CS257676B1 - Přísada do slabě kyselýoh zlnkovaoích lázní zvyšující toleranci k obsahu zanášenýoh tenzidů - Google Patents

Abstract

Přísada je tvořena sloučeninami obecného vzorce I, kde znamená R]_, R2 - H -, vzorce II, kde x » 0 až 7, fenyl, mono-, di- nebo tri-methylfenyl, mono-, di- nebo tri-ethylfenyl, mono-, di- nebo tri-hydroxifenyl, n - 5 až 50, Jež obsahuje samotné nebo ve směsích. Do slabě kyselýoh zinkovaoíoh lázní se dávkuje v množství 0,01 až 0,5 g na 1000 ml a projevuje se podstatným zvýšením tolerance k obsahu tenzidů zaná- (íených z předchozích teohnologiokýoh stypnů při galvanickém zinkování, tj. odmaštování, moření, dekápování, případně omíláni a odhrotováni. Prodlužuje se tak interval mezi regeneracemi lázně, což omezuje ztráty vzniklé rozkladem leskutvorných přísad, náklady na chemikálie potřebné k regeneraci a' podobně.

Description

Vynález se týká přísady do slabě kyselých galvanických lázní pro vylučování lesklých zinkových povlaků s obsahem amonných solí, tj. na bázi chloridu nebo síranu zinečnatého, chlori du amonného, nebo bez amonných solí, tj. na bázi chloridu nebo síranu zinečnatého, chloridu sodného nebo draselného a kyseliny borité, a obsahem tenzidů a organických sloučenin jako le3kutvor ných přísad, jež rozhodujícím’ způsobem ovlivňují vlastnosti láz ní jako hloubkovou účinnost, krycí schopnost, vyrovnávací účinnost, tvorbu lesku apod, a parametry povlaků,např. tažnost'a vnitřní pnutí.

Hodnoty parametrů se v praktických podmínkách galvanických dílen často velmi liší od jejich hodnot naměřených v laboratoři Je to způsobeno tím, že galvanická lázeň je pouze součástí těch v

nologického celku, který obvykle sestává z odmaštování, odrezení, ďekapování a následných operací,např. pasivace a aplikace vodorozpustných laků. K předběžným úpravám někdy přistupuje i omílání, odhrotování a pod. Mezi technologickými stupni jsou zařazeny oplachy, jejichž úkolem je dokonale odstranit ulpělé a vynesené složky jednotlivých lázní. Dosáhnout dokonalého oplá ohnutí je prakticky nemožné, ale v reálných podmínkách bývá často úroveň zařízení pro oplach hluboko pod možnostmi současné techniky a velmi často je nutno připočíst i vlivy malé technolo gické kázně při jeho údržbě. Proto se běžně vyskytují defekty ve funkci zinkovacích lázní způsobené přenosem roztoků z předchozích operací. Anorganické složky odmaštovacích i ostatních lázní jsou většinou takové povahy, že s výjimkou dvojmocného že leza,obsaženého v mořících lázních ,vadí málo nebo vůbec. Závažnější je vliv organických složek, což jsou jednak nedostatečně odstraněné zbytky konzervačních a mazacích tuků z předcho zího obrábění nebo lisování a častěji tenzidy přidávané do v

odmaštovacích, mořicích, případně omílacích a odhrotovacích přípravků. Nahromadění organických nečistot se projevuje na parametrech vylučovaných povlaků - dochází k poklesu lesku, který se nezlepšuje ani zvýšenými přídavky leskutvorných přísad, snižuje se vyrovnávání a současně vzrůstá vnitřní pnutí. Příznačné je, že poklesem lesku je postižena především oblast p

středních proudových hustot, tj. 150 až 300 A na m . Odstranění organických nečistot představuje poměrně nákladnou opraci, prosté přefiltrování přes aktivní uhlí bývá málo účinné, většinou je nutno provést kompletní regeneraci roztoku manganistanem draselným nebo peroxidem vodíku spojenou s. rozrušením větší části leskutvorných přísad a odstavením lázně z provozu. Závažnější je skutečnost, že ještě než dojde ke kritickému nahromadění nečistot, jsou přítomny v lázni v menším množství, kdy soustavně snižují kvalitu vylučovaných povlaků.

Popsané nedostatky odstraňuje přísada podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že přísada je tvořena jednou, nebo směsí sloučenin obecného vzorce

- H - (CHgCHgO)^

C « 0

I •R - N - (CH₂CH₂0) H, kde· znamená R^, Rg - Η-,^- 0Η^(0Η₂)_χ-, kde x = 0 až 7, fenyl, mono-, di- nebo tri-methylfenyl, mono-, di- nebo tri-ethylfenyl, mono-, di- nebo tri-hydroxifenyl Λ» . n - 5 až 50·

Bylo zjištěno, že tato přísada má schopnost podstatně zvyšovat toleranci zinkovacích lázní k obsahu tenzidů zanášených z odmašťovacích .a' dalších lázní. Při jejím použití Se prodlužuje interval mezi potřebnými regeneracemi způsobenými výskytem organických nečistot. Omezují se tak ztráty vzniklé oxidací vlastních leskutvorných přísad, odstavením lázně z provozu, nák· lady na chemikálie potřebné k regeneraci, úbytky elektrolytu vznikající při přečerpávání a filtraci a pod.

Přísadu je -nutno udržovat v koncentračním rozmezí 0,01 až

0,5 g na l' C. ml lázně. Je vhodné ji přímo zakomponovat do 257676

- 3 systému leskutvorných přísad v koncentraci, jež kryje ztráty způsobené výnosem při provozu.

Podrobné vysvětlení je podáno na následujících příkladech.

Příklad 1 v

Zinkovací lázeň o složení 70 g chloridu zinečnatého, 30 G kyseliny borité, 150 g chloridu sodného, 5 g benzoanu sodného, g neionógenního tenzidu (11 ethoxylových skupin v molekule), g kopolymeru-ethylen a propylenoxidu m.h. 4000, 0,05 g acetofenonu, 0,05 g methylnaftylketohu, 0,1 g benzylidenacetonu v 1000 ml roztoku byla postupně znečištována přídavky směsi ethoxylovaného nonylfenolu (10 ethoxylových skupin v molekule) a dodecylethersulfátu sodného v molárním poměru 1 ; 1 a vliv znečištění byl sledován zkušebním pokovením v Hullově cele při proudu 1 A a době pokovení 10 minut.

V koncentračním rozmezí 0 až 0,25 g směsi tenzidů v 1000 ml lázně nebyly pozorovány podstatné změny v lesku a tažnosti povlaků. Při koncentraci 0,25 až 0,40 'g došlo k poklesu lesku ve střední oblasti proudových hustot, v rozmezí 0,40 až 0,60 g se · vyloučily nepravidelné povlaky a výrazně se snížila tažnost.

Do 1000 ml lázně,o složení jako v předchozím případě,bylo nadávkováno 0,25 g přísady podle vynálezu, kde R^ = 4-methylhexyl, = Η-, n = 5. Znečištování 3mŠ3Í tenzidů a sledování zkušebním pokovením bylo provedeno jako u lázně bez přísady.

V koncentračním rozmezí. 0 až 0,55 g nebyly pozorovány žádné zrněv ny, 0,55 až 0,70 g došlo k poklesu lesku ve středních proudových hustotách, 0,70 až 0,80 g poklesl lesk v celém rozsahu proudových hustot i tažnost.

Příklad 2

Do 1000 ml lázně|o složení jako v příkladu l,bylo nadávkováno 0,1 g přísady podle vynálezu, kde R, - 2,4-dihyc.raxifenyl, v

R₂ » Η-, n = 7. Znečištování směsí tenzidů a sledov'ní zkušebním pokovením v Hullově cele bylo provedeno jako v příkladu 1. Získané výsledky byly prakticky shodné jako u přísady -pilková- . né v příkladu 1.

- 4 Příklad 3

Do 1000 ml lázně,o složení jako v příkladu 1/bylo nadávkováno 0,06 g přísady podle vynálezu, tvořené směsí dvou látek, kde u prvé R^ = 6-ethyloktyl, Rg = izopropyl, n = 10 a u druhé R^ = 4-hydroxifenyl, Rg = Η-, n = 18, v molárním poměrní 1:1. Znečišťování směsí tenzidu a sledování zkušebním pokovením bylo provedeno jako u přísady aplikované v příkladu 1. V koncentračním rozmezí 0 až 0,70 g nebyly pozorovány žádné změny_f 0,70 až 0,80 g došlo k poklesu lesku ve střední oblasti proudových hustot. V rozmezí 0,80 až 0,90 g poklesl lesk v oblasti nízkých a středních proudových hustot a současně došlo k poklesu tažnosti

Vynález je možno využívat při galvanickém zinkování výrobků v oblasti strojírenských a elektrotechnických.podniků a výrobních družstev.

Claims (1)

1. PŘEDMĚT V Y N Á*L E Z U

   Přísada do slabě kyselých zinkovacíoh lázní zvyšující toleranci k obsahu zanášených-tenzidů z·předchozích technologie kých stupňů při galvanickém zinkování v lázních s obsahem amonných solí, tj. na bázi chloridu nebo síranu zinečnatého a chloridu amonného, nebo bez amonných solí, tj. na bázi chloridu nebo síranu zinečnatého, chloridu sodného nebo draselného a kyseliny borité, a s obsahem tenzidů a organických sloučenin jako leskutvorných přísad, vyznačená tím, že sestává ze sloučenin obecného vzorce ^R1 - » 0 = 0 • i '·

   R₂ - N -.(CH₂CH₂0)_nH, kde znamená R^, R₂ - H-, GH^(CH₂)_x-, kde x » 0 až 7, fenyl, mono-, di- nebo tri-methylfenyl, mono-, di- nebo tri-eťhylfenyl, mono-, di- nebo tri-hydroxifenyl n - 5 až 50, jež obsahuje samotné nebo ve směsích.