CN220867495U - 一种使工件均匀受热的真空镀膜设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种使工件均匀受热的真空镀膜设备,包括镀膜筒体、工件转架、加热管以及热反射板;所述工件转架用于承载待镀膜工件并带动其转动,所述镀膜筒体的内壁涂覆有陶瓷涂层,镀膜筒体的内壁沿周向设置有若干加热管,热反射板设于任意两个相邻所述加热管之间的镀膜筒体内壁上,所述热反射板用于将辐射到热反射板的热量反射至工件转架的工件上。本实用新型的多个加热管可使热量从不同角度均匀辐射到工件表面;在相邻两个加热管之间设置的热反射板,可将加热管向容置腔室其他区域散射的热量反射回工件转架上,提高工件的受热均匀性;陶瓷涂层可促使部分热量以辐射的形式传递到工件表面,减少热量流失,提高工件的受热均匀性。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜设备领域,尤其涉及一种使工件均匀受热的真空镀膜设备。
背景技术
真空镀膜机是一种用于在物体表面形成薄膜涂层的设备。它的主要作用是在真空环境下通过物理或化学方法将一层或多层薄膜沉积在物体表面,以改变物体的光学、电学、磁学、机械性能等特性。
现有技术中,真空镀膜设备在对工件镀膜前,会对工件进行加热,一是可以去除工件表面或内部的气体或水分,防止在真空环境中产生气泡、孔洞或其他缺陷,从而提高工件的镀膜效果;二是可以调节工件在镀膜时的沉积速率,使得工件的镀层厚度更为均匀。
然而,目前的真空镀膜设备中,一般是在镀膜腔室的底部设置加热电阻丝,以对上方的镀膜工件进行加热,如果工件的面积较大,容易导致工件的表面受热不不均匀,从而使得镀层的沉积速率不一致,即存在局部区域温度分布高,沉积速率较快,而其他区域温度较低,沉积速率较慢的问题,造成工件的镀层厚度不均,影响工件的镀层质量。
因此,现有技术存在缺陷,需要改进。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种热量辐射效果好,提高工件镀膜质量的使工件均匀受热的真空镀膜设备。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
一种使工件均匀受热的真空镀膜设备,包括:
镀膜筒体、工件转架、加热管以及热反射板;
所述镀膜筒体内设有容置腔室,所述工件转架设于容置腔室内,所述工件转架用于承载待镀膜工件并带动其转动;
所述镀膜筒体的内壁涂覆有陶瓷涂层;
所述镀膜筒体的内壁沿周向设置有若干弧形槽;所述加热管设于所述弧形槽内,以产生热量对所述工件转架内的工件进行加热;
所述热反射板设于任意两个相邻所述加热管之间的镀膜筒体内壁上,所述热反射板用于将辐射到所述热反射板的热量反射至所述工件转架的工件上;
所述工件转架包括:
固定架、驱动电机、第一公转圆盘、公转齿轮、自转齿轮以及工件杆;
所述驱动电机设于所述固定架上,所述驱动电机的输出轴与所述公转齿轮连接,用于驱动所述公转齿轮旋转;
所述第一公转圆盘通过连接轴与所述公转齿轮固定连接;
若干所述自转齿轮沿所述公转齿轮的周向设置,且所述自转齿轮分别与所述公转齿轮啮合连接;
所述工件杆的第一轴端穿过所述第一公转圆盘并与所述自转齿轮连接;
所述自转齿轮用于跟随所述公转齿轮进行同步转动,以此带动所述工件杆旋转,所述工件杆用于承载待镀膜的工件。
采用上述技术方案,所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备中,所述工件转架还包括第二公转圆盘;
所述第一公转圆盘通过公转轴与所述第二公转圆盘连接;
所述第二公转圆盘设于所述工件杆远离所述第一公转圆盘的一侧,且所述工件杆的第二轴端与所述第二公转圆盘活动连接。
采用上述各个技术方案,所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备中,所述加热管为石英加热管。
采用上述各个技术方案,所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备中,所述热反射板采用铝材质制成。
采用上述各个技术方案,所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备中,所述陶瓷涂层的厚度为30~50μm。
采用上述各个技术方案,所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备中,还包括移动门座以及推动机构;
所述镀膜筒体的一端设有门孔,所述推动机构的活动端与移动门座连接,用于驱动所述移动门座相对门孔往复移动,以实现打开或关闭门孔。
采用上述各个技术方案,所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备中,所述工件转架与所述移动门座靠近门孔的一侧连接。
采用上述各个技术方案,所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备中,所述推动机构包括旋转电机、丝杆、螺纹座、滑轨以及滑块;
两根所述滑轨分别设于所述移动门座的底部两侧,所述移动门座通过所述滑块与所述滑块连接,所述移动门座可沿着所述滑轨移动;
所述旋转电机的输出轴与所述丝杆连接,所述丝杆通过所述螺纹座与所述移动门座连接。
采用上述各个技术方案,所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备中,还包括有真空抽吸装置;所述真空抽吸装置与所述镀膜筒体连通,以对所述容置腔室进行抽真空处理。
采用上述各个技术方案,所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备中,还包括有锁紧夹件,若干所述锁紧夹件沿所述门孔的周向间隔设置;
当所述移动门座被所述推动机构移动至与所述门孔相抵接时,所述锁紧夹件用于将所述移动门座夹定在所述门孔上,以实现密封贴合。
与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:
本实用新型的待镀膜工件设置于工件转架上,镀膜筒体的内壁沿周向设置有多个加热管,以使热量从不同角度均匀辐射到工件表面;在相邻两个加热管之间设置的热反射板,可将加热管向容置腔室其他区域散射的热量反射回工件转架上,使热量更多辐射在工件表面,这不仅减少热量的损失,提高加热效率,还能确保更多的热量被工件吸收,从而提高工件的受热均匀性;同时,在镀膜筒体的内壁涂覆有陶瓷涂层,陶瓷涂层具有较低的热导率和热吸收能力,当镀膜筒体内壁受热后,陶瓷涂层可减缓热量从内壁向外辐射的速度,并促使部分热量以辐射的形式传递到工件表面,减少热量流失,提高工件的受热均匀性;另外;在加热过程中,工件转架可带动工件在公转的同时实现自转,使得工件表面与加热管之间的距离保持相对稳定,从而实现对工件更均匀的受热。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
本说明书附图所绘示的结构、比例、大小等,均仅用以配合说明书所揭示的内容,以供熟悉此技术的人士了解与阅读,并非用以限定本实用新型可实施的限定条件,故不具技术上的实质意义,任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整,在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下,均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。
图1为本实用新型的整体结构示意图;
图2为本实用新型的移动门座与门孔之间的闭合状态结构示意图;
图3为本实用新型的工件转架结构示意图;
图4为本实用新型的镀膜筒体内部结构示意图。
图示说明:1、镀膜筒体;10、容置腔室;11、弧形槽;12、移动门座;13、锁紧夹件;100、门孔;2、工件转架;21、固定架;22、驱动电机;23、第一公转圆盘;24、公转齿轮;25、自转齿轮;26、工件杆;27、第二公转圆盘;3、加热管;4、热反射板;5、推动机构;51、旋转电机;52、丝杆;53、滑轨;6、真空抽吸装置。
具体实施方式
为使得本实用新型的实用新型目的、特征、优点能够更加的明显和易懂,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,下面所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而非全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。需要说明的是,当一个组件被认为是“连接”另一个组件,它可以是直接连接到另一个组件或者可能同时存在居中设置的组件。
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。
如图1至图4所示,本实用新型实施例提供了一种使工件均匀受热的真空镀膜设备,包括镀膜筒体1、工件转架2、加热管3以及热反射板4。
所述镀膜筒体1内设有容置腔室10,所述工件转架2设于容置腔室10内,所述工件转架2用于承载待镀膜工件并带动其转动。本实施例中,工件转架2上可放置待镀膜的工件,在镀膜之前,加热管3可产生热量以对工件进行加热,这样不仅可以去除工件表面或内部的气体或水分,防止在真空环境中产生气泡、孔洞或其他缺陷,从而提高工件的镀膜效果;还能提高工件在镀膜时的沉积速率,进而促使镀层的快速形成。需要说明的是,在加热过程中,工件转架2保持转动的状态,以提高热量辐射在工件表面的均匀性。
所述镀膜筒体1的内壁涂覆有陶瓷涂层,陶瓷涂层具有较低的热导率和热吸收能力,当镀膜筒体1内壁受热后,陶瓷涂层可减缓热量从内壁向外辐射的速度,并促使部分热量以辐射的形式传递到工件表面,减少热量流失,提高工件的受热均匀性。
如图4所示,所述镀膜筒体1的内壁沿周向设置有若干弧形槽11;所述加热管3设于所述弧形槽11内,以产生热量对所述工件转架2内的工件进行加热。镀膜筒体1的内壁沿周向设置有多个加热管3,以使热量从不同角度辐射到工件表面,进而提高工件的受热均匀性。
所述热反射板4设于任意两个相邻所述加热管3之间的镀膜筒体1内壁上,所述热反射板4用于将辐射到所述热反射板4的热量反射至所述工件转架2的工件上。在相邻两个加热管3之间设置的热反射板4,可将加热管3向容置腔室10其他区域散射的热量反射回工件转架2上,使热量更多辐射在工件表面,这不仅减少热量的损失,提高加热效率,还能确保更多的热量被工件吸收,从而提高工件的受热均匀性。
如图1及图3所示,所述工件转架2包括固定架21、驱动电机22、第一公转圆盘23、公转齿轮24、自转齿轮25以及工件杆26,所述驱动电机22设于所述固定架21上,所述驱动电机22的输出轴与所述公转齿轮24连接,用于驱动所述公转齿轮24旋转,所述第一公转圆盘23通过连接轴与所述公转齿轮24固定连接,若干所述自转齿轮25沿所述公转齿轮24的周向设置,且所述自转齿轮25分别与所述公转齿轮24啮合连接,所述工件杆26的第一轴端穿过所述第一公转圆盘23并与所述自转齿轮25连接,所述自转齿轮25用于跟随所述公转齿轮24进行同步转动,以此带动所述工件杆26旋转,所述工件杆26用于承载待镀膜的工件。在加热过程中,工件转架2可带动工件在公转的同时实现自转,使得工件表面与加热管3之间的距离保持相对稳定,从而实现对工件更均匀的受热。具体的,驱动电机22可带动第一公转圆盘23进行旋转,由于工件杆26的第一轴端穿过第一公转圆盘23并与自转齿轮25连接,使得第一公转圆盘23在转动时可带动工件杆26围绕第一公转圆盘23的中心轴线进行转动,即形成工件杆26的公转;由于自转齿轮25还与公转齿轮24啮合连接,使得公转齿轮24在旋转的同时带动自转齿轮25同步转动,即带动了工件杆26在公转的同时还围绕其自身的中心轴线进行转动,从而形成了工件杆26的自转。工件杆26采用公转与自转运动相互配合的方式,可使工件的不同表面都能够接触到辐射的热量,从而实现对工件表面的均匀加热。
如图3所示,进一步的,所述工件转架2还包括第二公转圆盘26,所述第一公转圆盘23通过公转轴与所述第二公转圆盘26连接,所述第二公转圆盘26设于所述工件杆26远离所述第一公转圆盘23的一侧,且所述工件杆26的第二轴端与所述第二公转圆盘26活动连接。当第一公转圆盘23转动的时候,可通过公转轴带动第二公转圆盘26进行转动,以提高工件转架2的整体结构稳定性。
进一步的,所述加热管3为石英加热管3。石英加热管3具有较高的加热效率和均匀性,可以实现对工件的均匀加热;另外,真空镀膜机需要在较高温度下对工件进行镀膜,而石英加热管3具有良好的高温稳定性,能够在高温环境下保持稳定的性能,不易受热膨胀和收缩的影响。
进一步的,所述热反射板4采用铝材质制成。铝材质制成的热反射板4具有较高的热反射率,可将热量有效地反射回工件表面,提高加热效率。
进一步的,所述陶瓷涂层的厚度为30~50μm。本实施例中,陶瓷涂层的厚度为40μm。当然,需要说明的是,用户还可根据热量的辐射速率将陶瓷涂层的厚度设置成其他数值,在此不作过多限制。
如图1及图2所示,进一步的,本设备还包括移动门座12以及推动机构5,所述镀膜筒体1的一端设有门孔100,所述推动机构5的活动端与移动门座12连接,用于驱动所述移动门座12相对门孔100往复移动,以实现打开或关闭门孔100,便于检修人员通过推动机构5便捷打开移动门座12进入镀膜筒体1内部进行检修。
进一步的,所述工件转架2与所述移动门座12靠近门孔100的一侧连接。本实施例中,工件转架2与移动门座12连接,使得检修人员在打开移动门座12的时候可一并将工件转架2拉出,进而提高对完成镀膜工件的拆卸。
进一步的,所述推动机构5包括旋转电机51、丝杆52、螺纹座(未图示)、滑轨53以及滑块(未图示),两根所述滑轨53分别设于所述移动门座12的底部两侧,所述移动门座12通过所述滑块与所述滑块连接,所述移动门座12可沿着所述滑轨53移动,所述旋转电机51的输出轴与所述丝杆52连接,所述丝杆52通过所述螺纹座与所述移动门座12连接。当旋转电机51转动时可带动丝杆52旋转,使得与螺纹座连接的移动门座12可沿着滑轨53移动,由此实现对移动门座12与门孔100之间的推进闭合或拉出打开。
如图1所示,进一步的,本设备还包括有真空抽吸装置6;所述真空抽吸装置6与所述镀膜筒体1连通,以对所述容置腔室10进行抽真空处理。
如图1所示,进一步的,还包括有锁紧夹件13,若干所述锁紧夹件13沿所述门孔100的周向间隔设置,当所述移动门座12被所述推动机构5移动至与所述门孔100相抵接时,所述锁紧夹件13用于将所述移动门座12夹定在所述门孔100上,以实现密封贴合,防止热量从移动门座12与门孔100之间的夹缝中逸出,造成能量的损失。
以上所述,以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (10)
1.一种使工件均匀受热的真空镀膜设备,其特征在于,包括镀膜筒体(1)、工件转架(2)、加热管(3)以及热反射板(4);
所述镀膜筒体(1)内设有容置腔室(10),所述工件转架(2)设于容置腔室(10)内,所述工件转架(2)用于承载待镀膜工件并带动其转动;
所述镀膜筒体(1)的内壁涂覆有陶瓷涂层;
所述镀膜筒体(1)的内壁沿周向设置有若干弧形槽(11);所述加热管(3)设于所述弧形槽(11)内,以产生热量对所述工件转架(2)内的工件进行加热;
所述热反射板(4)设于任意两个相邻所述加热管(3)之间的镀膜筒体(1)内壁上,所述热反射板(4)用于将辐射到所述热反射板(4)的热量反射至所述工件转架(2)的工件上;
所述工件转架(2)包括固定架(21)、驱动电机(22)、第一公转圆盘(23)、公转齿轮(24)、自转齿轮(25)以及工件杆(26);
所述驱动电机(22)设于所述固定架(21)上,所述驱动电机(22)的输出轴与所述公转齿轮(24)连接,用于驱动所述公转齿轮(24)旋转;
所述第一公转圆盘(23)通过连接轴与所述公转齿轮(24)固定连接;
若干所述自转齿轮(25)沿所述公转齿轮(24)的周向设置,且所述自转齿轮(25)分别与所述公转齿轮(24)啮合连接;
所述工件杆(26)的第一轴端穿过所述第一公转圆盘(23)并与所述自转齿轮(25)连接;
所述自转齿轮(25)用于跟随所述公转齿轮(24)进行同步转动,以此带动所述工件杆(26)旋转,所述工件杆(26)用于承载待镀膜的工件。
2.根据权利要求1所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备,其特征在于,所述工件转架(2)还包括第二公转圆盘(27);
所述第一公转圆盘(23)通过公转轴与所述第二公转圆盘(27)连接;
所述第二公转圆盘(27)设于所述工件杆(26)远离所述第一公转圆盘(23)的一侧,且所述工件杆(26)的第二轴端与所述第二公转圆盘(27)活动连接。
3.根据权利要求1所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备,其特征在于,所述加热管(3)为石英加热管(3)。
4.根据权利要求1所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备,其特征在于,所述热反射板(4)采用铝材质制成。
5.根据权利要求1所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备,其特征在于,所述陶瓷涂层的厚度为30~50μm。
6.根据权利要求2所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备,其特征在于,还包括移动门座(12)以及推动机构(5);
所述镀膜筒体(1)的一端设有门孔(100),所述推动机构(5)的活动端与移动门座(12)连接,用于驱动所述移动门座(12)相对门孔(100)往复移动,以实现打开或关闭门孔(100)。
7.根据权利要求6所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备,其特征在于,所述工件转架(2)与所述移动门座(12)靠近门孔(100)的一侧连接。
8.根据权利要求6所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备,其特征在于,所述推动机构(5)包括旋转电机(51)、丝杆(52)、螺纹座、滑轨(53)以及滑块;
两根所述滑轨(53)分别设于所述移动门座(12)的底部两侧,所述移动门座(12)通过所述滑块与所述滑块连接,所述移动门座(12)可沿着所述滑轨(53)移动;
所述旋转电机(51)的输出轴与所述丝杆(52)连接,所述丝杆(52)通过所述螺纹座与所述移动门座(12)连接。
9.根据权利要求1所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备,其特征在于,还包括有真空抽吸装置(6);
所述真空抽吸装置(6)与所述镀膜筒体(1)连通,以对所述容置腔室(10)进行抽真空处理。
10.根据权利要求6所述的使工件均匀受热的真空镀膜设备,其特征在于,还包括有锁紧夹件(13);
若干所述锁紧夹件(13)沿所述门孔(100)的周向间隔设置;
当所述移动门座(12)被所述推动机构(5)移动至与所述门孔(100)相抵接时,所述锁紧夹件(13)用于将所述移动门座(12)夹定在所述门孔(100)上,以实现密封贴合。
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2023
- 2023-10-10 CN CN202322728025.0U patent/CN220867495U/zh active Active
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GR01 | Patent grant | ||
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