CS254436B1 - Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní, jež zvyšuje vyrovnávání a úroveň lesku - Google Patents
Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní, jež zvyšuje vyrovnávání a úroveň lesku Download PDFInfo
- Publication number
- CS254436B1 CS254436B1 CS864015A CS401586A CS254436B1 CS 254436 B1 CS254436 B1 CS 254436B1 CS 864015 A CS864015 A CS 864015A CS 401586 A CS401586 A CS 401586A CS 254436 B1 CS254436 B1 CS 254436B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- naphthyl
- tri
- mono
- branched
- ketones
- Prior art date
Links
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 title claims description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 title claims description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 title description 6
- VQLYBLABXAHUDN-UHFFFAOYSA-N bis(4-fluorophenyl)-methyl-(1,2,4-triazol-1-ylmethyl)silane;methyl n-(1h-benzimidazol-2-yl)carbamate Chemical compound C1=CC=C2NC(NC(=O)OC)=NC2=C1.C=1C=C(F)C=CC=1[Si](C=1C=CC(F)=CC=1)(C)CN1C=NC=N1 VQLYBLABXAHUDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 6
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 claims abstract description 4
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 claims abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 10
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 claims description 5
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 claims description 5
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 238000005282 brightening Methods 0.000 claims description 4
- 239000011686 zinc sulphate Substances 0.000 claims description 4
- 235000009529 zinc sulphate Nutrition 0.000 claims description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 claims description 3
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M sodium chloride Inorganic materials [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 claims description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 239000005695 Ammonium acetate Substances 0.000 claims description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 2
- 229940043376 ammonium acetate Drugs 0.000 claims description 2
- 235000019257 ammonium acetate Nutrition 0.000 claims description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 claims description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 2
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 claims description 2
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 claims description 2
- 235000015424 sodium Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 2
- 235000010338 boric acid Nutrition 0.000 claims 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 abstract 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 12
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 12
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 6
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 3
- -1 7-ethylnonyl Chemical group 0.000 description 2
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000001211 (E)-4-phenylbut-3-en-2-one Substances 0.000 description 1
- 229930008407 benzylideneacetone Natural products 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000002079 cooperative effect Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- ZLASJWLZBYSLDG-UHFFFAOYSA-M potassium;4-methoxybenzoate Chemical compound [K+].COC1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 ZLASJWLZBYSLDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- BWHOZHOGCMHOBV-BQYQJAHWSA-N trans-benzylideneacetone Chemical compound CC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 BWHOZHOGCMHOBV-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N vanillin Chemical compound COC1=CC(C=O)=CC=C1O MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N vanillin Natural products COC1=CC(O)=CC(C=O)=C1 FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012141 vanillin Nutrition 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Přísada
sestává
ze
sloučenin
obecného
vzorce
1,
kde
znamenají
R
1
,
R
2
-
H-,
x-alkyl,
kde
χ
=
1
až
9,
s
řetězcem
nerozvětveným
i
roz
větveným,
R
3
-
y-alkyl,
kde
y
=
1
až
16
s
řetězcem
nerozvětveným
i
rozvětveným,
fenyl,
1-naftyl,
2-naftyl,
mono-,
di-
nebo
tri-alkylfenyl,
mono-,
di-
nebo
tri-alkoxifenyl
a
n
=
0
až
10,
jež
může
obsahovat
samotné
nebo
ve
směsích.
V
kombinaci s
aromatickými
aldehydy
a
ketony
zvyšuje
vyrovnávání a
úroveň
lesku
v
oblastech
nízkých
proudových
1
hustot
menších
než
30
A
na
m
2
při
galvanickém
zinkování
ve
slabě
kyselých
lázních.
Působí
až
po
rozpracování
průchodem
elektrického
proudu
3
až
5
A
.
h
na
1000
ml
lázně.
Optimální
kon
centrace
se
pohybuje
v
rozmezí
0,0001
až
0,05
g
na
1000
ml.
Je
vhodné
ji
přidat
do
leskutvorných
přísad,
což
při
pravidelném
dávkování
zajistí
její
optimální
koncentraci
v
roztoku.
Description
(54) Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní, jež zvyšuje vyrovnávání a úroveň lesku ‘ (51) Int. Cl.4
C 25 D 3/22
CS 254 436 B1 (57) Přísada sestává ze sloučenin obecného vzorce 1, kde znamenají R1, R2 - H-, x-alkyl, kde χ = 1 až 9, s řetězcem nerozvětveným i rozvětveným, R3 - y-alkyl, kde y = 1 až 16 s řetězcem nerozvětveným i rozvětveným, fenyl, 1-naftyl,
2-naftyl, mono-, di- nebo tri-alkylfenyl, mono-, di- nebo tri-alkoxifenyl a n = 0 až 10, jež může obsahovat samotné nebo ve směsích. V kombinaci s aromatickými aldehydy a ketony zvyšuje vyrovnávání rx - n - (ch2)d - ch = ch - o - Rj (i) a úroveň lesku v oblastech nízkých proudových 1 hustot menších než 30 A na m2 při galvanickém zinkování ve slabě kyselých lázních. Působí až po rozpracování průchodem elektrického proudu až 5 A . h na 1000 ml lázně. Optimální koncentrace se pohybuje v rozmezí 0,0001 až 0,05 g na 1000 ml. Je vhodné ji přidat do leskutvorných přísad, což při pravidelném dávkování zajistí její optimální koncentraci v roztoku.
Rj - N - (CH2)n - CH = CH - O - R3 (1) R2
Vynález se týká přísady do slabě kyselých zinkovacích lázní s obsahem amonných solí, tj. na bázi chloridu nebo síranu zinečnatého, chloridu nebo octanu amonného, případně obou nebo bez amonných solí, tj. na bázi chloridu nebo síranu zineČnatého, chloridu sodného nebo draselného a kyseliny borité v nejrůznějších poměrech a s obsahem leskutvorných přísad' založených na bázi aromatických ketonů, případně aromatických aldehydů a ketonů.
Leskutvorných přísad s obsahem aromatických aldehydů a ketonů byla v minulosti navržena celá řada, ale společným nedostatkem všech je, že při aplikaci ve slabě kyselých zinkovacích lázních mají poměrně nízkou vyrovnávací schopnost v oblasti velmi nízkých proudových hustot, což je spojeno s nízkou úrovní lesku zinkových povlaků v elektricky stíněných místech pokovovaných předmětů. Při pokovení na závěsech není tato vlastnost na závadu, protože se většinou pracuje při vyšších proudových hustotách a ve stíněných místech nebývá požadován dokonalý vzhled. Při hromadném pokovení v bubnech však často dochází k situaci, kdy zvláště při pokovení drobného zboží s velkou celkovou plochou nepostačuje kapacita používaných proudových zdrojů a elektrolýza probíhá při velmi nízké proudové hustotě. U zboží, kde jsou vysoké nároky na vzhled povlaků, pak nelze dosáhnout požadované kvality ani při vysokých koncentracích leskutvorných přísad. Popsaný problém byl řešen návrhem jiných typů leskutvorných přísad, které je však nutno připravovat složitými syntézami, což neúměrně zvyšuje jejich cenu.
Uvedený nedostatek odstraňuje přísada podle vynálezu, přičemž podstata vynálezu spočívá v lom, že je složena ze sloučenin obecného vzorce
R - N - (CH ) - CH = CH - O - R3,
I R2 kde znamenají R(, R, - H-, CH3 (CH,)*-, kde x = 0 až 8, s řetězcem nerozvětveným i rozvětveným,
R3 - CH3 (CH,)-, kde y = 0 až 15 s řetězcem nerozvětveným i rozvětveným, fenyl, 1-naflyl, 2-naftyI, mono-, di- nebo tri-alkylfcnyi, mono-, di- nebo tri-alkoxifenyl a n - 0 až 10, jež může obsahovat samotné i ve směsích.
Bylo zjištěno, že tato přísada má v kombinaci s aromatickými ketony, případně s aromatickými aldehydy a ketony schopnost zvyšovat vyrovnávání
254 436 a úroveň lesku v oblastech nízkých proudových hustot menších než 30 A na m“ a velmi pozitivní je její vliv při hromadném pokovení zboží náročného na vzhled. Nepůsobí okamžitě po nadávkování do galvanické lázně, ale až po rozpracování průchodem elektrického proudu 3 až 5 A.h na 1000 ml lázně. Optimální koncentrace v lázni se pohybuje v rozmezí 0,0001 až 0,05 g na 1000 ml, při překročení horní hranice dochází ke zvýšení vnitřního pnutí povlaků. Během provozu lázně se rozkládá působením elektrického proudu, proto je vhodné ji v úměrném množství přidat do leskutvorných přísad s obsahem aromatických aldehydů a ketonů, což při pravidelném dávkování zajistí její optimální koncentraci v roztoku.
Podrobné vysvětlení je podáno na následujících příkladech.
Příklad 1
0,02 g přísady podle vynálezu, kde R a R, = ethyl, R3 = 3-methylbulyl, η - 1, bylo nadávkováno do slabě kyselé zinkovací lázně s obsahem 70 g chloridu zinečnatého, 30 g kyseliny borité, 150 g* chloridu sodného, 3 g 4-methoxybenzoanu draselného, 10 g neionogenního tenzidu (8 ethoxylových skupin v molekule), 5 g kopolyméru ethylen a propylenoxidu (m.h. 2500), 0,03 g vanilinu, 0,2 g benzylidenacetonu v 1000 ml lázně. Lázeň byla rozpracována průchodem elektrického proudu 5 A.h na 1000 ml.
Úroveň lesku a vyrovnávání byla hodnocena na panelech při zkušebním pokovení v Hullové cele při proudu 0,1 A a době pokovení 15, 30, 45 a 60 minut.
Shodná zkouška byla provedena s lázní bez obsahu přísady podle vynálezu.
Z vizuálního srovnání panelů pokovených v obou lázních vyplývá, že v lázni bez přísady bylo dosaženo uspokojivého vyrovnávání a náznaku lesku po 45 až 60 minutách. V lázni s přísadou bylo náznaku lesku dosaženo již po 15 minutách, po 45 až 60 minutách byl povrch panelu kvalitně vyrovnán a bylo dosaženo zrcadlového lesku.
Příklad 2
0,015 g přísady podle vynálezu, kde R a R, = 4-methylpentyl, R3 = fenyl, n = 4, bylo nadávkováno do lázně podle příkladu 1. Rozpracování a zkušební pokovení bylo rovněž provedeno jako v příkladu 1. Kvalitního vyrovnání a zrcadlo-vého lesku bylo dosaženo již po 30 až 45 minutách.
Příklad 3
0,025 g přísady podle vynálezu, kde R a R, = = methyl, R3 = 7-ethylnonyl, n = 3, bylo nadávkováno do lázně podle příkladu 1. Rozpracování a zkušební pokovení bylo provedeno jako v příkladu jedna. Kvalitního vyrovnání a zrcadlového lesku bylo dosaženo po 30 až 45 minutách.
Příklad 4
0,005 g přísady podle vynálezu, kde Rj a R, = 4-methylpentyl, R3 = fenyl, n = 7 a 0,005 g přísady,
254 436 kde Rj a R, = methyl, R3 = 7-ethylnonyl, n = 5, bylo nadávkováno do lázně podle příkladu 1.
Rozpracování a zkušební pokovení bylo provedeno jako v příkladu 1. Kvalitního vyrovnání a zrcadlového lesku bylo dosaženo po 30 až 45 minutách.
Vynález je možno využívat při galvanickém zinkování výrobků v oblasti strojírenských a elektrotechnických podniků a výrobních družstev.
Claims (1)
- PŘEDMĚT VYNÁLEZUPřísada do slabě kyselých zinkovacích lázní, jež zvyšuje vyrovnávání a úroveň lesku v oblasti nízkých proudových hustot menších než 30 A na m“, použitelná v lázních založených na bázi chloridu nebo síranu zinečnatého a chloridu nebo octanu amonného, případné obou.nebo bez amonných solí, tj. na bázi chloridu nebo síranu zinečnatého, chloridu sodného nebo draselného a kyseliny borité v nejrůznějších poměrech a s obsahem leskutvorných přísad založených 'na bázi aromatických ketonů, případně aromatických aldehydů a ketonů, vyznačená tím, že sestává ze sloučenin obecného vzorceR3 - N - (CH2)n - CH = CH - O - R3, R2 kde znamenají R(, R, - H-, CH3 (CH,) -, kde x = 0 až 8,- s řetězcem neroz.větveným i rozvětveným,R3 - CH3 (CH,) kde y = t) až 15 s řetězcem neroz.větveným i rozvětveným, fenyl, 1-naftyl, 2-naftyl, mono-, di- nebo tri- alkylíenyl, mono-, di- nebo tri-alkoxifenyl a n - 0 až. 10, jež může obsahovat samotné i ve směsích.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS864015A CS254436B1 (cs) | 1986-06-02 | 1986-06-02 | Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní, jež zvyšuje vyrovnávání a úroveň lesku |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS864015A CS254436B1 (cs) | 1986-06-02 | 1986-06-02 | Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní, jež zvyšuje vyrovnávání a úroveň lesku |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS401586A1 CS401586A1 (en) | 1987-05-14 |
| CS254436B1 true CS254436B1 (cs) | 1988-01-15 |
Family
ID=5381920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS864015A CS254436B1 (cs) | 1986-06-02 | 1986-06-02 | Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní, jež zvyšuje vyrovnávání a úroveň lesku |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS254436B1 (cs) |
-
1986
- 1986-06-02 CS CS864015A patent/CS254436B1/cs unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS401586A1 (en) | 1987-05-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2762723A (en) | Processes of chemical nickel plating and baths therefor | |
| US4687557A (en) | Gold alloys and galvanic bath for the electrolytic deposit thereof | |
| US3663384A (en) | Bath for electroplating tin-bismuth alloy | |
| DE2900501C2 (de) | Wäßriges cyanidfreies Bad zur galvanischen Abscheidung glänzender Zinküberzüge und Verfahren zur galvanischen Abscheidung solcher Überzüge unter Verwendung des Bades | |
| NL8202441A (nl) | Glansgevende samenstelling van een bad voor het elektroplateren van een zinklegering alsmede werkwijze voor het gebruiken daarvan. | |
| US2812299A (en) | Electrolytic deposition of gold and gold alloys | |
| US3380898A (en) | Electrolyte and method for electrodepositing a pink gold alloy | |
| US2871171A (en) | Method of electroplating copper on aluminum | |
| US3131134A (en) | Electroplating from an organic electrolytic solution | |
| US1827204A (en) | Method of protecting metal surfaces | |
| US3928147A (en) | Method for electroplating | |
| CS254436B1 (cs) | Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní, jež zvyšuje vyrovnávání a úroveň lesku | |
| EP0037634A1 (en) | Zinc plating baths and additives therefor | |
| IT8047741A1 (it) | Bagno acido e procedimento di elettroplaccatura allo zinco | |
| DE2939920A1 (de) | Bad zum galvanischen abscheiden von palladium | |
| US6248228B1 (en) | Metal alloy halide electroplating baths | |
| DE68909984T2 (de) | Elektroplattierte Legierungsbeschichtungen, die eine stabile Legierungszusammensetzung aufweisen. | |
| US3342710A (en) | Method of rust proofing treatment of metals | |
| Kersting et al. | Coupling of thionitrosyls and nitrosyls on rhenium fragments: a molecular orbital analysis | |
| KR840004185A (ko) | 금속의 킬레이트화 | |
| US6179985B1 (en) | Metal alloy fluoroborate electroplating baths | |
| CS254434B1 (cs) | Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní, jež brání spoluvylučování dvojmocného železa do zinkového povlaku | |
| US3021266A (en) | Additive for copper plating bath | |
| US2313454A (en) | Electrodeposition of cuprous oxides and baths therefor | |
| CS254435B1 (cs) | Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní, jež podstatně snižuje vnitřní pnutí vylučovaných povlaků |