvzniklý elektrický náboj částečkám materiálů .černé matrice.

Povrchová úprava nosných kuliček je popsána v americké.pa-tentové přihlášce č. 287 357 podané B. Dattou a spol. 21. pro-since 1988.

Vhodné materiály černé matricety, které jsou stabilní při provozní obecně obsahují černé pigmen-teplotě obrazovky 450° C, Černé pigmenty vhodné pro použití při výrobě matricových mate-riálů zahrnují : železomanganový oxid (Bayferro Black 330 T, kdostání u Mobay Chemical Corp., Pittsburg, PA), železokobaltovýoxid, zinkoželezný sirník a izolační saze. Materiál černé ma-trice se připravuje rozmícháním a rozpuštěním pigmentu, polymerua vhodného činidla řízení náboje, které řídí velikost třením vznikajícího elektrického náboje předávaného materiálu matrice.Materiál je roz e mlet na průměrnou velikost částic asi 5 mikro-metrů. Polymer je vybrán ze skupiny sestávající z butylakrylátu,styrenbutylakrylátového kopolymeru, raetylmetakrylátového butyl -metakrylátového kopolymeru, polyvinylalkoholu, polyesteru (póly /polyethylen 1,4-cyklohexanedicarboxylát - terephtalátu-1,4 -oxybenzoátu/) a polyamidů /Union Camp. Co., Unirez 2205, 2209, 2218,1548/. Vhodná činidla, použitelná pro řízení záporného náboje 10 na částicích matrice obsahují organickésulfonová kyselina, bisbensen sulfonamid,sulfonová a barvy a pigmenty jako chroraovazo-2-naphtolů. kyseliny jako naftalen-kyseiina p-toluen-é sloučeniny 1-phenyl-" Černý matric ov; materiál a povrchově ošetřené nosné kuličky pokryté tenkým filmem činidla pro řízení návoje jsou smíchányv první vývojnici 42 za použití asi 1 až 2 hmotnostních % čer-ného mat-ricového materiálu. Materiály jsou smíchány tak, žejemně rozdělené matricové částečky jsou v kontaktu a jsou zá-porně nabity povrchově ošetřenými nosnými kuličkami. Záporněnabité částečky mat-ricového materiálu jsou vypuzeny z vývoj-nice 42 a přitahovány ke kladně nabité neexponované oblastifotovodivé vrstvy 34 pro přímé vyvíjení v této oblasti. Infra-červená radiace se pak používá pro fixování materiálu matriceroztavením nebo tepelným slepením polymerových složek matri-cového materiálu k fotovodivé vrstvě pro vytvoření matrice 23.viz obr. 4 a 5e.

Potovodivá vrstva 34. obsahující matrici 23 je jednotněznovu nabita na kladný potenciál asi 200 - 400 V pro aplikaciprvního ze tří barvu emitujících suchých práškových materiálůkonstrukce fosforového stínítka. Stínící maska 2£ je znovuvložena do panelu 12 a vybrané oblasti fotovodivé vrstvy 34.odpovídající umístění, kde bude uložen fosforový materiálemitující zelené světlo, jsou exponovány viditelným světlemz prvního místa uvnitř majáčku pro selektivní vybití exponovanýchoblastí. Umístění prvního světla se přibližuje konvergenčnímu 11 úhlu elektronového svazku 28 dop adajícího na zeleně emitu-jící fosfor. Stínící maska 25 je odstraněna z panelu 12 a pa-nel je přemístěn ke druhé vývojnici 42 obsahující vhodněpřipravené částečky ve formě suchého prášku zelené světloemitujícího fosforu materiálu konstrukce stínítka. Fosforovéčástečky jsou povrchově ošetřeny vhodným náboj řídícím mate-riálem, jak je popsáno v amerických patentových přihláškáchč. 287 355 a 287 358 podaných T. Dattou a spol. 21. prosince1988.

Jedním výhodným pokrývačíra materiálem je želatina nebopodobná polymerová vrstva, vytvořená způsobem popsaným v posled-ní z výše zmíněných patentových přihlášek. Želatina obalí fosfo-rové částečky a zajistí amidovou funkční skupinu, která setřením nabíjí elektricky kladně, když je smíchána s organofluoro-silánem ošetřenými nosnými kuličkami. Tisíc gramů povrchověošetřených nosných kuliček je kombinováno s 15 až 25 gramy po-vrchově ošetřených fosforových částeček ve druhé vývojnici 42.Kladně nabitě,zelené světlo emitující fosforové částečky jsouvypuzeny z vývojnice 42, odpuzovány kladně nabitými oblastmifo-tovodivé vrstvy 24 a matrice a uloženy na vybité, světlemexponované oblasti fotovodivé vrstvy v procesu, známém jakoinversní vyvíjení. Uložené, zelené světlo emitující fosforovéčástice jsou fixovány na fotovodivé vrstvě, jak je popsáno níže.

Fotovodivá vrstva Mi matrice 21 a vrstva zeleně emitují-cího fosforu jsou jednotně znovu nabity na kladný potenicálasi 200 až 400 V pro aplikaci modré světlo emitujícího fosfo - 12 rového materiálu konstrukce stínítka. Stínící maska je znovuvložena do panelu 12 a vybrané oblasti fotovodivé vrstvy 34-jsou exponovány viditelným světlem ze druhé polohy v majáčku,která aproximuje konvergenční úhel elektronového svazku dopa-dajícího na modré světlo emitující fosfor pro selektivní vybitexponovaných oblastí. Stínící maska 25 je sejmuta z panelu 12a panel 12 se přemístí do třetí vývojnice 42 obsahující vhodněpreparované částice ve formě suchého prášku, modré světlo emi-tujícího fosforového materiálu konstrukce stínítka. Fosforovéčástice jsou povrchově ošetřeny, jak je popsáno výše, vhodným,náboj řídící m materiálem, jako je želatina, který zajistíkladný náboj na fosforových částicích po smíchání, jak je popsáno výše, s vhodně preparovánými, povrchově ošetřenými nosnýmikuličkami. Třením kladně elektricky nabité, ve formě suchéhoprášku vytvořené, modré světlo emitující fosforové částice jsouvypuzeny ze třetí vývojnice 42, odpuzovány kladně nabitýmioblastmi fotovodivé vrstvy 34 matrice 24 a zelené světlo emitu-jícího fosforového materiálu a uloženy na vybitých, světlemexponovaných oblastech fotovodivé vrstvy. Takto uložené modrésvětlo emitující fosforové částice jsou fixovány, jak je po-psáno níže, na fotovodivé vrstvě.

Proces nabíjení, exponování, vyvíjení a fixace je znovuopakován pro povrchově ošetřené , ve formě suchého prášku vytvořené, červené světlo emitující fosforové částice. Vyáaveníviditelnému světlu pro selektivní vybití kladně nabitých oblast 13 fotovodivé vrstvy 34 je provedeno ze třetí polohy majáčku,která aproximuje konvergenční úhel elektronového svazku dopada-jícího na červené světlo emitující fosfor. Suché práškové fosfo-rové částice emitující červené světlo, které jsou kladně elek-tricky nabity třením, se promíchávají s povrchově ošetřenýminosnými kuličkami v poměru popsaném výše a vypuzují se ze čtvr-té výbojnice 42, odpuzovány kladně nabitými oblastmi dříve uložených materiálů konstrukce stínítka a uloženy na vybitých oblas-tech fotovodivé vrstvy 34.

Fosfory jsou fixovány vystavením každého následného ulože-ní světlo emitujícího fosforového materiálu infračervené radiaci,která taví nebo tepelně pojí polymerové složky fotovodivé vrstvy.Po fixaci červené světlo emitujícího fosforového materiálu jena materiálu konstrukce stínítka běžnými prostředky nastříkánavrstvička laku a pak je na lakový film naprášen tenký aluminiovýpovlak, jak je známo v oboru. Čelní panel je vypečen ve vzduchuna teplotě 425° C po dobu asi 30 minut pro zbavení se odpařitel-nýoh složek stínítka včetně vodivé vrstvy 32, fotovodivé vrstvy&amp; a rozpouštědel, které jsou přítomny jak va materiálech kon-strukce stínítka, tak v tenké vrstvě laku. Výsledná sestavastínítka má vysoké rozlišení, a to až 0,1 mm šířky čáry získanépři použití rozlišovacího terčíku, vyšší světelnou výtěžnostnež stínítko vyráběné běžným vlhkým procesem a větší čistotoubarev, vzhledem k menší křížové kontaminaci fosforových materiálů. Výrobní čas požadovaný pro stínítkagrafickým procesem, je kratší než čas pro zpracovaná suchým elektrovýrobu běžných stínítek 14 zpracovávaných vlhkým procesem. Suchý proces nevyžaduje suši-cí kroky a fotovodivá vrstva je řádově citlivější než materiálypoužívané ve vlhkém procesu tak, že pro provedení expozičníchkroků, se požadují pouze milisekundy expoziční doby xenonovévýbojky. Navíc majáček nevyžaduje přídavné ochlazení vzhledemke krátkým expozičním dobám tak, že teplotní degradace a špatnéscentrování jsou eliminovány. Nový proces takto umožňuje vyššívýrobní výstupy za použití čistšího, účinnějšího procesu a zajíštuje značné snížení výrobních nákladů.

Odborníkovi v oboru by mělo být zřejmé, že tento procesmůže být modifikován v rámci rozsahu tohoto vynálezu. Napříkladfotovodivá vrstva může být nabita záporně a po expozici na třibarevná pole mohou být záporně nabité vzorky vyvolány kladněnabitým práškovým materiálem černé matrice. Fosforové částicemohou být také záporně nabity v závislosti na materiálu použitém na nosných kuličkách a fosforových částicích pro řízení elektrického náboje vznklého třením. Alternativně může být používánběžný proces vlhkého nanášení pro vytvoření světlo absorbujícíčerné matrice a pak nový elektrografický proces může být použitpro uložení třením elektricky nabitých práškových fosforovýchmateriálů.

Claims (8)

15 , _λΛ3Γ30 Vί λζ.3ΊγΝλΛOhdi avanr—~—------

1. Způsob elektrofotografické výroby sestavy lurainLs&amp;enč- <JΓ ního stínítkavna podložce pro použití v obrazovce zahrnující* kroky pokrytí podložky vodivou vrstvou, překrytí této v^dg.v;é vrstvy fotovodivou vrstvou, ustavení elektrostatického LábojeI ř? na této fotovodivé vrstvě, vystavení zvolených oblastí divé vrstvy viditelnému světlu pro ovlivnění náboje na ní avyvolání fotovodivé vrstvy s nabitým materiálem konstrukce stí-nítka, vyznačující se tím, že materiál konstrukce stínítkaobsahuje částice ve formě suchého prášku, které jsou opatřenypovrchovým činidlem řízení náboje pro řízení jejich elektrické-ho nabití třením.

2. Způsob elektrofotografické výroby sestavy luminiscenč-obra.tovícM ního stínítkaYna vnitřní ploše čelní desky pro barevnou obrazov-ku obsahující kroky pokrytí povrchu podložky odpařitelnou vo-divou vrstvou., překrytí této vodivé vrstvy odpařitelnou foto-vodivou vrstvou, zahrnující barvu citlivou na viditelné světlo,ustavení v podstatě jednotného elektrostatického náboje na tétofotovodivé vrstvě, vystavení zvolených oblastí této fotovodivévrstvy viditelnému světlu pro ovlivnění náboje na ní, nanesenínabitého, první barvu emitujícího fosforu na tyto exponovanézvolené oblasti fotovodivé vrstvy, fixace prvního barvu emitují-cího fosforu na tuto fotovodivou vrstvu, přičemž posledníčtyři kroky se opakují za sebou pro nabité druhé a;třetí barvuemitující fosfory pro vytvoření luminiscenčního stínítka, obsa-hujícího obrazové prvky tvořené trojicemi barvu emitujících 16 fosforů, pohliníkováňí tohoto luminiscenčního stínítka, vype-čení čelní desky pro odstranění odpařitelných složek a lumi-niscenčního stínítka pro vytvoření sestavy luminiscenčníhostínítka, vyznačující se tím, že fosforové materiály obsahujísuché práškovité částice, mající na sobě alespoň činidlo říze-ní povrchového náboje pro říaení svého třením vznikajícíhoelektrického nabíjení.

3. Způsob podle bodu 2, vyznačující se tím, že po vystavenízvolených oblastí fotovodivé vrstvy viditelnému světlu pro ovliv-nění náboje na ní, první opakování, způsob zahrnuje přídavné kro-ky vyvolání neexponováných oblastí fotovodivé vrstvy s elektric-ky třením nabitým, práškové světlo absorbujícím materiálemkonstrukce stínítka, zahrnujícím polymer a činidlo pro řízenínáboje, fixaci tohoto světlo absorbujícího materiálu konstrukcestínítka a znovuustavení v podstatě rovnoměrného elektrostatickéhonáboje na fotovodivé vrstvě a na světlo absorbujícím materiálukonstrukce stínítka.

4. Způsob podle bodu 3, vyznačující se tím, že jeho fixacezahrnuje vystavení světlo absorbujícího materiálu konstrukcestínítka infračervené radiaci pro spojení tohoto materiálu sfotovodivou vrstvou.

5. Způsob podle bodu 2, vyznačující se tím, že před pokry-tím povrchu podložky vodivou vrstvou se předběžně vytvoří kon-venční světlo absorbující matricový vzorek na vnitřním povrchučelní desky.

6. Způsob podle bodu 2, vyznačující se tím, že fixace 17 barvu emitujícího fosforu na fotovodivou vrstvu obsahuje tepelné spojení fosforu s fotovodivou vrstvou.

7. Způsob podle bodu 6, vyznačující se tím, že tepelnéspojení je zajištěno ozářením fosforu infračerveným zářením.

8. Způsobelektrofotografioké výroby sestavy luminiscenč-ního stínítka jtia vnitřním povrchu čelní desky pro barevnou obra-zovku, vyznačující ae tím, že se tento povrch desky pokryje od-paří telnou vodivou vrstvou, vodivá vrstva se překryje odpařitel-nou fotovodivou vrstvou zahrnující barvivo citlivé na viditelnésvětlo, kde toto barvivo je zvoleno ze skupiny sestávající zkrystalové violetě, chloridinové modře a rodamínu EG, ustaví se v podstatě jednotný elektrostatický náboj na fotografické vrstvězvolené oblasti fotovodivé vrstvy se přes masku vystaví viditel-nému světlu xenonové lampy pro ovlivnění náboje na fotovodivévrstvě, přímo se vyvolají neexponované oblasti fotovodivé vrstvytřením elektricky nabitým, suchým, práškovým, světlo absorbují-jícím materiálem konstrukce stínítka zahrnujícím polymer a či-nidlo pro řízení náboje, kde náboj na materiálu konstrukce stínítkaje opačné polarity než náboj na ne exponovaných oblastech fotovo-divé vrstvy, materiál konstrukce stínítka se fixuje tepelnýmspojením materiálu konstrukce stínítka s fotovodivou vrstvou, zno-vu se ustaví v podstatě jednotný elektrostatický náboj na foto-vodivé vrstvě a na materiálu konstrukce stínítka, první části zvo-lených oblastí fotovodivé vrstvy se přes masku vystaví viditelnémusvětlu z této lampy pro ovlivnění náboje na fotovodivé vrstvě, na-čež se provede inverzní vyvíjení prvních částí zvolených oblastífotovodivé vrstvy třením elektricky nabitým', s^hým práškovým, 18 první barvu emitující fosforovým materiálem konstrukce stínítka,kde tento první barvu smitující fosfor má na sobě alespoň či-nidlo pro řízení náboje pro zajištění náboje téže polarityjako je polarita neexponováných oblastí fotovodivé vrstvy a na'světlo absorbujícím materiálem konstrukce stínítka pro odpuzeníprvní barvu emitujícího fosforu, načež se provede fixace prvníhobarvu emitujícího fosforu k první části zvolených oblastí foto-vodivé vrstvy, načež se opakuje postup od opětného ustavenív podstatě jednotného elektrostatického náboje na fotovodivé vrstvě a na materiálu konstrukce stínítka až po fixaci barvuemitujícího fosforu pro třením elektricky nabité suché práškovédruhou a třetí barvu emitující fosforové materiály konstrukcestínítka, z nichž každý má na sobě alespoň činidlo pro řízenípovrchového náboje, a tím vytváření luminiscenčního stínítkaobsahujícího trojice obrazových prvků, barvu emitujících fosforunačež se provede hliníkování luminiscenčního stínítka a vypečeníčelní desky pro odstranění vypařitelných složek stínítka přovytvoření sestavy luminiscenčního stínítka.

praccvíř 5 Brnonáměstí Soví;:,’ ‘„di.o 2 19 2 90Z 2930