CN2887460Y - Uv胶涂布机结构改良 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种UV胶涂布机结构改良，该UV胶涂布机包括胶剂供应装置、以及用以导送面状基材的滚筒组、以及照射灯具，各滚筒组单元至少包括呈前后组配关系的三组滚筒及前、后置滚筒，所述面状基材经滚筒组单元的导送路径型态，依序由前置滚筒顶侧往下绕经第一滚筒的底侧后，再往上绕经第二滚筒的顶侧，接着再往下绕经第三滚筒的底侧后往上绕至后置滚筒的顶侧，构成该面状基材经滚筒组单元的导送路径概呈一“W”形，并构成该面状基材涂胶后的溢胶部位均为开口朝上状态。以此，达到多余胶剂不滴落、且遇涂布不足的区段可利用溢胶部位径行填补而降低不良率及浪费的进步性，以及单一流程即可达到双层、多层涂胶效果等优点。

Description

UV胶涂布机结构改良

技术领域

本实用新型涉及一种UV胶涂布机结构，特别涉及一种面状基材经滚筒组单元的导送路径型态的创新型态设计。

背景技术

涂胶机是一种用以在面状基材上自动涂布胶剂的专用机具；而本实用新型所特别针对的涂胶机，是一种专用以涂布UV胶的涂胶机型式，而所述UV胶通常是利用具有细纹面的滚轮滚压涂布于LCD液晶面板光学膜上，再透过紫外线灯具加以照射干涸，用以在LCD液晶面板光学膜上形成光折射表层；而上述UV胶涂布机现有结构型态如图1所示，其液晶面板光学膜05进行涂胶经过上胶装置10后的输送路径，是由一第一滚筒11的底侧往上绕过一第二滚筒12的顶侧，之后再往下绕过一第三滚筒13的底侧，以此而构成一概似倒U字形的输送路径，以使紫外线灯具14组设于第二滚筒12上方间隔处；此种现有结构型态于实际使用经验中发现存在下述问题：

1、由于该液晶面板光学膜05经第一滚筒11之后是呈朝上角度往第二滚筒12前进，因此液晶面板光学膜05上多余的胶剂W将往下溢流至第二滚筒12底侧与液晶面板光学膜05所夹置形成的三角空间中，而该三角空间所积累的胶剂W逐渐增多时，由于地心引力作用所致，将往下滴落，造成胶剂无法再利用、浪费的问题；甚至，若溢流的胶剂沾附到滚筒，则其硬化后更将影响正常导动状态，操作人员耗费时间进行清理而降低作业效率；再者，当液晶面板光学膜05上所涂布的胶剂W不足时，上述现有液晶面板光学膜05的导送型态将造成无法自动弥补胶剂、增加成品瑕疵率的缺憾。

2、另一个问题，则是目前液晶面板光学膜表面通常需涂布双层甚至更多层的UV胶，以达到更佳的光线折射聚集效果，目前的UV胶涂胶机设计上，在一次加工过程中仅能达到涂布单层胶目的，若要达到双层胶的效果，则得让整卷基材均涂布第一层UV胶并干涸之后，再重新跑一次加工流程才能达成，如此显然存在效率缓慢，工时拖延的缺点，不符合产业利用性；且第二次加工时，上、下胶层之间将存在位置难以精确相对位的情况，这对于上述液晶面板光学膜的不同UV胶层必须精确对位才能达到预期折射效果的情况而言，将造成成品的精密度误差率高、品质不佳而无法满足客户要求的缺点。

所以，针对上述现有UV胶涂布机结构使用上所存在的问题，如何开发一种更加理想实用性的创新结构，是有待相关技术人员加以努力研发突破的目标及方向。

实用新型内容

为克服上述缺陷，本实用新型主要目的在于提供一种UV胶涂布机结构改良，针对现有UV胶涂布机的面状基材导送路径配置上存在胶剂会溢流造成浪费、而胶剂不足时无法自动弥补，导致成品瑕疵率增加的问题加以改良突破。

为达到上述目的，本实用新型的UV胶涂布机结构包括有胶剂供应装置、用以导送面状基材的滚筒组以及照射灯具，各滚筒组单元至少包括呈前后组配关系的第一、第二、第三滚筒以及前、后置滚筒，所述面状基材经滚筒组单元的导送路径型态，依序由一前置滚筒的顶侧往下绕经第一滚筒的底侧后，再往上绕经第二滚筒的顶侧，接着再往下绕经第三滚筒的底侧后往上绕经一前置滚筒的顶侧，构成该面状基材经滚筒组单元的导送路径概呈一“W”形，并构成胶剂溢流方向朝上的角度状态。

采用上述结构的创新独特设计，使得本实用新型面状基材涂胶后的溢胶部位达到多余胶剂不滴落、且遇胶剂涂布不足的区段可利用溢胶部位径行填补而降低产品不良率及浪费的进步性及较佳产业利用效益。

附图说明

图1是现有结构的平面示意图。

图2是本实用新型的UV胶涂布机整体结构平面简示图。

图3是本实用新型的单一滚筒组构成平面示意图。

图4是本实用新型的滚筒组构造变化实施例图。

图5是本实用新型的胶层涂布结果的局部平面剖视图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步的详细说明：

如图2、图3所示，本实用新型UV胶涂布机结构改良的较佳实施例，此实施例仅供说明之用，在专利申请上并不受此结构的限制；该所述UV胶涂布机A整体如图2所示，其包括有胶剂供应装置20、以及用以导送面状基材30(本实施例为液晶面板光学膜)的滚筒组40、以及照射灯具51、52，各滚筒组40单元至少包括呈前后组配关系的第一、第二、第三滚筒41、42、43以及前、后置滚筒44、45，而机台60的流程前、后处并分别组设有基材置放单元61以及成品收置单元62；本实用新型的改良主要在于：

该面状基材30经滚筒组40的导送路径型态，如图3所示，是依序由该前置滚筒44的顶侧往下绕经第一滚筒41的底侧后，再往上绕经第二滚筒42的顶侧，接着再往下绕经第三滚筒43的底侧后往上绕经后置滚筒45的顶侧；如此，构成该面状基材30经滚筒组40的导送路径整体概呈一“W”形，并构成胶剂W经滚压后的溢流方向为朝上的角度状态；以此型态，本实用新型的面状基材30经过该滚筒组40的一次加工流程后，即可完成两道涂胶程序以及两道照射硬化程序，在该面状基材30上形成双层的UV胶层，且所述UV胶层可利用第一滚筒41及第三滚筒43表面预设凹凸纹面的设计而产生双层光折射效果，以使成品的液晶面板光学膜可达到倍数折射导光效果、降低光源使用量及耗能目的。

其中，所述照射灯具51、52可分别组设于该第一滚筒41及第三滚筒43底侧下方间隔位置。

其中，所述滚筒组40可为如图2、图3所示由第一、第二、第三滚筒41、42、43以及前、后置滚筒44、45所构成的组配型态；或是如图4所示滚筒组40，其第二、第三滚筒42、43为复数组扩增于流程后置处的组配型态，以此可制成更多层的UV胶层。

其中，该滚筒组40单元的预定部位更可加装有溢胶感应装置(图未绘示)，用以可侦测胶剂往滚筒两端溢流的情形。

本实用新型的UV胶涂布机结构改良有益效果如下：

1、本实用新型的UV胶涂布机结构改良主要利用该面状基材30经滚筒组40的导送路径整体概呈一“W”形的创新独特设计，使得面状基材30涂胶后的溢胶部位均为开口朝上状态，如此多余的胶剂W不会有滴落的问题、且遇胶剂涂布不足的区段时，可利用该溢胶部位的胶剂W可往下径行填补的特色(如图3所示)，进而能达到降低产品不良率、降低浪费的进步性及较佳产业利用效益。

2、本实用新型的UV胶涂布机结构改良利用该面状基材30经滚筒组40的导送路径整体概呈一“W”形的创新独特设计，使其面状基材30经过滚筒组40的一次加工流程后，即可完成两道涂胶程序以及两道照射硬化程序(利用增设滚筒组可达到更多层)，构成其单一流程即可达到双层、多层涂胶效果的特点，进而能大幅提高生产效率，且不同胶层是在一次滚筒输送流程中完成，确可降低不同胶层相对位的误差值，如图5所示，也即当该面状基材30上形成有两道胶层W1及W2时，其两胶层每一折射点的对位可达到精准对应不偏差的结果(如图中的C、D点相对位状态)，如此当成品是作为液晶面板光学膜使用时，可达到最佳的光线折射聚集效果，使成品的品质精密度能确实提高而更能满足客户的要求。

上述实施例所述用以具体说明本实用新型，且文中虽透过特定的术语进行说明，但不能以此限定本实用新型的专利范围；熟悉此项技术领域的技术人员可在了解本实用新型的精神与原则后对其进行变更与修改而达到等效目的，而此等变更与修改，皆应涵盖于权利要求所界定范畴中。

Claims (4)

1、一种UV胶涂布机结构改良，该UV胶涂布机包括有胶剂供应装置、用以导送面状基材的滚筒组以及照射灯具，各滚筒组单元至少包括呈前后组配关系的第一、第二、第三滚筒以及前、后置滚筒，其特征在于：所述面状基材经滚筒组的导送路径型态，依序由该前置滚筒的顶侧往下绕经第一滚筒的底侧后，再往上绕经第二滚筒的顶侧，接着再往下绕经第三滚筒的底侧后往上绕经后置滚筒的顶侧；以此构成该面状基材经滚筒组的导送路径概呈一“W”形；并构成胶剂溢流方向朝上的角度状态。

2、根据权利要求1所述的UV胶涂布机结构改良，其特征在于：所述照射灯具可分别组设于该第一滚筒及第三滚筒底侧下方间隔位置。

3、根据权利要求1所述的UV胶涂布机结构改良，其特征在于：所述滚筒组单元的第一、第二、第三滚筒可为多组扩增延伸的组配型态。

4、根据权利要求1所述的UV胶涂布机结构改良，其特征在于：所述滚筒组单元的预定部位可加装有溢胶感应装置，用以侦测胶剂往滚筒两端溢流的情形。

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