CN221164565U - 一种连续式等离子体处理设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种连续式等离子体处理设备，涉及等离子体处理技术领域。本实用新型解决了现有连续式等离子体处理设备的除尘效果差和传送皮带的松紧度需人工调节操作繁琐和调节不及时的问题。本实用新型包括反应腔、传送架、传送带、皮带调节机构和除尘机构；皮带调节机构包括弹簧、限制槽、限制轮和支撑架；除尘机构包括毛刷和吸尘风机，毛刷设置在反应腔外，吸尘风机设置在反应腔内。本实用新型通过弹簧的拉伸实现传送带的松紧度调节，避免传送带过于松弛，导致脱轨。本实用新型实现了在等离子体处理前，对飘散于待处理材料附近或附着于待处理材料上颗粒的清除。

Description

一种连续式等离子体处理设备

技术领域

本实用新型涉及等离子体处理技术领域，尤其涉及一种连续式等离子体处理设备。

背景技术

等离子体处理设备是一种用于金属、聚合物和非金属等表面处理的设备。它主要通过等离子体放电来实现对金属、聚合物和非金属等表面的改性和清洁处理，在半导体领域有着广泛的应用。

现有连续式等离子体处理设备采用传送带携带待处理材料进入反应腔，存在以下不足：

1、现有技术需要通过人工拆卸皮带、通过人工调整与皮带存在传送关联的主动辊和传动辊的位置来实现传送带的松紧度，此过程操作繁琐，不便捷。若是传送带松紧度调节不及时，会导致传送带脱轨，无法传送待处理材料，影响生产效率。

2、在待处理材料进入反应腔前，现有技术采用吹气管直接对待处理材料进行除尘，此种处理方式，导致灰尘颗粒四处飘散，部分灰尘颗粒继续沉积或吸附于待处理材料的可能性极高，除尘效果差。

实用新型内容

鉴于上述的分析，本实用新型旨在提供一种连续式等离子体处理设备，用以解决现有连续式等离子体处理设备的除尘效果差和传送皮带的松紧度需人工调节操作繁琐和不及时的问题。

本实用新型的目的主要是通过以下技术方案实现的：

本实用新型提供了一种连续式等离子体处理设备，包括反应腔、传送架、传送带、皮带调节机构和除尘机构；

皮带调节机构包括弹簧、限制槽、限制轮和支撑架；限制槽设置在传送架上，通过弹簧，支撑架与限制槽连接；支撑架上连接限制轮且限制轮绕自身转轴旋转；传送架上的传送带紧贴限制轮的外壁，且传送带设置在限制槽和限制轮之间；

除尘机构包括毛刷和吸尘风机；毛刷设置在反应腔外，吸尘风机设置在反应腔内。

进一步地，皮带调节机构设置多组。

进一步地，除尘机构还包括电动推杆和与电动推杆连接的连接架；电动推杆固定在反应腔的外壁，毛刷连接在连接架上。

进一步地，除尘机构还包括第二电机，第二电机与毛刷连接。

进一步地，吸尘风机包括吸尘口；吸尘口朝向传送带设置。

进一步地，还包括导向架，导向架随传送带移动。

进一步地，导向架包括竖向调节件和横向调节件，竖向调节件与横向调节件可拆卸连接。

进一步地，导向架还包括挡板；沿传送带的运动方向，挡板设置在传送带的两侧。

进一步地，挡板的顶端与竖向调节件可拆卸连接。

进一步地，还包括设置在反应腔内部且依次连接的等离子发射器、喷射管和喷射头，喷射头的出口朝向传送带。

与现有技术相比，本实用新型至少可实现如下有益效果之一：

1、本实用新型中的皮带调节机构包括弹簧、限制槽、限制轮和支撑架；限制槽设置于连续式等离子体处理设备的传送架上，通过弹簧，支撑架与限制槽连接，支撑架上连接限制轮且限制轮绕自身转轴旋转；传送带紧贴限制轮的外壁。本实用新型通过弹簧的拉伸，带动支撑架向传送带方向移动，支撑架进一步带动限制轮对传送带施加压力，以此实现传送带的松紧度调节，避免传送带过于松弛，导致脱轨。本实用新型不需要调整主动辊和传动辊的位置，也不需要拆卸传送带即可实现传送带的松紧度，操作过程简单，便捷，且不影响生产效率。

2、本实用新型中的除尘机构包括毛刷和吸尘风机，毛刷设置于反应腔外壁，吸尘风机设置于反应腔的内部。毛刷接触待处理材料，清理表面杂质颗粒。待处理材料随着传送带进入反应腔内，在进行等离子体处理前，利用吸尘风机将附着于待处理材料表面上或待处理材料附近漂浮的灰尘颗粒吸走，并排出反应腔外。因为进行等离子体处理前，清除了飘散于待处理材料附近或附着于待处理材料上的颗粒，提高对待处理材料的除尘效果，减少在等离子体处理过程中，灰尘颗粒对待处理材料处理影响。

3、本实用新型中的导向架用于限定待处理材料在传送带上的位置，保证待处理材料由传送带带至等离子体处理区进行等离子体处理。

本实用新型中，上述各技术方案之间还可以相互组合，以实现更多的优选组合方案。本实用新型的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分优点可从说明书中变得显而易见，或者通过实施本实用新型而了解。本实用新型的目的和其他优点可通过说明书实施例以及附图中所特别指出的内容中来实现和获得。

附图说明

附图仅用于示出具体实施例的目的，而并不认为是对本实用新型的限制，在整个附图中，相同的参考符号表示相同的部件。

图1为本实用新型中连续式等离子体处理设备的结构示意图；

图2为图1中传送带的俯视示意图；

图3为图1中A处的放大示意图；

附图标记：

1-反应腔；2-传送架；3-转轴；4-传送带；5-皮带轮；6-导向架；7-第一电机；8-电动推杆；9-连接架；10-毛刷；11-第二电机；12-风机；13-排尘口；14-等离子发射器；15-喷射管；16-喷射头；17-弹簧；18-限制槽；19-限制轮；20-支撑架；61-竖向调节件；62-横向调节件；63-挡板。

具体实施方式

下面结合附图来具体描述本实用新型的优选实施例，其中，附图构成本实用新型的一部分，并与本实用新型的实施例一起用于阐释本实用新型的原理，并非用于限定本实用新型的范围。

本实施例提供了一种连续式等离子体处理设备，参照图1-图3，包括传送架2、皮带调节机构和除尘机构；传送架2包括传送带4；传送架2贯穿连续式等离子体处理设备的反应腔1外壁且传送架2与反应腔1固定连接。皮带调节机构用于调节皮带的松紧；除尘机构用于清除包括基片在内的待处理材料上或其附近的灰尘颗粒。

进一步地，参照图3，皮带调节机构包括弹簧17、限制槽18、限制轮19和支撑架20；限制槽18设置于传送架2上，弹簧17的一端连接于限制槽18的底部，弹簧17的另一端与支撑架20连接，支撑架20上连接限制轮19且限制轮19绕自身转轴旋转；传送带4紧贴限制轮19的外壁，传送带4设置在限制槽18和限制轮19之间。通过弹簧的拉伸用力，带动支撑架20向限制槽18方向移动，支撑架20进一步带动限制轮19对传送带4施加压力，以此实现传送带4的松紧度调节，避免传送带4过于松弛，导致脱轨。本实用新型不需要调整主动辊和传动辊的位置，也不需要拆卸传送带即可实现传送带的松紧度，操作过程简单，便捷，且不影响生产效率。

进一步地，皮带调节机构设置多组，设置于反应腔1的外部。参照图1，皮带调节机构设置两组且靠近皮带轮5设置。

进一步地，参照图1，除尘机构包括毛刷10和吸尘风机12；毛刷10设置于反应腔1外，吸尘风机12设置于反应腔1的内部，且靠近待处理材料入口，毛刷10包括但不限于毛刷轮、毛刷辊和毛刷盘。毛刷接触待处理材料，清理表面杂质颗粒。待处理材料随着传送带4进入反应腔1内，在进行等离子体处理前，利用吸尘风机将附着于待处理材料表面上或待处理材料附近漂浮的灰尘颗粒吸走，并排出反应腔1外。因为进行等离子体处理前，清除了飘散于待处理材料附近或附着于待处理材料上的颗粒，提高对待处理材料的除尘效果，减少在等离子体处理过程中，灰尘颗粒对待处理材料处理影响。

进一步地，参照图1，所述除尘机构还包括第二电机11，第二电机11与毛刷10连接，用于驱动毛刷做旋转操作，以便于清洁待处理材料表面的灰尘颗粒。

进一步地，参照图1，除尘机构还包括电动推杆8和连接架9，电动推杆8固定在反应腔1外壁。毛刷10的转轴在连接架9上，毛刷10绕自身转轴旋转。电动推杆8与连接架9连接，驱动连接架9沿竖直方向做往复运动。此种设计，一方面实现毛刷10的便携式更换，另一方面实现毛刷10在竖直方向上的自由移动，当需要使用毛刷10进行灰尘清理时，下移毛刷10对待处理材料表面进行除尘清理，同时，因为毛刷10在竖直方向上自由移动，可以实现对不同高度待处理材料表面灰尘颗粒的清理；当不使用毛刷10时，通过电动推杆8带动连接架9升高，连接架9进一步带动毛刷10上移，此时，毛刷10位于反应腔1入口的上方，反应腔1入口无遮挡，因为反应腔1入口无遮挡，操作人员可在反应腔1入口附近进行相关操作，例如清洁反应腔1入口等。操作人员也可通过反应腔1入口对反应腔1内部进行相关处理，例如清洁反应腔1入口内壁。

进一步地，除尘机构还包括第一开口、第二开口和空气过滤装置；吸尘风机12包括吸尘口13和排尘口；第一开口和第二开口均开设在反应腔(1)侧壁上。吸尘口13朝向传送带4设置，吸尘风机12启动后，吸尘口13将待处理基片上附着及其附近漂浮的灰尘颗粒吸入，由吸尘风机12的排尘口通过第一开口，将吸尘风机12吸入的灰尘颗粒排出到反应腔的外部。为了保证反应腔内部气压的均衡，在反应腔侧壁上开设第二开口，为了保证从第二开口处进入的空气没有灰尘颗粒，在第二开口处设置空气过滤装置。

进一步地，参照图1和图2，还包括导向架6，所述导向架6放置于传送带4上。导向架6包括竖向调节件61和横向调节件62，竖向调节件61与横向调节件62可拆卸连接，具体为：横向调节件62的底面接触传送带4的表面，横向调节件62的顶部与竖向调节件61可拆卸连接。横向调节件62的长轴方向与传送带4的运动方向平行，竖向调节件61的长轴方向与传送带4的运动方向垂直。待处理材料放置于横向调节件62上，根据待处理材料的大小，调节相邻两个竖向调节件61的空隙和相邻两个横向调节件62之间的间距，然后将竖向调节件61和横向调节件62锁紧，以使待处理材料限位于两个竖向调节件61和横向调节件62之间。调节相邻两个横向调节件62之间的间距，以保证待处理材料能够置于横向调节件62上，且不会从间距掉落至传送带4上。调节相邻两个竖向调节件61之间的空隙，使待处理材料被限位在两个竖向调节件61之间，以保证传送带4移动的过程，待处理材料相对于传送带4不发生移动。

需要说明的是，横向调节件62的数量按需设置。竖向调节件61与横向调节件62之间可拆卸连接，可拆卸连接包括但不限于螺钉螺纹连接、卡合连接或绑定连接。

进一步地，参照图1，导向架6还包括挡板63。沿传送带4的运动方向，挡板63设置于传送带4的两侧，一方面用于防止竖向调节件61和横向调节件62从传送带4上脱落，另一方面用于防止位于竖向调节件61和横向调节件62之间的待处理材料从竖向调节件61和横向调节件62之间脱落。

进一步地，挡板63的顶端与竖向调节件61可拆卸连接，其中可拆卸连接为螺钉螺纹或卡合连接，卡合连接具体为：竖向调节件61上开设凹槽，挡板63陷入所述凹槽，完成竖向调节件61与挡板63的可拆卸连接。

进一步地，参照图1，传送架2还包括转轴3和皮带轮5，转轴3设置两个且分别设置在传送架2的两端，每个转轴3连接一个皮带轮5，两个皮带轮5之间通过传送带4连接。连续式等离子体处理设备还包括第一电机7，第一电机7设置于传送架2外壁后侧，第一电机7与作为主驱动轴的转轴3连接，并驱动主驱动轴旋转，主驱动轴带动与皮带轮5旋转，皮带轮5进一步带动传送带4运动，因为传送带4运动，故带动另一个皮带轮5和另一个转轴3旋转。

进一步地，参照图1，连续式等离子体处理设备还包括设置在反应腔1内部的等离子发射器14、喷射管15和喷射头16，等离子发射器14、喷射管15和喷射头16依次连接，喷射头16的出口朝向传送带4，喷射头16设置多个。等离子发射器14产生等离子体，经过喷射管15后，由喷射头16向传送带4所在方向喷射。传送带4携带的待处理材料进入喷射头16所辐射的喷射区，接触喷射头16喷射出的等离子体，等离子体对待处理材料的表面进行等离子体处理。

本实用新型连续式等离子体处理设备对待加工壳体进行灰尘清理的方法：

S1，将待加工壳体放在位于传送带4的导向架6上，传送带4运动带动导向架6运动，推动待加工壳体移动；

S2，启动毛刷10旋转和启动吸尘风机12，待加工壳体移动至毛刷10，启动电动推杆8推动毛刷10接触待加工壳体，毛刷10旋转清理待加工壳体的表面灰尘；启动吸尘风机12对反应腔1内部进行吸尘处理；

S3，待加工壳体继续移动，经过吸尘口13的待加工壳体表面的灰尘颗粒被吸尘风机12吸附。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种连续式等离子体处理设备，其特征在于，包括反应腔(1)、传送架(2)、传送带(4)、皮带调节机构和除尘机构；

所述皮带调节机构包括弹簧(17)、限制槽(18)、限制轮(19)和支撑架(20)；所述限制槽(18)设置在所述传送架(2)上，通过所述弹簧(17)，所述支撑架(20)与所述限制槽(18)连接；所述支撑架(20)上连接所述限制轮(19)且所述限制轮(19)绕自身转轴旋转；所述传送架(2)上的所述传送带(4)紧贴所述限制轮(19)的外壁，且所述传送带(4)设置在所述限制槽(18)和所述限制轮(19)之间；

所述除尘机构包括毛刷(10)和吸尘风机(12)；所述毛刷(10)设置在所述反应腔(1)外，所述吸尘风机(12)设置在所述反应腔(1)内。

2.根据权利要求1所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，所述皮带调节机构设置多组。

3.根据权利要求1所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，所述除尘机构还包括电动推杆(8)和与所述电动推杆(8)连接的连接架(9)；

所述电动推杆(8)固定在所述反应腔(1)的外壁，所述毛刷(10)连接在所述连接架(9)上。

4.根据权利要求1-3任意一项所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，所述除尘机构还包括第二电机(11)，所述第二电机(11)与所述毛刷(10)连接。

5.根据权利要求4所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，所述吸尘风机(12)包括吸尘口(13)；所述吸尘口(13)朝向所述传送带(4)设置。

6.根据权利要求5所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，还包括导向架(6)，所述导向架(6)随所述传送带(4)移动。

7.根据权利要求6所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，所述导向架(6)包括竖向调节件(61)和横向调节件(62)，所述竖向调节件(61)与所述横向调节件(62)可拆卸连接。

8.根据权利要求7所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，所述导向架(6)还包括挡板(63)；

沿所述传送带(4)的运动方向，所述挡板(63)设置在所述传送带(4)的两侧。

9.根据权利要求8所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，所述挡板(63)的顶端与所述竖向调节件(61)可拆卸连接。

10.根据权利要求1-3、5-9任意一项所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，还包括设置在所述反应腔(1)内部且依次连接的等离子发射器(14)、喷射管(15)和喷射头(16)，所述喷射头(16)的出口朝向所述传送带(4)。