CN221039786U - 半自动双面曝光光刻机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于光刻机技术领域，公开了一种半自动双面曝光光刻机，包括机架，机架上设有平台，平台上设有升降机构、光源安装架、放料机构、取料机构、下料机构、对位机构和上料机构，对位机构上设有下掩模板机构，光源安装架上设有第一平行光源，升降机构上设有上掩模板机构，第一平行光源位于上掩模板机构上方，机架内设有第二平行光源，第二平行光源位于下掩模板机构下方。本实用新型所提供的半自动双面曝光光刻机，人工将硅片放到上料机构的载片台上，放料机构自动取片后放在下掩模板上，自动双面曝光，曝光后取料机构将硅片自动取出放在下料机构的载片台上，人工取硅片，重复上述循环即可实现半自动化的光刻作业。
Description
技术领域
本实用新型属于光刻机技术领域，具体涉及一种半自动双面曝光光刻机。
背景技术
光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，但目前大多数光刻机都采用手动取放硅片，导致硅片受到二次触碰，使其影响产品质量，对此需要进行改进。
实用新型内容
本实用新型旨在至少在一定程度上解决上述技术问题。为此，本实用新型目的在于提供一种半自动双面曝光光刻机。
本实用新型所采用的技术方案为：
一种半自动双面曝光光刻机，包括机架，机架上设有平台，平台上设有升降机构、光源安装架、放料机构、取料机构、下料机构、对位机构和上料机构，对位机构上设有下掩模板机构，光源安装架上设有第一平行光源，升降机构上设有上掩模板机构，第一平行光源位于上掩模板机构上方，机架内设有第二平行光源，第二平行光源位于下掩模板机构下方；下料机构和上料机构分别位于下掩模板机构的两侧，放料机构位于上料机构和下掩模板机构之间，取料机构位于下掩模板机构和下料机构之间。
优选地，所述平台上设有下料盒和上料盒，上料盒位于上料机构的一侧，下料盒位于下料机构的一侧。
优选地，所述平台上设有左操作面板和右操作面板，左操作面板和右操作面板分别位于光源安装架的两侧。
优选地，所述平台上设有镜头机构，镜头机构位于下掩模板机构的一侧；镜头机构与显示器电性连接。
本实用新型的有益效果为：
本实用新型所提供的半自动双面曝光光刻机，人工将硅片放到上料机构的载片台上，放料机构自动取片后放在下掩模板上，自动双面曝光，曝光后取料机构将硅片自动取出放在下料机构的载片台上，人工取硅片，重复上述循环即可实现半自动化的光刻作业，减少了人工与硅片的接触。
附图说明
图1是本实用新型半自动双面曝光光刻机的立体图。
图2是本实用新型半自动双面曝光光刻机的俯视图。
图3是本实用新型半自动双面曝光光刻机的正视图。
图中：1-机架；2-升降机构；3-光源安装架；4-第一平行光源；5-上掩模板机构；6-下掩模板机构；7-左操作面板；8-放料机构；9-取料机构；10-右操作面；11-显示器支架；12-下料机构；13-下料盒；14-镜头机构；15-上料盒；16-对位机构；17-上料机构；18-平台。
具体实施方式
下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。
下面结合附图和具体实施例对本实用新型进行进一步的说明。
如图1至图3所示，本实施例的半自动双面曝光光刻机，包括机架1，机架1为安装各部件的基础，机架1上设有平台18，平台18整体水平设置，平台18上设有升降机构2、光源安装架3、放料机构8、取料机构9、下料机构12、对位机构16和上料机构17，光源安装架3上设有第一平行光源4，升降机构2上设有上掩模板机构5，第一平行光源4位于上掩模板机构5上方，对位机构16上设有下掩模板机构6，机架1内设有第二平行光源，第二平行光源位于下掩模板机构6下方。
下料机构12和上料机构17分别位于下掩模板机构6的两侧，下料机构12和上料机构17均设有用于放置硅片的载片台，放料机构8位于上料机构17和下掩模板机构6之间，取料机构9位于下掩模板机构6和下料机构12之间。放料机构8和取料机构9均通过真空吸附盘实现硅片的抓取，并通过旋转单元驱动真空吸附盘实现硅片的转移。
平台18上设有左操作面板7、右操作面板10、下料盒13和上料盒15，上料盒15位于上料机构17的一侧，下料盒13位于下料机构12的一侧。左操作面板7和右操作面板10分别位于光源安装架3的两侧，操作面板7和右操作面板10上设有电气按钮。
平台18上设有显示器支架11和镜头机构14，镜头机构14位于下掩模板机构6的一侧，显示器支架11上安装有与镜头机构14电性连接的显示器，显示器可以实时显示上掩模板机构5和下掩模板机构6的对位情况，便于观察进行对位。
上述的半自动双面曝光光刻机的操作流程如下：人工通过对位机构对上掩模板机构和下掩模板机构进行对位，对位完成后，升降机构自动升到位，人工将硅片从上料盒取出，放在上料机构的载片台上，放料机构自动取走上料机构上的硅片放在下掩模板机构上；升降机构自动降到位，进行自动双面曝光；升降机构再次自动升到位，取料机构自动取走下掩模板机构上的硅片，并将硅片放在下料机构的载片台上，人工取走下料机构上的硅片，放入下料盒。
本实用新型不局限于上述可选实施方式，任何人在本实用新型的启示下都可得出其他各种形式的产品，但不论在其形状或结构上作任何变化，凡是落入本实用新型权利要求界定范围内的技术方案，均落在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种半自动双面曝光光刻机，其特征在于：包括机架(1)，机架(1)上设有平台(18)，平台(18)上设有升降机构(2)、光源安装架(3)、放料机构(8)、取料机构(9)、下料机构(12)、对位机构(16)和上料机构(17)，对位机构(16)上设有下掩模板机构(6)，光源安装架(3)上设有第一平行光源(4)，升降机构(2)上设有上掩模板机构(5)，第一平行光源(4)位于上掩模板机构(5)上方，机架(1)内设有第二平行光源，第二平行光源位于下掩模板机构(6)下方；下料机构(12)和上料机构(17)分别位于下掩模板机构(6)的两侧，放料机构(8)位于上料机构(17)和下掩模板机构(6)之间，取料机构(9)位于下掩模板机构(6)和下料机构(12)之间。
2.根据权利要求1所述的半自动双面曝光光刻机，其特征在于：所述平台(18)上设有下料盒(13)和上料盒(15)，上料盒(15)位于上料机构(17)的一侧，下料盒(13)位于下料机构(12)的一侧。
3.根据权利要求1所述的半自动双面曝光光刻机，其特征在于：所述平台(18)上设有左操作面板(7)和右操作面板(10)，左操作面板(7)和右操作面板(10)分别位于光源安装架(3)的两侧。
4.根据权利要求1所述的半自动双面曝光光刻机，其特征在于：所述平台(18)上设有镜头机构(14)，镜头机构(14)位于下掩模板机构(6)的一侧；镜头机构(14)与显示器电性连接。
5.根据权利要求4所述的半自动双面曝光光刻机，其特征在于：所述平台(18)上设有显示器支架(11)，显示器安装在显示器支架(11)上。
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