CS261255B1 - Fused glue especially for gripping parts during machining - Google Patents

Fused glue especially for gripping parts during machining Download PDF

Info

Publication number
CS261255B1
CS261255B1 CS873419A CS341987A CS261255B1 CS 261255 B1 CS261255 B1 CS 261255B1 CS 873419 A CS873419 A CS 873419A CS 341987 A CS341987 A CS 341987A CS 261255 B1 CS261255 B1 CS 261255B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
weight
montan wax
during machining
melt adhesive
parts during
Prior art date
Application number
CS873419A
Other languages
Czech (cs)
Other versions
CS341987A1 (en
Inventor
Zdenek Valenta
Zdenek Danicek
Jaroslav Buchta
Otakar Bardon
Original Assignee
Zdenek Valenta
Zdenek Danicek
Jaroslav Buchta
Otakar Bardon
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zdenek Valenta, Zdenek Danicek, Jaroslav Buchta, Otakar Bardon filed Critical Zdenek Valenta
Priority to CS873419A priority Critical patent/CS261255B1/en
Publication of CS341987A1 publication Critical patent/CS341987A1/en
Publication of CS261255B1 publication Critical patent/CS261255B1/en

Links

Landscapes

  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

Očelem je možnost použití pro uchycení součástek při opracování při vyšší teplotě, tím zkrácení doby opracování a umožnění jeho dokonalejšího průběhu. Uvedeného účelu je dosaženo tavným lepidlem na bázi montánního vosku tvořeným směsí 50 až 95 % hmotnostních surového nebo montánního vosku a 5 až 50 I hmotnostních esterifikované kalafuny s bodem měknutí 60 až 130 °C.The purpose is to be able to use it for holding components during processing at a higher temperature, thereby shortening the processing time and enabling its more perfect course. The stated purpose is achieved by a hotmelt adhesive based on montan wax consisting of a mixture of 50 to 95% by weight of raw or montan wax and 5 to 50% by weight of esterified rosin with a softening point of 60 to 130 °C.

Description

Vynález se týká lepidla zejména pro uchycení součástek při opracování.The invention relates in particular to an adhesive for attaching components during machining.

Při chemicko-mechanickém leštění polovodičových destiček se k jejich upevněni na unášecí kotouč používá tmelu, který musí polovodičové destičky udržet při pracovní teplotě a značném mechanickém namáhání spoje, daném velikostí přítlaku na unášecí kotouče a rotaci leštících i unášecích kotoučů. Pro správné přitmelení polovodičových destiček na unašeči kotouče je nutné, aby tmel po roztavení měl nízkou viskozitou a vytvořil rovnoměrnou vrstvu, neobsahoval mechanické nečistoty a byl odolný vůči leštivu, tj. směsi a alkalickou nebo kyselou reakci. Musí být možné jeho úplné odstranění z polovodičových destiček po jejich vyleštění a odtmelení z unášecích kotoučů, které se provádí zahřátím a roztavením tmelu.In the chemical-mechanical polishing of semiconductor wafers, a sealant is used to attach them to the carrier disc, which must maintain the semiconductor wafers at operating temperature and considerable mechanical stress of the joint, given the size of the contact pressure on the carrier discs and rotation of polishing and carrier discs. For proper bonding of the semiconductor wafers to the disc carrier, it is necessary that after melting the sealant has a low viscosity and a uniform layer, does not contain mechanical impurities and is resistant to the polishing agent, i.e. mixtures and alkaline or acidic reaction. It must be possible to completely remove it from the semiconductor wafers after polishing and sealing them from the carrier discs by heating and melting the sealant.

Při tomto odstraňování tmelu nesmí dojít k poškozeni polovodičových destiček, zejméně jejich vyleštěné strany.The removal of the sealant must not damage the semiconductor wafers, at least their polished sides.

Používané tmely, například tavné lepidlo složené ze směsi včelího vosku a kalafuny, uvedené požadavky splňují, ale teplota, při které je možno jich k danému účelu použít, je nízká. To má za následek prodlužování doby leštění nebo snížení kvality takto získaného leštěného povrchu, případně oba nepříznivé důsledky.The sealants used, for example a hot melt adhesive composed of a mixture of beeswax and rosin, meet these requirements, but the temperature at which they can be used for this purpose is low. This results in a prolongation of the polishing time or a decrease in the quality of the polished surface thus obtained, or both adverse consequences.

Uvedené nevýhody odstraňuje tavné lepidlo na bázi montánního vosku podle vynálezu, které je složeno ze směsi 50 až 95 % z hmotnostních surového nebo rafinovaného montánního vosku a 5 až 50 % hmotnostních esterifikované kalafuny s bodem měknutí 60 až 130 °C.The above-mentioned disadvantages are overcome by the montan wax hotmelt adhesive of the present invention, which consists of a mixture of 50-95% by weight of crude or refined montan wax and 5-50% by weight of esterified rosin having a softening point of 60-130 ° C.

Při použití tavného lepidla podle vynálezu je možno pracovat při teplotě až o 12 °C vyšší, což umožňuje uvolňování většího tepelného výkonu při leštění a tím lepší náběh chemické reakce.Using the hot melt adhesive according to the invention, it is possible to work at a temperature of up to 12 ° C higher, which allows the release of a higher heat output during polishing and thus a better start of the chemical reaction.

Výsledkem je rychlejší a úplnější průběh leštění, tj. kvantitativně i kvalitativně dokonalejší odstranění narušené povrchové vrstvy polovodičových destiček v kratším čase.The result is a faster and more complete polishing process, i.e., a better and more quantitative and qualitatively improved removal of the damaged surface layer of the semiconductor wafers in a shorter time.

Přiklad provedeníExemplary embodiment

Tavné lepidlo vhodné pro tmelení polovodičových destiček k chemicko-mechanickému leštění do maximální teploty 61 °C se vyrobí smísením '78 % hmotnostních surového montánního vosku a 22 % hmotnostních esterifikované kalafuny s bodem měknutí 90 až 100 °C. Nejprve se v kotli roztaví vosk a za stálého míchání se při 120 až 130 °C vnese esterifikované kalafuna. V míchání se pokračuje až do vzniku homogenní směsi, která se odlévá do požadovaných forem. Toto tavné lepidlo má pevnost ve smyku při 60- °C minimálně 100 kPa a bod tuhnuti na kuličce minimálně 78 °C.A hot melt adhesive suitable for cementing semiconductor wafers for chemical-mechanical polishing up to a maximum temperature of 61 ° C is made by mixing 78% by weight of raw montan wax and 22% by weight of esterified rosin with a softening point of 90-100 ° C. First, the wax is melted in the boiler and the esterified rosin is added with stirring at 120-130 ° C. Stirring is continued until a homogeneous mixture is obtained which is cast into the desired molds. The hot melt adhesive has a shear strength at 60 ° C of at least 100 kPa and a pour point on the ball of at least 78 ° C.

Tavné lepidlo vhodné pro tmelení polovodičových destiček při jejich opracováni do teploty 35 °C se vyrobí smísením 60 % hmotnostních rafinovaného montánního vosku a 40 % hmotnostních esterifikované kalafuny s bodem měknutí 60 °C. V kotli se roztaví montánní vosk a za stálého míchání se při teplotě 100 až 120 °C přidá esterifikované kalafuna. V míchání se pokračuje až do vzniku homogenní směsi, která se odlévá do požadovaných forem. Toto tavné lepidlo má pevnost ve smyku při teplotě 30 °c minimálně 100 kPa a bod tuhnutí na kuličce minimálně 60 °C.A hot melt adhesive suitable for bonding semiconductor wafers when processed to a temperature of 35 ° C is prepared by mixing 60% by weight of refined montan wax and 40% by weight of esterified rosin with a softening point of 60 ° C. Montan wax is melted in the boiler and esterified rosin is added at 100-120 ° C with stirring. Stirring is continued until a homogeneous mixture is obtained which is cast into the desired molds. The hot melt adhesive has a shear strength of 30 ° C of at least 100 kPa and a pour point on the ball of at least 60 ° C.

Tavné lepidlo podle vynálezu je možno používat i v oblasti jednostranného opracování skla, granátu, safíru, germánia a ostatních materiálů, při kterém je třeba užít tmelení.The hot-melt adhesive according to the invention can also be used in the field of one-sided processing of glass, garnet, sapphire, germanium and other materials in which bonding is required.

Claims (1)

PŘEDMĚT VYNÁLEZUSUBJECT OF THE INVENTION Tavné lepidlo zejména pro uchycení součástek při opracování na bázi montánního vosku vyznačené tím, že je tvořeno směsí 50 až 96 % hmotnostních surového nebo rafinovaného montánního vosku a 5 až 50 % hmotnostních esterifikované Kalafuny s bodem měknutí 60 ažIn particular, a hot-melt adhesive for attaching components to montan wax processing characterized in that it consists of a mixture of 50 to 96% by weight of crude or refined montan wax and 5 to 50% by weight of esterified rosin with a softening point of 60 to 130 °C.130 [deg.] C. OPRAVA popisu vynálezu k autorskému osvědčení č. 261 255 Int. Cl.4 C 09 J 3/26FIXED DESCRIPTION OF THE INVENTION TO COPYRIGHT CERTIFICATE No 261 255 Int. Cl. 4 C 09 J 3/26 Ve vytištěném popisu vynálezu k autorskému osvěd cení č. 261 255 je chybně vytištěno první slovo v názvu.In the printed description of the invention for the author's certificate No. 261 255, the first word in the title is incorrectly printed. Správně: (54) Tavné lepidlo zejména pro uchycení součástek při opracováníCorrect: (54) Hot-melt adhesive especially for fixing components during machining Federální úřad pro vynálezyFederal Office of Inventions
CS873419A 1987-05-13 1987-05-13 Fused glue especially for gripping parts during machining CS261255B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS873419A CS261255B1 (en) 1987-05-13 1987-05-13 Fused glue especially for gripping parts during machining

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS873419A CS261255B1 (en) 1987-05-13 1987-05-13 Fused glue especially for gripping parts during machining

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS341987A1 CS341987A1 (en) 1988-06-15
CS261255B1 true CS261255B1 (en) 1989-01-12

Family

ID=5374201

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS873419A CS261255B1 (en) 1987-05-13 1987-05-13 Fused glue especially for gripping parts during machining

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS261255B1 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
CS341987A1 (en) 1988-06-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102965071A (en) Hot melt adhesive for positioning and processing of brittle materials and preparation method of hot melt adhesive
US4897141A (en) Method for preparing semiconductor wafers
US3269815A (en) Coated abrasive grain
KR100284583B1 (en) Method for fixing and detaching semiconductor wafers and suitable material mixtures for carrying out the method
CS261255B1 (en) Fused glue especially for gripping parts during machining
US2955952A (en) Composition for patching defects in glass or enamel coatings and method of applying the same
CN102936485B (en) A kind of Wafer adhesive wax
GB2048272A (en) Process for the Hardening of Reactive Resins
JP2002536527A (en) Soluble adhesive
US1546115A (en) Vitreous bonded silicon-carbide abrasive article
CN102695765B (en) Temporarily fixing composition
CN106905920A (en) A kind of preparation method of optics bonded adhesives
US2084534A (en) Abrasive article
CN105038696A (en) Bonding agent for bonding optical lenses and manufacturing method of bonding agent
TW529096B (en) Process for lapping wafer and method for processing backside of wafer using the same
JPH09286967A (en) Temporarily bonding adhesive for precision machining
JPH1161079A (en) Temporary adhesive for precision processing
JPH06298539A (en) Bonding of glass material
SU1725293A1 (en) Cement for holding semiconductor wafers on polishing
SU1624006A1 (en) Melted adhesive for fixing diamond elements to polishing tool body
CN107418473B (en) A water-soluble wafer adhesive
JPS61141780A (en) Modified adhesive
CN118599460B (en) Wafer bonding film, memory chip and preparation method thereof
JPH07179842A (en) Adhesive, its production, and production of electronic part from the same
JP2006159384A (en) Manufacturing method of optical components