CN220537896U - 一种真空磁控镀膜装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及真空磁控镀膜技术领域，且公开了一种真空磁控镀膜装置，包括底座和镀膜系统，底座的底部固定安装有四个支撑腿，底座的顶部固定安装有真空箱，真空箱的正面铰接有密封门，真空箱的内部转动连接有放置盘，真空箱的顶部设置有供料装置，真空箱的顶部且位于供料装置的右侧固定安装有真空泵。该真空磁控镀膜生产线及其镀膜系统，通过底座的设置实现对真空箱进行安装，通过支撑腿的设置实现对底座进行支撑，通过真空箱的设置实现对物体进行放置，通过供料装置的设置实现对原料进行盛放，通过放置盘的设置实现对物体进行转动，从而实现对物体进行全面的镀膜，通过镀膜系统的设置实现对物体进行镀膜。

Description

一种真空磁控镀膜装置

技术领域

本实用新型涉及真空磁控镀膜技术领域，具体是一种真空磁控镀膜装置。

背景技术

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法，例如，真空镀铝、真空镀铬等。

物体为满足使用的需要往往会在其外侧进行真空镀膜，如专利号为CN208266263U公开的一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线，其通过包括传送台、隔断板和辊筒，所述传送台的上端安装有镀膜仓，且镀膜仓的上端连接有真空泵，所述隔断板设置于镀膜仓的内部，且隔断板的外侧安装有固定螺栓，所述隔断板的下端安置有空气隔离室，且空气隔离室的左右两端设置有气体放置室，所述气体放置室的外侧连接有外接气体管，所述辊筒设置于镀膜仓内部的下端，且辊筒的外侧连接有传送皮带，所述传送皮带的下端安装有伺服电机，所述传送台的下端设置有控制面板，且控制面板的左右两侧均设置有底座，所述底座的内部固定有连接凹槽，且连接凹槽的外侧连接有连接凸块，所述镀膜仓的外侧安置有检视窗，虽能实现对物体的镀膜，但是在实际的使用时往往待镀物质往往都是随机进行粘附的，其平整度不够，不能够满足使用需要。

为了解决上述问题，我们对此做出改进，提出一种真空磁控镀膜装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空磁控镀膜装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种真空磁控镀膜装置，包括底座和镀膜系统，所述底座的底部固定安装有四个支撑腿，所述底座的顶部固定安装有真空箱，所述真空箱的正面铰接有密封门，所述真空箱的内部转动连接有放置盘，所述真空箱的顶部设置有供料装置，所述真空箱的顶部且位于供料装置的右侧固定安装有真空泵；

所述供料装置包括固定安装于真空箱顶部的盛料箱和连通于盛料箱顶部的供料口，所述盛料箱底部的右侧连通有供料管，所述供料管的底部贯穿真空箱并延伸至底座的内部；

所述镀膜系统包括固定安装于真空箱内腔两侧的安装板、设置于安装板相对靠近一侧的安装杆、设置于真空箱内腔左侧安装杆右侧的强磁头和设置于真空箱内腔右侧安装杆左侧的喷料头，所述喷料头的顶部与供料管的底部连通。

作为本实用新型再进一步的方案：所述底座的底部固定安装有第一伺服电机，所述第一伺服电机的输出轴贯穿底座并与放置盘的底部固定连接。

作为本实用新型再进一步的方案：所述安装板相对靠近的一侧均开设有两个限位槽，所述限位槽的内部滑动连接有限位杆，所述限位杆的一侧与安装杆固定连接。

作为本实用新型再进一步的方案：所述安装板的内部开设有第一滑槽，所述第一滑槽的内部滑动连接有第一滑块，所述第一滑块的一侧与安装杆固定连接，所述真空箱的顶部固定安装有第二伺服电机。

作为本实用新型再进一步的方案：所述第二伺服电机的输出轴固定安装有第二螺纹杆，且第二螺纹杆贯穿至第一滑槽的内部并与第一滑块之间通过螺纹转动连接。

作为本实用新型再进一步的方案：所述安装杆的内部开设有第二滑槽，所述第二滑槽的内部滑动连接有第二滑块，所述第二滑块的一侧与喷料头和强磁头固定连接。

作为本实用新型再进一步的方案：所述安装杆的正面固定安装有第三伺服电机，所述第三伺服电机的输出轴固定安装有第一螺纹杆，所述第一螺纹杆贯穿至第二滑槽的内部并与第二滑块之间通过螺纹转动连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型通过底座的设置实现对真空箱进行安装，通过支撑腿的设置实现对底座进行支撑，通过真空箱的设置实现对物体进行放置，通过供料装置的设置实现对原料进行盛放，通过放置盘的设置实现对物体进行转动，从而实现对物体进行全面的镀膜，通过镀膜系统的设置实现对物体进行镀膜。

2、本实用新型通过第一伺服电机驱动放置盘带动物体转动，从而实现对物体进行全面的镀膜，通过限位槽和限位杆之间的配合实现对安装杆进行限位，增加安装杆的稳定，通过第一滑槽和第一滑块之间的配合实现对安装板进行限位，从而实现对安装板进行升降调节，通过第二伺服电机、第二螺纹杆和螺纹之间的配合实现对第一滑块进行升降调节，从而实现对安装杆进行升降调节带动强磁头和喷料头上升，实现对物体进行全面的镀膜，通过第二滑槽和第二滑块之间的配合实现对喷料头和强磁头进行安装，通过第一螺纹杆、第二滑块和第三伺服电机之间的配合实现对喷料头的纵向位置进行调节，从而实现对不同形状的物体进行镀膜。

附图说明

图1为一种真空磁控镀膜装置的结构示意图；

图2为一种真空磁控镀膜装置中正面结构示意图；

图3为一种真空磁控镀膜装置中等轴侧截面结构示意图；

图4为一种真空磁控镀膜装置中图3中A处放大结构示意图。

图中：1、底座；2、支撑腿；3、真空箱；4、真空泵；5、供料装置；51、盛料箱；52、供料口；53、供料管；6、镀膜系统；61、第二伺服电机；62、安装板；63、安装杆；64、第三伺服电机；65、强磁头；66、喷料头；67、限位槽；68、第一滑槽；69、限位杆；610、第一滑块；611、第一螺纹杆；612、第二滑槽；613、第二滑块；7、放置盘；8、密封门；9、第一伺服电机。

具体实施方式

请参阅图1-4，一种真空磁控镀膜装置，包括底座1和镀膜系统6，底座1的底部固定安装有四个支撑腿2，底座1的顶部固定安装有真空箱3，真空箱3的正面铰接有密封门8，真空箱3的内部转动连接有放置盘7，真空箱3的顶部设置有供料装置5，真空箱3的顶部且位于供料装置5的右侧固定安装有真空泵4；

供料装置5包括固定安装于真空箱3顶部的盛料箱51和连通于盛料箱51顶部的供料口52，盛料箱51底部的右侧连通有供料管53，供料管53的底部贯穿真空箱3并延伸至底座1的内部；

镀膜系统6包括固定安装于真空箱3内腔两侧的安装板62、设置于安装板62相对靠近一侧的安装杆63、设置于真空箱3内腔左侧安装杆63右侧的强磁头65和设置于真空箱3内腔右侧安装杆63左侧的喷料头66，喷料头66的顶部与供料管53的底部连通。

具体的，底座1的底部固定安装有第一伺服电机9，第一伺服电机9的输出轴贯穿底座1并与放置盘7的底部固定连接。

通过上述技术方案，通过第一伺服电机9驱动放置盘7带动物体转动，从而实现对物体进行全面的镀膜。

具体的，安装板62相对靠近的一侧均开设有两个限位槽67，限位槽67的内部滑动连接有限位杆69，限位杆69的一侧与安装杆63固定连接。

通过上述技术方案，通过限位槽67和限位杆69之间的配合实现对安装杆63进行限位，增加安装杆63的稳定。

具体的，安装板62的内部开设有第一滑槽68，第一滑槽68的内部滑动连接有第一滑块610，第一滑块610的一侧与安装杆63固定连接，真空箱3的顶部固定安装有第二伺服电机61。

通过上述技术方案，通过第一滑槽68和第一滑块610之间的配合实现对安装板62进行限位，从而实现对安装板62进行升降调节。

具体的，第二伺服电机61的输出轴固定安装有第二螺纹杆，且第二螺纹杆贯穿至第一滑槽68的内部并与第一滑块610之间通过螺纹转动连接。

通过上述技术方案，通过第二伺服电机61、第二螺纹杆和螺纹之间的配合实现对第一滑块610进行升降调节，从而实现对安装杆63进行升降调节带动强磁头65和喷料头66上升，实现对物体进行全面的镀膜。

具体的，安装杆63的内部开设有第二滑槽612，第二滑槽612的内部滑动连接有第二滑块613，第二滑块613的一侧与喷料头66和强磁头65固定连接。

通过上述技术方案，通过第二滑槽612和第二滑块613之间的配合实现对喷料头66和强磁头65进行安装。

具体的，安装杆63的正面固定安装有第三伺服电机64，第三伺服电机64的输出轴固定安装有第一螺纹杆611，第一螺纹杆611贯穿至第二滑槽612的内部并与第二滑块613之间通过螺纹转动连接。

通过上述技术方案，通过第一螺纹杆611、第二滑块613和第三伺服电机64之间的配合实现对喷料头66的纵向位置进行调节，从而实现对不同形状的物体进行镀膜。

本实用新型的工作原理是：将原料通过供料口52加注至盛料箱51的内部，通过密封门8的打开，将待镀膜的物体放置于放置盘7的顶部，并关闭密封门8，通过真空泵4将真空箱3内部的空气抽出使其内部呈真空状，通过供料管53将原料送入喷料头66的内部，通过喷料头66进行对其进行蒸发，同时通过强磁头65的作用将蒸发的物质进行吸引，从而使得蒸发的物质移动并粘附在物体的侧面，同时通过第一伺服电机9驱动放置盘7转动，从而实现物体的转动，实现对物体进行全面镀膜，同时通过第二伺服电机61带动第二螺纹杆转动，在螺纹的作用下使得第一滑块610上升，从而带动安装杆63、强磁头65和喷料头66上升，实现对物体进行垂直面的镀膜，通过第三伺服电机64驱动第一螺纹杆611转动，从而带动第二滑块613、喷料头66和强磁头65移动，实现对不同形状的物体进行镀膜。

以上所述的，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种真空磁控镀膜装置，包括底座(1)和镀膜系统(6)，其特征在于：所述底座(1)的底部固定安装有四个支撑腿(2)，所述底座(1)的顶部固定安装有真空箱(3)，所述真空箱(3)的正面铰接有密封门(8)，所述真空箱(3)的内部转动连接有放置盘(7)，所述真空箱(3)的顶部设置有供料装置(5)，所述真空箱(3)的顶部且位于供料装置(5)的右侧固定安装有真空泵(4)；

所述供料装置(5)包括固定安装于真空箱(3)顶部的盛料箱(51)和连通于盛料箱(51)顶部的供料口(52)，所述盛料箱(51)底部的右侧连通有供料管(53)，所述供料管(53)的底部贯穿真空箱(3)并延伸至底座(1)的内部；

所述镀膜系统(6)包括固定安装于真空箱(3)内腔两侧的安装板(62)、设置于安装板(62)相对靠近一侧的安装杆(63)、设置于真空箱(3)内腔左侧安装杆(63)右侧的强磁头(65)和设置于真空箱(3)内腔右侧安装杆(63)左侧的喷料头(66)，所述喷料头(66)的顶部与供料管(53)的底部连通。

2.根据权利要求1所述的一种真空磁控镀膜装置，其特征在于：所述底座(1)的底部固定安装有第一伺服电机(9)，所述第一伺服电机(9)的输出轴贯穿底座(1)并与放置盘(7)的底部固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种真空磁控镀膜装置，其特征在于：所述安装板(62)相对靠近的一侧均开设有两个限位槽(67)，所述限位槽(67)的内部滑动连接有限位杆(69)，所述限位杆(69)的一侧与安装杆(63)固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种真空磁控镀膜装置，其特征在于：所述安装板(62)的内部开设有第一滑槽(68)，所述第一滑槽(68)的内部滑动连接有第一滑块(610)，所述第一滑块(610)的一侧与安装杆(63)固定连接，所述真空箱(3)的顶部固定安装有第二伺服电机(61)。

5.根据权利要求4所述的一种真空磁控镀膜装置，其特征在于：所述第二伺服电机(61)的输出轴固定安装有第二螺纹杆，且第二螺纹杆贯穿至第一滑槽(68)的内部并与第一滑块(610)之间通过螺纹转动连接。

6.根据权利要求1所述的一种真空磁控镀膜装置，其特征在于：所述安装杆(63)的内部开设有第二滑槽(612)，所述第二滑槽(612)的内部滑动连接有第二滑块(613)，所述第二滑块(613)的一侧与喷料头(66)和强磁头(65)固定连接。

7.根据权利要求6所述的一种真空磁控镀膜装置，其特征在于：所述安装杆(63)的正面固定安装有第三伺服电机(64)，所述第三伺服电机(64)的输出轴固定安装有第一螺纹杆(611)，所述第一螺纹杆(611)贯穿至第二滑槽(612)的内部并与第二滑块(613)之间通过螺纹转动连接。