CN220873537U - 一种基板单片清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种基板单片清洗装置，包括传输部，传输部包括对接设置的第一传输组件和第二传输组件；双面清洗部设置在第一传输组件和第二传输组件的对接处；两个推动部设置在传输部的两端；多个端面清洗部件间隔设置在第一传输组件的两侧；转向部设置在第二传输组件内，用以将位于第二传输组件内的基板升降后旋转90°，本实用新型先由端面清洗部件对基板的两端面清洗，再由双面清洗部对基板的正反两面清洗，然后由转向部将基板旋转90°后将基板从第二传输组件处传输至第一传输组件处，再由第一传输组件处的端面清洗部件对基板的另外两端面进行清洗，实现了一个腔室内对基板转向后即可对基板进行正反面和端面的清洗，清洗效率高，清洗时间短。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种清洗装置，尤其涉及一种用于基板单片的清洗装置。
背景技术
半导体是反复进行光刻、蒸镀及蚀刻等一系列工艺而制造出来的，由于反复的工艺，在构成这些半导体的基板的表面残存有各种颗粒、金属杂质或有机物等污染物，基板上残存的污染物会使得制造出来的半导体的可靠性降低，因此为了改善这一现象，在半导体制造工艺中要求进行清洗基板的工艺。
现有基板的清洗方式如图1所示，首先利用喷嘴24配合端面刷21对基板6的两端面进行清洗，然后再利用喷嘴24配合表面刷22对基板6的一个表面进行清洗，接着通过反转机构将基板反转后，再对基板的另一面以及另外两个端面进行清洗，整个清洗过程中需要对基板进行翻转后才能将基板清洗完整，从而导致清洗的时间较长，生产效率低，不符合企业的加工要求。
实用新型内容
本实用新型目的是为了克服现有技术的不足而提供一种基板单片清洗装置，清洗的时间短，生产效率高。
为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种基板单片清洗装置，包括：
传输部，所述传输部包括对接设置的第一传输组件和第二传输组件，用以对基板进行传输；
双面清洗部，设置在所述第一传输组件和第二传输组件的对接处，用以对基板的双面同时进行清洗；
推动部，两个所述推动部设置在所述传输部的两端，用以将基板进行不同方向推动后分别使基板在所述第一传输组件和第二传输组件上进行传输；
端面清洗部件，多个所述端面清洗部件间隔设置在所述第一传输组件的两侧内，用以对基板的两侧端面进行清洗；
转向部，设置在所述第二传输组件内，用以将位于所述第二传输组件内的基板升降后旋转，使得基板另两侧端面位于所述端面清洗部件的延长线上。
进一步的，所述第一传输组件和第二传输组件的结构相同；所述第一传输组件包括两组相对设置的传输机构，每组所述传输机构包括直线分布的多个可自转的滚轮。
进一步的，所述双面清洗部包括上下相对设置的两个滚刷，所述滚刷的外表面上设有多个凸出的清洗块。
进一步的，所述推动部为通过驱动机构可前后推动的推动杆。
进一步的，所述端面清洗部件为设置在第一传输组件内的侧面滚刷，且所述侧面滚刷紧贴所述基板的端面。
进一步的，所述转向部包括用于限位基板的多个导向销，多个所述导向销的底部通过支撑板相连，所述支撑板经由升降气缸驱动，所述升降气缸设置在旋转电机上。
由于上述技术方案的运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：
本实用新型的基板单片清洗装置，清洗过程时，先由第一传输组件处的侧面滚刷对基板的两端面清洗，再由双面清洗部对基板的正反两面清洗，然后由转向部将基板旋转90°后将基板从第二传输组件处传输至第一传输组件处，再由第一传输组件处的侧面滚刷对基板的另外两端面进行清洗，从而实现了在一个腔室内对基板转向后即可对基板进行正反面和端面的清洗，清洗效率高，清洗时间短，满足了企业对基板的清洗加工需求。
附图说明
下面结合附图对本实用新型技术方案作进一步说明：
图1为现有技术中对基板单面和两端面清洗的过程示意图；
图2为本实用新型一实施例的俯视图；
图3为本实用新型一实施例的侧视图；
其中：传输部1、双面清洗部2、推动部3、端面清洗部件4、转向部5、基板6、第一传输组件10、第二传输组件11、滚刷20、端面刷21、表面刷22、清洗块23、喷嘴24、推动杆30、驱动机构31、导向销50、支撑板51、升降气缸52、旋转电机53。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。
本实用新型提供了一种基板单片清洗装置，以解决现有技术中基板单片清的时间较长，生产效率低下的问题。
为了便于理解，下面对本申请实施例中的具体流程进行描述，请参阅图2至图3，本申请实施例中的一种基板单片清洗装置，包括传输部1、双面清洗部2、推动部3、端面清洗部件4和转向部5；所述传输部1包括对接设置的第一传输组件10和第二传输组件11，用以对基板进行传输；双面清洗部2设置在所述第一传输组件10和第二传输组件11的对接处，用以对基板的双面同时进行清洗。
两个所述推动部3设置在所述传输部1的两端，用以将基板6进行不同方向推动后分别使基板在所述第一传输组件10和第二传输组件11上进行传输；多个所述端面清洗部件4间隔设置在所述第一传输组件的两侧内，用以对基板6的两侧端面进行清洗；转向部5设置在所述第二传输组件11内，用以将位于所述第二传输组件11内的基板6升降后旋转，使得基板6另两侧端面与端面清洗部件4对应设置。
本实用新型的基板单片清洗装置，端面清洗部件4对位于第一传输组件10内基板6的两个端面进行清洗，双面清洗部2对基板的双面进行同步清洗，转向部将位于第二传输组件11内的基板顶上后旋转90°，最后通过右侧的推动部3将基板从第二传输组件11传输至第一传输组件10上，实现对基板另外两端面的清洗，从而能在一个腔室内实现对基板6的正反面以及四周端面的清洗，清洗时间短，清洗效率高，符合企业的实际需求。
基于图2，本实施例中，所述第一传输组件10和第二传输组件11的结构相同，所述第一传输组件10包括两组相对设置的传输机构，每组所述传输机构包括多个直线分布的可自转的滚轮100，通过位于两侧滚轮100可以快速实现对基板6的传输。
本实施例中，所述双面清洗部2包括上下相对平行设置的两个滚刷20，这样当基板进入到两个滚刷20之间时，两个滚刷20可以对基板6的正反两面同时进行快速有效的清洗；另外，在所述滚刷20的外表面上设有多个凸出的清洗块23，利用清洗块23可以增加对基板的清洗效果，清洗块23由柔性材料构成。
基于图1，本实施例中，所述推动部3为通过驱动机构可前后推动的推动杆30，驱动机构可以为气缸等部件；工作时，左侧推动部3中的驱动机构31驱动推动杆往前移动，推动杆驱动基板6在第一传输组件10上往右传输，右侧推动部3中的驱动机构驱动推动杆30往前移动，推动杆30驱动基板6在第二传输组件11上往左传输。
基于图1，本实施例中，所述端面清洗部件4为间隔设置在第一传输组件内的侧面滚刷，具体来说，多个所述侧面滚刷间隔设置在第一传输组件10两侧的多个滚轮100之间，并且侧面滚刷紧贴所述基板的端面，这样基板在第一传输组件10上进行传输时，两侧的侧面滚刷自动对基板6的两端面进行清洗。
基于图3，本实施例中，所述转向部5包括用于定位基板6的四个导向销50，四个所述导向销50的底部通过支撑板51相连，所述支撑板51经由升降气缸52驱动，所述升降气缸52设置在旋转电机53上；当需要对第二传输组件11上的基板进行转向时，首先由升降气缸52将四个导向销50往上顶升起，使得四个导向销将基板6进行定位顶升，接着由旋转电机带动整个基板6进行90°的旋转，使得基板的另外两侧端面正好位于第一传输组件中的端面清洗部件4的延长线上，这样后续基板返回至第一传输组件10内时，端面清洗部件4可以将基板的另外两面进行清洗。
基于图2至图3，实际的工作流程如下：
1.左侧的驱动机构31驱动推动杆30将基板6从第一传输组件10往第二传输组件11的方向进行传输，传输时由第一传输组件10中的滚轮带动基板往前移动，基板在移动的过程中，两侧的端面清洗部件4对基板5的两侧端面进行清洗；
2.当基板6移动到两个上下设置的滚刷20时，两个滚刷20同步对基板6的正反面进行清洗；
3.接着基板6进入到第二传输组件11内，第二传输组件11内的滚轮驱动基板进行传输，当基板6移动到四个导向销50的上方时，驱动气缸52带动导向销往上移动，从而带动位于四个导向销内的基板往上顶升，接着旋转电机53带动基板6旋转90°；
4.右侧的驱动机构31驱动推动杆30将基板6从第二传输组件往第一传输组件上进行传输，当传输到两个滚刷20之间时，能再次对基板的正反面进行清洗，清洗效率好，然后基板6在第一传输组件上移动时，侧面滚刷40对基板的另外两端面进清洗，从而实现了对基板的正反面和四端面的清洗。
以上所述，以上实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (6)
1.一种基板单片清洗装置，其特征在于，包括：
传输部，所述传输部包括对接设置的第一传输组件和第二传输组件，用以对基板进行传输；
双面清洗部，设置在所述第一传输组件和第二传输组件的对接处，用以对基板的双面同时进行清洗；
推动部，两个所述推动部设置在所述传输部的两端，用以将基板进行不同方向推动后分别使基板在所述第一传输组件和第二传输组件上进行传输；
端面清洗部件，多个所述端面清洗部件间隔设置在所述第一传输组件的两侧内，用以对基板的两侧端面进行清洗；
转向部，设置在所述第二传输组件内，用以将位于所述第二传输组件内的基板升降后旋转，使得基板另两侧端面位于所述端面清洗部件的延长线上。
2.如权利要求1所述的基板单片清洗装置，其特征在于：所述第一传输组件和第二传输组件的结构相同；所述第一传输组件包括两组相对设置的传输机构，每组所述传输机构包括直线分布的多个可自转的滚轮。
3.如权利要求1所述的基板单片清洗装置，其特征在于：所述双面清洗部包括上下相对设置的两个滚刷，所述滚刷的外表面上设有多个凸出的清洗块。
4.如权利要求1所述的基板单片清洗装置，其特征在于：所述推动部为通过驱动机构可前后推动的推动杆。
5.如权利要求1所述的基板单片清洗装置，其特征在于：所述端面清洗部件为设置在第一传输组件内的侧面滚刷，且所述侧面滚刷紧贴所述基板的端面。
6.如权利要求1所述的基板单片清洗装置，其特征在于：所述转向部包括用于限位基板的多个导向销，多个所述导向销的底部通过支撑板相连，所述支撑板经由升降气缸驱动，所述升降气缸设置在旋转电机上。
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