CN212051626U - 一种旋转靶超声涂铟设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种旋转靶超声涂铟设备,超声涂铟设备包括有高温箱以及分别设置在高温箱相对两侧的超声发生装置。高温箱内设置有用于带动旋转靶绕其轴线自转的支承辊装置,支承辊装置包括有两个对称设置的支承辊以及转动驱动装置,转动驱动装置传动连接至少一支承辊;高温箱相对的两侧分别设置有一开口,两个超声发生装置分别活动设置有一超声涂杆,两个超声涂杆分别穿插于相应的开口,并且超声涂杆的端部活动延伸至旋转靶的内腔;两个超声涂杆分别与支承辊装置协同进行涂铟配合。本超声涂铟设备通过超声涂杆和支承辊带动旋转靶作转动涂铟,涂铟均匀,提高成品焊合率。
Description
技术领域
本实用新型涉及靶材加工设备技术领域,尤其是涉及一种旋转靶超声涂铟设备。
背景技术
旋转靶才的绑定工艺是指,在靶材与背管之间浇筑熔融的金属焊料,使靶材与背管之间实现焊接固定。因为ITO是一种N型氧化物半导体,作为常用焊料的氧化铟的入侵率底,常规的浇筑绑定方法容易使背管变形,良品率底。所以,在靶材与背管进行浇筑绑定前,需要对ITO的绑定面进行金属化预处理。在现有技术中,常常通过人工方法,对ITO内侧的绑定面进行金属化处理,这种处理办法存在着,铟层涂抹不均匀,金属化程度不一,且生产效率低,操作难度大。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的是提供一种旋转靶超声涂铟设备,对旋转靶才内侧的绑定面进行半自动超声涂铟,使铟层内侧的绑定面能够进行均匀稳定的金属化预处理,提高铟层性能的均匀性以及绑定层的焊合率,成品率高。
为了实现上述目的,本实用新型所采用的技术方案是:一种旋转靶超声涂铟设备,超声涂铟设备包括有高温箱以及分别设置在高温箱相对两侧的超声发生装置。高温箱内设置有用于带动旋转靶绕其轴线自转的支承辊装置,支承辊装置包括有两个对称设置的支承辊以及转动驱动装置,转动驱动装置传动连接至少一支承辊;高温箱相对的两侧分别设置有一开口,两个超声发生装置分别活动设置有一超声涂杆,两个超声涂杆分别穿插于相应的开口,并且超声涂杆的端部活动延伸至旋转靶的内腔;两个超声涂杆分别与支承辊装置协同进行涂铟配合。
在进一步的技术方案中,高温箱设置有温度控制电路、发热装置和温度监测装置,发热装置和温度监测装置分别电连接于温度控制电路。
在进一步的技术方案中,发热装置设置有至少一发热部,发热部固定于高温箱的内腔的顶面和/或底面;温度监测装置包括有多个设置于高温箱内腔的温度监测元件,各温度监测元件分别沿支承辊的轴线方向间隔分布设置。
在进一步的技术方案中,支承辊的辊面沿其轴线方向间隔设置有多个由耐高温材料所制的环枕,在同一支承辊的各个环枕的厚度相同。
在进一步的技术方案中,在高温箱相对的两侧分别设置有进出调节机构,进出调节机构包括有底座、进出调节导轨、滑座和进出驱动电机。底座固定于高温箱相应的一侧,底座安装有一进出调节丝杆;进出调节导轨固定于底座,进出调节导轨沿支承辊的轴线方向设置;滑座安装于进出调节导轨,超声发生装置安装于滑座,滑座设置有一进出调节丝杆副,进出调节丝杆副与进出调节丝杆相连接,超声发生装置安装于滑座;进出驱动电机固定于底座的外侧端部,进出驱动电机具有一输出轴,输出轴通过一联轴器连接进出调节丝杆。
在进一步的技术方案中,滑座设置有横向调节机构,横向调节机构包括一横向调节座,横向调节座设置有一光杆和横向调节导轨,光杆和横向调节导轨相平行,且垂直进出调节导轨,超声发生装置分别滑动连接光杆和横向调节导轨。
在进一步的技术方案中,横向调节座设置有垂直导轨座,垂直导轨座设有垂直导轨和摆动驱动结构,垂直导轨安装有一摆动调节底座,摆动驱动结构连接摆动调节底座。超声发生装置包括有一超声发生单元和超声涂杆,超声涂杆连接超声发生单元的一端,超声发生单元的另一端伸缩设置有一伸缩连杆,伸缩连杆与超声涂杆同轴设置,伸缩连杆的端部转动连接光杆;超声发生单元的固接有一转动连杆,转动连杆与伸缩连杆相垂直,转动连杆转动连接摆动调节底座。
在进一步的技术方案中,摆动驱动结构包括一摆动驱动电机和摆动调节丝杆,摆动驱动电机固定于横向调节座的顶部,摆动驱动电机具有一输出轴;摆动调节丝杆转动设置于横向调节座,摆动驱动电机的输出轴通过一联轴器连接摆动调节丝杆;摆动调节底座设置有一摆动调节丝杆副,摆动调节丝杆副与摆动调节丝杆相连接。
在进一步的技术方案中,转动连杆的端部焊接有一抱环,抱环套设于超声发生单元,抱环断开处通过螺栓连接。
在进一步的技术方案中,超声涂杆的端部成型设置有弧形的涂抹部,涂抹部与放置于支承辊的旋转靶的内腔壁活动抵顶配合。
采用上述结构后,本实用新型和现有技术相比所具有的优点是:
1、本超声涂铟设备通过高温箱两侧的超声发生装置的超声涂杆与支承辊装置进行转动涂铟配合,以实现自动涂铟,免除人工超声涂铟,涂铟效率高,铟层均匀,提高旋转靶预处理层的均匀性以及绑定层的焊合率,继而提高旋转靶的成品率。
2、本超声涂铟设备通过在高温箱内设置温度监测装置,并通过温度控制电路对发热装置的发热功率进行大小调控,使高温箱内保持稳定的箱内高温,从而使旋转靶能够在设定的预处理温度进行自动涂铟,进一步提高铟层性能的均匀性。
3、本超声涂铟设备通过左右进出调节机构对高温箱两侧的超声发生装置分别进行远离和靠近高温箱的驱动调节,使相应的超声涂杆对旋转靶进行一进一退的超声涂铟配合,涂铟效率高,且确保铟层能够布满旋转靶的内腔壁。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的结构示意图。
图2是本实用新型的超声发生装置的结构示意图。
图3是本实用新型的高温箱的结构示意图。
图中:
10-高温箱、100-高温内腔、101-主动支承辊、1011-环枕、102-被动支承辊、103-发热部、104-开口、11-进出调节机构、1101-底座、1102-进出调节导轨、1103-进出调节丝杆、1104-滑座、1105-进出驱动电机、1106-横向调节座、1107-横向调节导轨、1108-光杆、1109-垂直导轨座、1110-垂直导轨、1111-摆动调节丝杆、1112-摆动调节底座、1113-摆动连接座、1114-摆动驱动电机、1115-超声发生单元、1116-超声涂杆、1117-涂抹部、1118-转动连杆、1119-伸缩连杆、9-旋转靶。
具体实施方式
以下仅为本实用新型的较佳实施例,并不因此而限定本实用新型的保护范围。
一种旋转靶超声涂铟设备,如图1至图3所示,超声涂铟设备包括有高温箱10以及分别设置在高温箱10相对两侧的超声发生装置。高温箱10为中空设置,高温箱10内设置有高温内腔100,高温内腔100内设置有用于带动旋转靶绕其轴线自转的支承辊装置,支承辊装置包括有两个对称设置的支承辊以及转动驱动装置,转动驱动装置传动连接至少一支承辊;高温箱10相对的两侧分别设置有一开口104,两个超声发生装置分别活动设置有一超声涂杆1116,两个超声涂杆1116分别穿插于相应的开口104,并且超声涂杆1116的端部活动延伸至旋转靶的内腔;两个超声涂杆1116分别与支承辊装置协同进行涂铟配合。本超声涂铟设备通过两个支承辊带动旋转靶9进行绕其轴线的自转,从而实现超声涂杆1116对旋转靶9内腔壁进行转动涂铟。免除人工涂铟,提高涂铟效率,避免人为失误而导致产品残次。两个支承辊其中一个为主动支承辊101,主动支承辊101与转动驱动装置相连,另一个则为被动支承辊103,仅作跟随转动,无动力源。旋转靶9的自转速度由转动驱动装置驱动控制。优选地,旋转靶9的自转速度为每分钟转动1~2圈。
具体地,高温箱10设置有温度控制电路、发热装置和温度监测装置,发热装置和温度监测装置分别电连接于温度控制电路。高温箱10为旋转靶9提供预处理热环境,使铟在保持在熔融状态进行超声涂筑。为避免铟过度挥发并保持相对稳定的熔融物理性质。对涂铟环境要求较高,温度控制电路则能够保证高温内腔100内保持120~150摄氏度。涂抹温度视乎涂抹转速而定,涂抹转速越快,则高温内腔100的涂抹温度越高。
具体地,发热装置设置有至少一发热部103,发热部103固定于高温箱10的内腔的底面;温度监测装置包括有多个设置于高温箱10内腔的温度监测元件,各温度监测元件分别沿支承辊的轴线方向间隔分布设置。
具体地,支承辊的辊面沿其轴线方向间隔设置有多个由耐高温材料所制的环枕1011,在同一支承辊的各个环枕1011的厚度相同。两个支承辊之间有设定间距,以提高旋转靶9的转动稳定性,保证旋转靶9能够进行同心度较高的自转运动,保证涂铟工作顺利进行及铟层的均匀性。
具体地,在高温箱10相对的两侧分别设置有进出调节机构11,进出调节机构11包括有底座1101、进出调节导轨1102、滑座1104和进出驱动电机1105。底座1101固定于高温箱10相应的一侧,底座1101安装有一进出调节丝杆1103;进出调节导轨1102固定于底座1101,进出调节导轨1102沿支承辊的轴线方向设置;滑座1104安装于进出调节导轨1102,超声发生装置安装于滑座1104,滑座1104设置有一进出调节丝杆副,进出调节丝杆副与进出调节丝杆1103相连接,超声发生装置安装于滑座1104;进出驱动电机1105固定于底座1101的外侧端部,进出驱动电机1105具有一输出轴,输出轴通过一联轴器连接进出调节丝杆1103。该结构通过丝杆驱动结构使超声发生装置的超声涂杆1116能够进行进出运动,实现超声涂杆1116以一设定的匀速进行进出运动,对旋转靶9内腔壁由内向外以及由外向内进行均匀涂铟,保证铟层内外均匀性,以及铟层的性能稳定性。
具体地,横向调节座1106设置有垂直导轨座1109,垂直导轨座1109设有垂直导轨1110和摆动驱动结构,垂直导轨1110安装有一摆动调节底座1112,摆动驱动结构连接摆动调节底座1112,超声发生装置包括有一超声发生单元1115和超声涂杆1116,超声涂杆1116连接超声发生单元1115的一端,超声发生单元1115的另一端伸缩设置有一伸缩连杆1119,伸缩连杆1119与超声涂杆1116同轴设置,伸缩连杆1119的端部转动连接光杆1108;超声发生单元1115的固接有一转动连杆1118,转动连杆1118与伸缩连杆1119相垂直,转动连杆1118转动连接摆动调节底座1112上的摆动连接座的转孔,以实现摆动调节底座1112带动超声发生装置绕光杆1108作摆动运动。该结构实现超声涂杆1116作上下方向的摆动,实现涂铟点的始点和终点的控制,保证涂铟均匀。另外,这种由丝杆驱动结构驱动的摆动结构,能够使控制超声作用的抵顶压力,能够适用于不同材质的超声涂铟预处理,避免刮坏靶材内腔壁,保证绑定层结构的均匀性。
具体地,摆动驱动结构包括一摆动驱动电机1114和摆动调节丝杆1111,摆动驱动电机1114固定于横向调节座1106的顶部,摆动驱动电机1114具有一输出轴;摆动调节丝杆1111转动设置于横向调节座1106,摆动驱动电机1114的输出轴通过一联轴器连接摆动调节丝杆1111;摆动调节底座1112设置有一摆动调节丝杆副,摆动调节丝杆副与摆动调节丝杆1111相连接。
具体地,滑座1104设置有横向调节机构,横向调节机构包括一横向调节座1106,横向调节座1106设置有一光杆1108和横向调节导轨1107,光杆1108和横向调节导轨1107相平行,且垂直进出调节导轨1102,超声发生装置分别滑动连接光杆1108和横向调节导轨1107。该结构实现超声装置横向方向的手动调节以及自适应调节,在超声涂杆1116的摆动应力作用下,超声装置自适应横向移动至相应位置,使超声涂杆1116的涂抹部1117位于旋转靶9内腔壁的最低点,提高涂抹精度,使旋转靶9内腔壁的各处的超声作用时间相对平均,进一步提高了铟层性能的均匀性。
具体地,超声涂杆1116的端部成型设置有弧形的涂抹部1117,涂抹部1117与放置于支承辊的旋转靶的内腔壁活动抵顶配合,涂抹部1117对旋转靶9内侧的绑定面进行超声作用,是熔融态的铟料能够很好地入侵旋转靶9的绑定面。
具体地,转动连杆1118的端部焊接有一抱环,抱环套设于超声发生单元1115,抱环断开处通过螺栓连接。这种可拆卸的安装结构,能够方便更换不同型号的超声发生单元1115进行工装换装,以适用不同生产要求。
以上内容仅为本实用新型的较佳实施例,对于本领域的普通技术人员,依据本实用新型的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。
Claims (10)
1.一种旋转靶超声涂铟设备,其特征在于:超声涂铟设备包括有高温箱(10)以及分别设置在高温箱(10)相对两侧的超声发生装置,
高温箱(10)内设置有用于带动旋转靶绕其轴线自转的支承辊装置,支承辊装置包括有两个对称设置的支承辊以及转动驱动装置,转动驱动装置传动连接至少一支承辊;
高温箱(10)相对的两侧分别设置有一开口(104),两个超声发生装置分别活动设置有一超声涂杆(1116),两个超声涂杆(1116)分别穿插于相应的开口(104),并且超声涂杆(1116)的端部活动延伸至旋转靶的内腔;
两个超声涂杆(1116)分别与支承辊装置协同进行涂铟配合。
2.根据权利要求1所述的一种旋转靶超声涂铟设备,其特征在于:所述高温箱(10)设置有温度控制电路、发热装置和温度监测装置,发热装置和温度监测装置分别电连接于温度控制电路。
3.根据权利要求2所述的一种旋转靶超声涂铟设备,其特征在于:所述发热装置设置有至少一发热部(103),发热部(103)固定于所述高温箱(10)的内腔的顶面和/或底面;
温度监测装置包括有多个设置于高温箱(10)内腔的温度监测元件,各温度监测元件分别沿所述支承辊的轴线方向间隔分布设置。
4.根据权利要求3所述的一种旋转靶超声涂铟设备,其特征在于:所述支承辊的辊面沿其轴线方向间隔设置有多个由耐高温材料所制的环枕(1011),在同一支承辊的各个环枕(1011)的厚度相同。
5.根据权利要求1所述的一种旋转靶超声涂铟设备,其特征在于:在所述高温箱(10)相对的两侧分别设置有进出调节机构(11),进出调节机构(11)包括有底座(1101)、进出调节导轨(1102)、滑座(1104)和进出驱动电机(1105),
底座(1101)固定于高温箱(10)相应的一侧,底座(1101)安装有一进出调节丝杆(1103);
进出调节导轨(1102)固定于底座(1101),进出调节导轨(1102)沿所述支承辊的轴线方向设置;
滑座(1104)安装于进出调节导轨(1102),所述超声发生装置安装于滑座(1104),滑座(1104)设置有一进出调节丝杆副,进出调节丝杆副与进出调节丝杆(1103)相连接;
进出驱动电机(1105)固定于底座(1101)的外侧端部,进出驱动电机(1105)具有一输出轴,输出轴通过一联轴器连接进出调节丝杆(1103)。
6.根据权利要求5所述的一种旋转靶超声涂铟设备,其特征在于:所述滑座(1104)设置有横向调节机构,横向调节机构包括一横向调节座(1106),横向调节座(1106)设置有一光杆(1108)和横向调节导轨(1107),光杆(1108)和横向调节导轨(1107)相平行,且垂直所述进出调节导轨(1102),所述超声发生装置分别滑动连接光杆(1108)和横向调节导轨(1107)。
7.根据权利要求6所述的一种旋转靶超声涂铟设备,其特征在于:所述横向调节座(1106)设置有垂直导轨座(1109),垂直导轨座(1109)设有垂直导轨(1110)和摆动驱动结构,垂直导轨(1110)安装有一摆动调节底座(1112),摆动驱动结构连接摆动调节底座(1112),
所述超声发生装置包括有一超声发生单元(1115)和所述超声涂杆(1116),超声涂杆(1116)连接超声发生单元(1115)的一端,超声发生单元(1115)的另一端伸缩设置有一伸缩连杆(1119),伸缩连杆(1119)与超声涂杆(1116)同轴设置,伸缩连杆(1119)的端部转动连接所述光杆(1108);超声发生单元(1115)的固接有一转动连杆(1118),转动连杆(1118)与伸缩连杆(1119)相垂直,转动连杆(1118)转动连接摆动调节底座(1112)。
8.根据权利要求7所述的一种旋转靶超声涂铟设备,其特征在于:所述摆动驱动结构包括一摆动驱动电机(1114)和摆动调节丝杆(1111),摆动驱动电机(1114)固定于所述横向调节座(1106)的顶部,摆动驱动电机(1114)具有一输出轴;摆动调节丝杆(1111)转动设置于横向调节座(1106),摆动驱动电机(1114)的输出轴通过一联轴器连接摆动调节丝杆(1111);所述摆动调节底座(1112)设置有一摆动调节丝杆(1111)副,摆动调节丝杆(1111)副与摆动调节丝杆(1111)相连接。
9.根据权利要求8所述的一种旋转靶超声涂铟设备,其特征在于:所述转动连杆(1118)的端部焊接有一抱环,抱环套设于所述超声发生单元(1115),抱环断开处通过螺栓连接。
10.根据权利要求1所述的一种旋转靶超声涂铟设备,其特征在于:所述超声涂杆(1116)的端部成型设置有弧形的涂抹部(1117),涂抹部(1117)与放置于所述支承辊的旋转靶的内腔壁活动抵顶配合。
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CN202020277233.7U CN212051626U (zh) | 2020-03-09 | 2020-03-09 | 一种旋转靶超声涂铟设备 |
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Cited By (1)
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CN115612993A (zh) * | 2022-10-18 | 2023-01-17 | 江苏东玖光电科技有限公司 | 背管预涂铟设备 |
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2020
- 2020-03-09 CN CN202020277233.7U patent/CN212051626U/zh active Active
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