CS215737B1 - Způsob odstraňování síťovaných polyailoxanů z povrchu materiálu - Google Patents
Způsob odstraňování síťovaných polyailoxanů z povrchu materiálu Download PDFInfo
- Publication number
- CS215737B1 CS215737B1 CS651880A CS651880A CS215737B1 CS 215737 B1 CS215737 B1 CS 215737B1 CS 651880 A CS651880 A CS 651880A CS 651880 A CS651880 A CS 651880A CS 215737 B1 CS215737 B1 CS 215737B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- polysiloxanes
- crosslinked
- polyailoxanes
- salts
- material surface
- Prior art date
Links
Landscapes
- Detergent Compositions (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
Účelem vynálezu je dosažení snadného odstraňování nežádoucích nánosů nebo zrušení spojů, vytvořených z polyailoxanů. Tohoto účelu se dosáhne tím, Se se předmět, opatřený na povrchu síťovaným polysiloxanem, podrobí působení tekuté směsi primárního, sekundárního nebo terciálního aminu s 0,1 až 50 % přísad, sestávajících z hydroxidů alkalických kovů, jejich solí nebo kvarterních amoniových či fosfoniových solí. Vynález je možno použít pro leptání síťovaných polysiloxanů.
Description
Vynález se týká způsobu odstraňování síťovaných polysiloxanů z povrchu materiálu, zařízení, součástek nebo jejich spojů.
V současná době jsou podobná operace prováděny buá mechanickým způsobem, vysokoteplotními degradacemi, nebo kombinací mechanického narušení a botnéním v organických či vhodných anorganických sloučeninách, jako jsou kyseliny apod. a dodatečným odstraněním zbotnalýoh zbytků. Je zná* rovněž způsob odstraňování silikonových pryskyřic pomocí primárních a sekundárních aminů, spočívající ve Štěpení síťovaných pryskyřic těmito látkami. Štěpení je vysvětlováno jako nukleofilní substituce na atomu křemíku a jedná se o reakci reverzibilní. Nelze ji aplikovat na lineární polysiloxany.
Nedostatky jmenovaných postupů spočívají v možnosti mechanického nebo tepelného poškození podkladového materiálu, ve zdlouhavosti a pracnosti. Použití degradace pomocí aminů je omezeno na úzkou oblast silikonových pryskyřic.
Uvedené nedostatky odstraňuje podle vynálezu způsob odstraňování síťovaných polysiloxanů z povrchu materiálu, zařízení, součástek nebo jejich spojů za použití aminů. Jeho podstata spočívá v tom, že se předmět, opatřený na povrchu síťovaným polysiloxanem, podrobí působení tekuté směsi primárního, sekundárního nebo terciárního aminu s 0,1 až 50 % hmot. přísad, skládajících se z hydroxidů alkalických kovů, jejich solí nebo kvartérních amoniových či fosfoniových bází.
Účinek způsobu podle vynálezu spočívá ve snadném odstraňování nežádoucích nánosů nebo zrušení spojů, vytvořených z polysiloxanů.
Hýdroxidy alkalických kovů, jejích soli i kvartérní amoniové či fosfoniové báze lze přidávat k aminům v jakékoliv fyzikální formě. Uvedené látky degradační účinek aminů podstatně urychlují, rozšiřují oblast jejich působnosti i na lineární polysiloxany, případně jejich vulkanizáty, získané věemi dosud známými postupy síťování a zabraňují vratnosti reakce.
Chemická odstraňování polysiloxanových vrstev je též jednoduché, rychlé a dokonalé. Výhodou je, že odstraňovaný nános je v kapalné formě lehce odstranitelný i z těžko přístupných míst jako dutin, kanálků apod. Další předností je možnost jeho provádění v celém teplotním rozsahu kapalné fáze použitého aminu a regulace rychlosti celého postupu změnou koncentrace druhé komponenty.
Aminy, použité k odstranění nánosů, lze jednoduchým způsobem a téměř beze ztrát, např. destilací, regenerovat. Uvedený způsob je rovněž možno použít k leptání síťovaných polysilo.-r xanů.
Způsob, podle vynálezu je v dalším blíže popsán v několika příkladech provedení.
Příklad 1
Jestliže bylo při rekonstrukci keramických, porcelánových, skleněných a jiných předmětů pro spojování jednotlivých zlomků použito» adheziva na bázi polysiloxanů, např. jednoslož1 kové, za normální teploty vulkanizující pasty Či tmelu, potom v případě nutnosti rozebrání slepených předmětů na původní zlomky bylo využito následujícího postupu: Předmět vyl ponořen do směsi 100 hmotnostních dílů n-butylaminu a 10 hmotnostních dílů silanolátu sodného. Doba destrukce siloxanové vrstvy je závislá na její tloušťce.,Při tloušťce do 2 mm došlo během 10 minut k dokonalému rozložení spoje. Po vyjmutí z destrukční lázně následovalo důkladné opláchnutí vodou.
Příklad 2
V elektrotechnice bývají citlivá místa součástek, např. různé spoje apod., chráněna krycí vrstvou na bázi polysiloxanů. Při úpravách, opravách nebo změnách prováděných na těchto součástkách byla krycí a izolační vrstva odstraněna ponořením do lázně, skládající se ze 100 hmotnostních dílů cyklohexylaminu, 5 hmotnostních dílů KOH o velikosti částic do 0,03 mm. S výhodou se rozpouštění provádělo při pohybu rožpouštěcího média, čímž byl obnovován povrch siloxanové vrstvy a docházelo k urychlení degradačního procesu. Zvýšení rychlosti rozpouštění lze dosáhnout také zahřátím destrukční lázně. Po vyplavení siloxanové složky byla každá sou*· částka dokonale omyta vodou, případně polárními rozpouštědly, a osušena. Po vysušení byla již připravena k dalšímu použití.
Příklad 3
V telefonních centrálách, kde bylo k izolaci nebo při konstrukci některých součástek využit® pryskyřic či jiných silikonových polymerů, dochází k sekundárnímu znečištění siloxanové složky, což je příčinou poruch. Směsí cyklohexylaminu s 0,03 % hydroxidu sodného a postupem uvedeným v příkladu 2 byla z demontované součástky odstraněna nežádoucí vrstva. Bez demontáže byly nánosy o menší tloušťce odstraněny potíráním směsí aminu s KOH, jak je uvedeno v příkladu 2, nebo 50 % disperzí KOH v cyklohexylaminu. Dodatečně byly očištěné součástky opláchnuty etylalkoholem.
Claims (1)
- Způsob odstraňování síťovaných polysiloxanů z povrchu materiálů, zařízení, součástek nebo jejich spojů za použití aminů, vyznačený tím, že se předmět, opatřený na povrchu síťovaným polysiloxanem, podrobí působení tekuté směsi primárního, sekundárního nebo terciárního aminu s 0,1 až 50 % přísad, skládajících se z hydroxidů alkalických kovům, jejich solí nebo kvarterních amoniových či fosfoniových bází.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS651880A CS215737B1 (cs) | 1980-09-26 | 1980-09-26 | Způsob odstraňování síťovaných polyailoxanů z povrchu materiálu |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS651880A CS215737B1 (cs) | 1980-09-26 | 1980-09-26 | Způsob odstraňování síťovaných polyailoxanů z povrchu materiálu |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS215737B1 true CS215737B1 (cs) | 1982-09-15 |
Family
ID=5412405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS651880A CS215737B1 (cs) | 1980-09-26 | 1980-09-26 | Způsob odstraňování síťovaných polyailoxanů z povrchu materiálu |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS215737B1 (cs) |
-
1980
- 1980-09-26 CS CS651880A patent/CS215737B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3673099A (en) | Process and composition for stripping cured resins from substrates | |
| JPS5821000B2 (ja) | 清浄化組成物 | |
| JPS61169847A (ja) | 半導体基板からホトレジストおよび剥離剤残留物を除去するための後洗浄剤および方法 | |
| KR20210008519A (ko) | 조성물, 접착성 폴리머의 세정 방법, 디바이스 웨이퍼의 제조 방법, 및 지지 웨이퍼의 재생 방법 | |
| KR980700133A (ko) | 세정방법 및 세정장치(Cleaning Method and Cleaning Apparatus) | |
| KR102544429B1 (ko) | 분해세정 조성물, 접착성 폴리머의 세정 방법, 및 디바이스 웨이퍼의 제조 방법 | |
| CA1038705A (en) | Method for rendering vitreous surfaces water repellant and dirt deposit resistant and articles produced thereby | |
| CS215737B1 (cs) | Způsob odstraňování síťovaných polyailoxanů z povrchu materiálu | |
| TWI752903B (zh) | 在低pKa驅動之聚合物剝離期間促進電荷錯合銅之保護的組合物及方法 | |
| US3079284A (en) | Method for cleaning surfaces | |
| WO2010090146A1 (ja) | レジスト剥離剤組成物及びそれを用いたレジスト剥離方法 | |
| KR940001078B1 (ko) | 감광체 드럼의 제조방법 | |
| CN100412184C (zh) | 清洗漂洗方法 | |
| KR100802395B1 (ko) | 고경도 무기계 코팅막 형성 방법 | |
| TW201510005A (zh) | 從基材去除聚矽氧樹脂的方法 | |
| KR20150016738A (ko) | 모바일용 유리 기판의 재생 방법 | |
| US1185641A (en) | Finish-removing process. | |
| TW201422806A (zh) | 玻璃基板之清潔方法 | |
| JPH0253781B2 (cs) | ||
| JPH07197092A (ja) | 洗浄乾燥方法 | |
| JP3476901B2 (ja) | 洗浄方法および洗浄装置 | |
| TWI874210B (zh) | 矽橡膠還原再製方法以及化學藥水 | |
| JP3748004B2 (ja) | 洗浄剤 | |
| US3915769A (en) | Protected crossover circuits and method of protecting the circuits | |
| KR100598287B1 (ko) | 반도체 소자의 세정 방법 |