CN221094261U - 磁控溅射镀膜固定装置 - Google Patents
磁控溅射镀膜固定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN221094261U CN221094261U CN202322758259.XU CN202322758259U CN221094261U CN 221094261 U CN221094261 U CN 221094261U CN 202322758259 U CN202322758259 U CN 202322758259U CN 221094261 U CN221094261 U CN 221094261U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- coating
- magnetron sputtering
- box
- conical teeth
- rotating rod
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 88
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 88
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- 238000005507 spraying Methods 0.000 abstract description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本实用新型公开了磁控溅射镀膜固定装置，包括镀膜箱和支撑架，镀膜箱前端设有箱门，镀膜箱内部设置有溅射器和磁体，镀膜箱内部设有两组镀膜架，镀膜架下端设有靶材架，靶材架下端设有转动杆，镀膜箱外侧设有驱动电机，转动杆一端与驱动电机相连接，转动杆两端设有第一锥形齿，第一锥形齿上端设有调节机构；调节机构包括两组丝杆，丝杆下端设有第二锥形齿，第二锥形齿与第一锥形齿啮合连接，丝杆中央设有调节块，调节块与丝杆螺纹连接，调节块两端设置有支撑杆，支撑杆上端与靶材架相连接。本实用新型中，通过设置调节机构，方便调节靶材与待涂膜片之间距离，使靶材与待涂膜片之间距离更加合理，避免涂层厚度不均匀，提升喷涂效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及磁控溅射镀膜技术领域，特别涉及磁控溅射镀膜固定装置。
背景技术
磁控溅射镀膜是一种常见的表面涂层技术，用于在各种材料上形成薄膜，它通过将固体材料置于真空室中，然后利用带有磁场的电子束激活靶材表面的原子或分子，使其从靶材上脱落，并以高速沉积在待涂物表面上，形成一层薄膜覆盖层。
现有的磁控溅射镀膜固定装置，在对靶材固定过程中，不便于调节靶材与待涂膜片之间的距离，容易造成靶材与待涂膜片距离不合理，容易造成涂层的厚度不均匀，影响喷涂效果，为此，我们提出磁控溅射镀膜固定装置。
实用新型内容
本实用新型的主要目的在于提供磁控溅射镀膜固定装置，可以有效解决背景技术中的技术问题。
为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：磁控溅射镀膜固定装置，包括镀膜箱和支撑架，镀膜箱前端设有箱门，镀膜箱内部设置有溅射器和磁体，镀膜箱内部设有两组镀膜架，镀膜架下端设有靶材架，靶材架下端设有转动杆，镀膜箱一端固定连接有真空管，镀膜箱外侧设有驱动电机，转动杆一端与驱动电机相连接，转动杆两端设有第一锥形齿，第一锥形齿上端设有调节机构；调节机构包括两组丝杆，丝杆下端设有第二锥形齿，第二锥形齿与第一锥形齿啮合连接，丝杆中央设有调节块，调节块与丝杆螺纹连接，调节块两端设置有支撑杆，支撑杆上端与靶材架相连接。
进一步地，支撑杆为条形杆，两组支撑杆呈V字形倾斜安装。
进一步地，丝杆上端设置有伸缩弹簧，伸缩弹簧上端与靶材架固定连接。
进一步地，丝杆外侧套接有支撑条，支撑条与镀膜箱内壁固定连接。
进一步地，镀膜架为半圆形板，镀膜架一端与镀膜箱固定连接，两组镀膜架之间预留有放置间隙。
进一步地，转动杆安装方向与靶材架相平行。
进一步地，转动杆两端与镀膜箱内壁转动连接。
有益效果
本实用新型提供了磁控溅射镀膜固定装置，具备以下有益效果：通过设置调节机构，方便调节靶材与待涂膜片之间距离，使靶材与待涂膜片之间距离更加合理，避免涂层厚度不均匀，提升喷涂效果。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型的实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图做简单的介绍。
图1为本实用新型整体结构示意图；
图2为本实用新型内部结构剖析示意图；
图3为本实用新型调节机构结构示意图。
图例说明：
1、镀膜箱；2、支撑架；3、箱门；4、溅射器；5、磁体；6、镀膜架；7、靶材架；8、调节机构；9、驱动电机；10、转动杆；11、第一锥形齿；12、真空管；13、丝杆；14、第二锥形齿；15、调节块；16、支撑杆；17、伸缩弹簧。
具体实施方式
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。
实施例1：磁控溅射镀膜固定装置，如图1-图2所示，包括镀膜箱1，镀膜箱1为中空壳体，镀膜箱1下端设置有四组支撑架2，镀膜箱1前端设置有箱门3，箱门3一端与镀膜箱1活动连接，镀膜箱1内部底端通过螺栓固定安装有溅射器4，溅射器4通过导线与外界供电端线性连接，溅射器4外侧设置有磁体5，磁体5下端与镀膜箱1固定连接，镀膜箱1内部设置有两组镀膜架6，镀膜架6为半圆形板，两组镀膜架6对称安装在镀膜箱1内部两侧，镀膜架6一端与镀膜箱1内壁固定连接，两组镀膜架6之间预留放置镀膜的间隙，镀膜架6下端设置有靶材架7，靶材架7为环形板，靶材架7外形与镀膜箱1内壁相适配，靶材架7滑动安装在镀膜箱1内部，靶材架7内部设置有便于电子束穿过的间隙，靶材架7下端设置有转动杆10，转动杆10安装方向与靶材架7相平行，转动杆10两端与镀膜箱1内壁转动连接，转动杆10安装在溅射器4上端，镀膜箱1外侧相对于转动杆10的位置设置有驱动电机9，驱动电机9通过导线与电源线性连接，转动杆10一端穿过镀膜箱1侧壁与驱动电机9输出端固定连接，转动杆10两端固定连接有第一锥形齿11，驱动电机9输出端可以通过转动杆10带动第一锥形齿11转动，第一锥形齿11上端设置有调节机构8，随着第一锥形齿11转动可以通过调节机构8带动靶材架7进行上下移动，镀膜箱1一端固定连接有真空管12，真空管12一端与镀膜箱1内部空腔相连通。
实施例2：磁控溅射镀膜固定装置，在实施例一的基础上如图1-图3所示，调节机构8包括两组丝杆13，丝杆13垂直安装在第一锥形齿11上端，丝杆13下端固定连接有第二锥形齿14，第二锥形齿14与第一锥形齿11啮合连接，丝杆13外侧套接有支撑条，支撑条与丝杆13活动连接，支撑条一端与镀膜箱1内壁固定连接，丝杆13中央设置有调节块15，调节块15与丝杆13螺纹连接，调节块15两端分别设置有支撑杆16，支撑杆16为条形杆，支撑杆16呈倾斜安装，两组支撑杆16呈V字形倾斜安装，支撑杆16上端与靶材架7活动连接，支撑杆16下端与调节块15活动连接，丝杆13上端设置有伸缩弹簧17，伸缩弹簧17上端与靶材架7固定连接。
需要说明的是，本实用新型为磁控溅射镀膜固定装置，在使用时，打开箱门3，将靶材放置在靶材架7上端，将镀膜片放置在镀膜架6上端，然后启动驱动电机9电源，驱动电机9输出端通过转动杆10带动第一锥形齿11转动，第一锥形齿11在转动过程中通过啮合连接的第二锥形齿14带动丝杆13转动，丝杆13在转动过程中，带动调节块15移动，调节块15在移动过程中，通过支撑杆16推动靶材架7上端的靶材调节与镀膜片的距离，伸缩弹簧17可以是靶材架7滑动更加平稳，提调节完毕后，然后合上箱门3，将箱门3密封闭合，然后将真空泵管道与真空管12相连接，通过真空管12将镀膜箱1内部空腔抽取物真空，然后启动溅射器4电源，溅射器4产生的电子束穿过靶材架7撞击靶材架7上端的靶材，对镀膜片进行镀膜。通过设置调节机构8，方便调节靶材与待涂膜片之间距离，使靶材与待涂膜片之间距离更加合理，避免涂层厚度不均匀，提升喷涂效果。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (7)
1.磁控溅射镀膜固定装置，包括镀膜箱(1)和支撑架(2)，镀膜箱(1)前端设有箱门(3)，镀膜箱(1)内部设置有溅射器(4)和磁体(5)，镀膜箱(1)内部设有两组镀膜架(6)，镀膜架(6)下端设有靶材架(7)，其特征在于：所述靶材架(7)下端设有转动杆(10)，所述镀膜箱(1)一端固定连接有真空管(12)，所述镀膜箱(1)外侧设有驱动电机(9)，转动杆(10)一端与驱动电机(9)相连接，转动杆(10)两端设有第一锥形齿(11)，第一锥形齿(11)上端设有调节机构(8)；所述调节机构(8)包括两组丝杆(13)，所述丝杆(13)下端设有第二锥形齿(14)，第二锥形齿(14)与第一锥形齿(11)啮合连接，所述丝杆(13)中央设有调节块(15)，调节块(15)与丝杆(13)螺纹连接，所述调节块(15)两端设置有支撑杆(16)，支撑杆(16)上端与靶材架(7)相连接。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜固定装置，其特征在于：所述支撑杆(16)为条形杆，两组支撑杆(16)呈V字形倾斜安装。
3.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜固定装置，其特征在于：所述丝杆(13)上端设置有伸缩弹簧(17)，伸缩弹簧(17)上端与靶材架(7)固定连接。
4.根据权利要求3所述的磁控溅射镀膜固定装置，其特征在于：所述丝杆(13)外侧套接有支撑条，支撑条与镀膜箱(1)内壁固定连接。
5.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜固定装置，其特征在于：所述镀膜架(6)为半圆形板，镀膜架(6)一端与镀膜箱(1)固定连接，两组镀膜架(6)之间预留有放置间隙。
6.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜固定装置，其特征在于：所述转动杆(10)安装方向与靶材架(7)相平行。
7.根据权利要求6所述的磁控溅射镀膜固定装置，其特征在于：所述转动杆(10)两端与镀膜箱(1)内壁转动连接。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202322758259.XU CN221094261U (zh) | 2023-10-16 | 2023-10-16 | 磁控溅射镀膜固定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202322758259.XU CN221094261U (zh) | 2023-10-16 | 2023-10-16 | 磁控溅射镀膜固定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN221094261U true CN221094261U (zh) | 2024-06-07 |
Family
ID=91313062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202322758259.XU Active CN221094261U (zh) | 2023-10-16 | 2023-10-16 | 磁控溅射镀膜固定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN221094261U (zh) |
-
2023
- 2023-10-16 CN CN202322758259.XU patent/CN221094261U/zh active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101634012B (zh) | 一种用于表面防护的离子束辅助磁控溅射沉积方法 | |
| CN221094261U (zh) | 磁控溅射镀膜固定装置 | |
| CN109182991B (zh) | 一种适用于共形基底表面镀膜的磁控溅射镀膜装置相对运动机构及其镀膜方法 | |
| CN110128022B (zh) | 一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置 | |
| CN110592547A (zh) | 一种方向性可控的磁控溅射镀膜装置 | |
| CN208034977U (zh) | 一种预制混凝土构件模具的混凝土浇注装置 | |
| CN206599606U (zh) | 一种实现五面镀膜的蒸发镀膜机 | |
| CN111647867A (zh) | 一种真空镀膜机磁控溅射控制机构 | |
| CN208087760U (zh) | 一种用于往复移动阴极的旋转电铸挂具 | |
| CN1306061C (zh) | 一种平面磁控溅射－多工位镀膜装置 | |
| CN220537896U (zh) | 一种真空磁控镀膜装置 | |
| CN215593181U (zh) | 一种可连续镀膜的真空镀膜机 | |
| CN109680250A (zh) | 一种电弧离子源及电弧离子源镀膜方法 | |
| CN210620930U (zh) | 一种高效磁控溅射真空镀膜机 | |
| CN212051626U (zh) | 一种旋转靶超声涂铟设备 | |
| CN221275871U (zh) | 一种多功能磁控溅射镀膜机 | |
| CN116536636A (zh) | 一种真空磁控镀膜生产线及其镀膜系统 | |
| CN204138757U (zh) | 离子溅射镀膜机 | |
| CN215976017U (zh) | 一种提高磁控溅射靶材利用率的装置 | |
| CN217628596U (zh) | 一种挡板可调节的镀膜设备 | |
| CN217077773U (zh) | 一种双离子束共溅射纳米膜装置 | |
| CN108277468B (zh) | 一种带真空机械臂的磁控溅射光学镀膜设备及镀膜方法 | |
| CN219449847U (zh) | 一种具有柱状电弧镀膜源的卧式真空镀膜器 | |
| CN217756085U (zh) | 一种烫金纸生产用成卷装置 | |
| CN203049026U (zh) | 一种低温低损伤多功能复合镀膜的装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |