CN220781438U - 一种清胶装置及晶托分离生产线 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供了一种清胶装置及晶托分离生产线，属于晶托技术领域。清胶装置包括机架、清胶输送线和清胶机构，清胶输送线沿第一方向延伸设置于机架，清胶输送线用于输送与垫板分离后的晶托板；清胶机构设置于机架，清胶机构用于对位于清胶输送线上的晶托板的残胶进行清理；其中，清胶机构包括刮刀单元，刮刀单元用于对晶托板的残胶进行刮除。这种清胶装置能够对与垫板分离后的晶托板上的残胶进行清理，且清理效果好。

Description

一种清胶装置及晶托分离生产线

技术领域

本申请涉及晶托技术领域，具体而言，涉及一种清胶装置及晶托分离生产线。

背景技术

目前，在硅片制造领域切割工艺中，对晶棒进行钢线切割前需将硅棒用双组分胶水粘接在树脂板材或塑料板材的一面，将板材的另一面用另一种双组分胶水粘接在晶托上，并将其形成暂时的整体，得到由上至下依次重叠的晶托、板材和硅棒，晶托与硅棒之间和板材与晶托之间分别用不同的胶水粘接，将其粘接成一个整体方便硅棒切片。当切割结束后需要将硅片、板材、晶托分开得到硅片半成品，晶托还需重复利用。然而，板材与晶托板间的胶水脱胶温度较高，现有技术中的脱胶方法一般是通过水煮的方式进行脱胶，脱胶后晶托板上仍粘附有胶水，现有的除胶方式一般在输送线上流转至人工的除胶工位，工作人员将晶托板取下后，将晶托板上的残胶清除，然后又放回输送线上继续输送，存在清胶效率低，劳动强度大的问题，如何能够高效清除晶托板上的残胶显得尤为重要。

实用新型内容

本申请实施例提供一种清胶装置及晶托分离生产线，能够对与垫板分离后的晶托板上的残胶进行清理，且清理效果好。

本申请实施例提供一种清胶装置，清胶装置包括机架、清胶输送线和清胶机构，清胶输送线沿第一方向延伸设置于机架，清胶输送线用于输送与垫板分离后的晶托板；清胶机构设置于机架，清胶机构用于对位于清胶输送线上的晶托板的残胶进行清理；其中，清胶机构包括刮刀单元，刮刀单元用于对晶托板的残胶进行刮除。

在本方案中，通过清胶装置能够替代人工铲胶操作，相对于现有的人工清胶操作而言，清胶装置中的刮刀单元能够在清胶输送线上直接完成晶托板残胶的刮除操作，不需要人工将晶托板转移至其它工位进行手动清胶，从而降低了人工劳动强度，提高了除胶效率。同时，清胶装置可与晶托分离生产线衔接，增强工序之间信息交互能力，更加自动化。

在一些实施例中，清胶机构还包括清扫刷单元，清扫刷单元用于清扫晶托板上的残胶。

上述技术方案中，通过清胶机构还包括有清扫刷单元，清扫刷单元用于清扫晶托板上的残胶，这样对晶托板进行清胶时，刮刀单元和清扫刷单元两者配合，可以对晶托板上的残胶一边刮除一边清扫，从而对晶托板上的残胶的清除效率更高，清洁效果更好。

在一些实施例中，清胶机构包括横移架和横移驱动单元，刮刀单元和清扫刷单元均设置于横移架，横移驱动单元用于驱动横移架沿第一方向往复移动。

上述技术方案中，通过将清胶机构采用为移动式设置于机架上，清胶机构在横移驱动单元的作用下，能够带动刮刀单元和清扫刷单元相对于胶输送线上的晶托板移动，从而实现对晶托板上的残胶清胶处理，并且将清胶机构采用移动式，这样清胶机构在对晶托板进行清胶时，可以在横移驱动单元的作用下往复多次移动进行清胶操作，从而更利于将晶托板上的残胶清除。

在一些实施例中，刮刀单元包括第一刮刀组件和第二刮刀组件，第一刮刀组件用于对晶托板的上表面的残胶进行刮除，第二刮刀组件用于对晶托板侧面的残胶进行刮除。

上述技术方案中，通过将刮刀单元包括有第一刮刀组件和第二刮刀组件，利用第一刮刀组件可以对晶托板的上表面的残胶进行刮除，防止晶托板上表面的残胶对树脂板的粘合有影响，而利用第二刮刀组件可以对晶托板侧面的残胶进行刮除，对晶托板的侧面进行清理，可以防止晶托板侧面的残胶累积增厚。

在一些实施例中，第一刮刀组件包括第一刮刀驱动件和第一刮刀，第一刮刀驱动件安装于横移架，第一刮刀驱动件的驱动端与第一刮刀驱动连接，以用于驱动第一刮刀沿竖直方向靠近或远离清胶输送线上的晶托板。

上述技术方案中，通过第一刮刀驱动件可以驱动第一刮刀沿竖直方向上下移动，这样可以调节第一刮刀在竖向上的位置，利于第一刮刀对晶托板的避让和定位，能够更好的对晶托板上表面的残胶进行清理。

在一些实施例中，第一刮刀包括刀杆、刀架和一个主刀头，刀杆的一端与第一刮刀驱动件的驱动端连接，刀杆的另一端连接于刀架，主刀头设置于刀架。

上述技术方案中，通过将主刀头设置于刀架上，刀架通过刀杆与第一刮刀驱动件驱动连接，在第一刮刀驱动件的作用下，利用一个主刀头可以实现对晶托板上表面的刮胶作业。

在一些实施例中，第一刮刀包括刀杆、刀架和多个主刀头，刀杆的一端与第一刮刀驱动件的驱动端连接，刀杆的另一端连接于刀架，多个主刀头沿第一方向间隔分布于刀架的相对两侧。

上述技术方案中，由于清胶机构地移动方向为第一方向，且多个主刀头沿第一方向间隔分布于刀架的相对两侧，这样在清胶机构的往返移动过程中，第一刮刀均能实现对晶托板上表面的往返刮胶，相比于单程刮胶而言，刮胶效果更好。

在一些实施例中，多个主刀头包括第一主刀头和第二主刀头，第一主刀头的上端和第二主刀头的上端均与刀架连接，沿从上到下的方向上，第一主刀头和第二主刀头的距离逐渐增加。

上述技术方案中，将多个主刀头包括第一主刀头和第二主刀头，第一主刀头和第二主刀头的距离逐渐增加，使得第一主刀头和第二主刀头在刀架上呈八字形分布并向外侧张开，第一刮刀在往返移动过程中，均能实现对晶托板上表面的残胶有效刮除，且刮除的残胶在第一主刀头或第二主刀头的引导作用下向上并向外两侧散开，刮除的残胶不会停留在原位。

在一些实施例中，第二刮刀组件包括两个第二子刮刀组件，两组第二子刮刀组件沿第二方向间隔分布于横移架，第一方向、第二方向和竖直方向两两垂直；每个第二子刮刀组件包括第二刮刀驱动件和第二刮刀，第二刮刀驱动件的驱动端与第二刮刀驱动连接，以带动第二刮刀沿第二方向靠近或远离清胶输送线上的晶托板的对应侧面。

上述技术方案中，通过两组第二子刮刀组件沿第二方向间隔分布于横移架，两组第二子刮刀组件中的两个刮刀能够在第二刮刀驱动件的作用下在第二方向相互远离和靠近，从而实现对晶托板的两个侧面进行同步刮胶，刮胶效果好。

在一些实施例中，第一刮刀组件和/或第二刮刀组件的数量设为多组，多组第一刮刀组件和/或第二刮刀组件在横移架上沿第一方向间隔分布。

上述技术方案中，通过将第一刮刀组件和/或第二刮刀组件的数量设为多组，多组第一刮刀组件和/或第二刮刀组件，相比于一组第一刮刀组件和第二刮刀组件而言，可以提高对晶托板上残胶的清胶效率。

在一些实施例中，清扫刷单元包括第一清扫刷组件和第二清扫刷组件，第一清扫刷组件用于对晶托板的上表面的残胶进行清扫，第二清扫刷组件用于对晶托板侧面的残胶进行清扫。

上述技术方案中，利用第一清扫刷组件可以对晶托板的上表面的残胶进行清扫，利用第二清扫刷组件可以对晶托板侧面的残胶进行清扫，相比于仅利用刮刀单元对残胶进行刮除而言，利用清扫刷单元清扫配合刮刀单元的刮胶，对晶托板上的残胶的清胶效果更好。

在一些实施例中，第一清扫刷组件包括第一清扫刷升降件、第一清扫刷驱动件和第一清扫刷，第一清扫刷驱动件的驱动端与第一清扫刷驱动连接，以用于带动第一清扫刷转动，第一清扫刷驱动件安装于第一清扫刷升降件的驱动端，第一清扫刷升降件安装于横移架，以用于驱动第一清扫刷沿竖直方向靠近或远离清胶输送线上的晶托板。

上述技术方案中，第一清扫刷驱动件可以带动第一清扫刷转动，从而实现对晶托板上表面的残胶进行清扫，在第一清扫刷升降件的驱动作用下，可以实现第一清扫刷与清胶输送线上的晶托板在竖直方向的靠近或远离，便于实现对晶托板上表面的精准清扫。

在一些实施例中，第二清扫刷组件的数量设为两组，两组清扫刷组件沿第二方向间隔分布；每组第二清扫刷组件包括第二清扫刷驱动件、第三清扫刷驱动件和第二清扫刷，第三清扫刷驱动件的驱动端与第二清扫刷驱动连接，以用于带动第二清扫刷转动；第二清扫刷驱动件安装于第二清扫刷驱动件的驱动端，第二清扫刷驱动件安装于横移架，用于驱动第二清扫刷沿第二方向移动，以使第二清扫刷能够靠近或远离晶托板的侧面。

上述技术方案中，通过将第二清扫刷组件的数量设为两组，两组清扫刷组件可以分别对应于晶托板的两个侧面，第三清扫刷驱动件可以带动第一清扫刷转动，从而实现对晶托板侧面的残胶进行清扫，在第二清扫刷升降件的驱动作用下，可以实现第二清扫刷与清胶输送线上的晶托板的水平靠近或远离，便于实现对晶托板的侧面精准清扫。

在一些实施例中，沿清胶输送线的输送方向，第一清扫刷组件在横移架上相较于第一刮刀组件位于清胶输送线的下游；第二清扫刷组件在横移架上相较于第二刮刀组件位于清胶输送线的上游。

上述技术方案中，将第一清扫刷组件在横移架上相较于第一刮刀组件位于清胶输送线的下游，这样横移架带动清胶机构往复移动时，在返程的时候，始终是第一刮刀组件先对晶托的上表面刮除后再通过第一清扫刷组件对晶托板的上表面进行清扫，这样可以将晶托板上表面的残胶清离于晶托板。通过将第二清扫刷组件在横移架上相较于第二刮刀组件位于清胶输送线的上游，第二刮刀组件在返程时不对晶托板上的残胶进行刮除，因此往返程时第二清扫刷组件均会对晶托板的侧面进行清扫。

在一些实施例中，清胶装置还包括水箱和清洗管路，水箱用于向清洗管路提供清洗水，清洗管路末端设置有冲洗喷头，冲洗喷头用于对晶托板上的残胶进行冲洗。

上述技术方案中，通过在清胶装置中设置有清洗管路和水箱，水箱可以向清洗管路提供清洗水，清洗管路喷出清洗水，可以对晶托板上的残胶进行清理，并能实现对晶托板的降温，即清洗管路可以起到对晶托板的清洁和降温的双重作用。

在一些实施例中，冲洗喷头包括第一冲洗喷头和两个第二冲洗喷头，第一冲洗喷头朝向于晶托板的上表面，两个第二冲洗喷头分别朝向晶托板的两个侧面。

上述技术方案中，通过第一冲洗喷头朝向于晶托板的上表面喷出清洗水，可以对晶托板的上表面的残胶进行清洁和降温，利用两个第二冲洗喷头分别朝向晶托板的两个侧面喷出清洗水，可以实现对晶托板的两个侧面上的残胶进行清洁和降温。

在一些实施例中，沿第一方向，冲洗喷头位于刮刀单元和清扫刷单元之间。

上述技术方案中，由于横移架带动清胶装置在移动时为往返程式移动，因此通过将冲洗喷头位于刮刀单元和清扫刷单元之间，在对晶托板上的残胶进行刮除或清扫后，利用冲洗喷头可以对刮除后清扫后的残胶进行清理，对晶托板的清胶效果更好。

在一些实施例中，水箱内设置有用于将水箱的内腔分隔为过滤腔和存水腔的第一分隔板，过滤腔的内部或水箱上设置有过滤网，第一分隔板上开设有用于使过滤腔和存水腔相通的第一通水口，过滤网用于过滤清胶机构清胶后的清洗水且在清洁水的流动方向上位于第一通水口的上游段。

上述技术方案中，通过第一分隔板将水箱分隔为过滤腔和存水腔，借助于过滤腔上的过滤网，可以对清胶输送线上清除的残胶和水进行收集过滤，让多余的水透过过滤网进入于过滤腔中，并通过第一通水口进入于存水腔中暂存。

在一些实施例中，水箱内设置有第二分隔板，第二分隔板用于将存水腔分隔为冷却腔和加热腔，冷却腔通过第一通水口与过滤腔相通，冷却腔内设置有冷却管路，第二分隔板上开设有用于使冷却腔和加热腔相通的第二通水口，加热腔内设置有加热部件，加热腔与清洗管路相通。

上述技术方案中，因为晶托经过电磁脱胶设备后分离的晶托板为热的，经过清洁管路冲洗后，水箱内的水温慢慢会变高，因此通过在水箱内设置有第二分隔板，第二分隔板将存水腔分隔为冷却腔和加热腔，利用冷却腔内的冷却管路可以对冷却腔内的水进行冷却控温。而通过在加热腔内设置有加热部件，因为对于冬季而言，水温较低，当冬季的水温度低于20度时，水温太低影响清胶效果，加热管快速进行加热到30度，保证合适的温度。

在一些实施例中，过滤腔、冷却腔和加热腔的至少一者设置有排水管路，排水管路设置有排水阀。

上述技术方案中，通过在过滤腔、冷却腔或加热腔设置有排水管路，仅需要打开排水阀，便可以定期对水箱内的残留的胶片杂质进行清理。

第二方面，本申请实施例还提供了一种晶托分离生产线，晶托分离生产线包括前述的清胶装置。

本申请的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本申请一些实施例提供的清胶装置的结构示意图；

图2为图1中取下水箱后的结构示意图；

图3为图2的正视图；

图4为图3中A的放大示意图；

图5为本申请一些实施例提供的第一刮刀组件的结构示意图；

图6为本申请一些实施例提供的清胶装置另一角度的结构示意图；

图7为图6中B的放大示意图；

图8为本申请一些实施例提供的水箱的结构示意图。

图标：400-清胶装置；410-机架；411-中层架体；412-支撑脚；413-导轨；414-限位开关；415-透明观察窗；420-清胶输送线；430-清胶机构；431-横移架；4310-滑块；432-横移驱动单元；4320-主驱电机；4321-齿条；441-第一刮刀组件；4410-第一刮刀驱动件；4411-第一刮刀；44110-刀杆；44111-刀架；44112-主刀头；44112a-第一主刀头；44112b-第二主刀头；442-第二刮刀组件；4420-第二刮刀驱动件；4421-第二刮刀；451-第一清扫刷组件；4510-第一清扫刷升降件；4511-第一清扫刷驱动件；4512-第一清扫刷；452-第二清扫刷组件；4520-第二清扫刷驱动件；4521-第三清扫刷驱动件；4522-第二清扫刷；45220-第一侧刷；45221-第二侧刷；460-水箱；461-第一分隔板；4610-第一通水口；462-第二分隔板；4620-第二通水口；463-过滤腔；464-过滤网；465-冷却腔；4650-冷却管路；466-加热腔；4660-加热部件；467-排水管路；468-补水管路；469-液温传感器；81-晶托板；X-第一方向；Y-第二方向；Z-竖直方向。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本申请实施例的描述中，需要说明的是，指示方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本申请的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“相连”应做广义理解，例如，可以是固定相连，也可以是可拆卸相连，或一体地相连；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

实施例

本申请实施例还提供了一种晶托分离生产线，晶托分离生产线包括清胶装置，清胶装置对与垫板分离后的晶托板上的残胶进行清理。

具体的，请参阅图1至图8，清胶装置400包括机架410、清胶输送线420和清胶机构430，清胶输送线420沿第一方向X延伸设置于机架410，清胶输送线420用于输送与垫板分离后的晶托板81；清胶机构430设置于机架410，清胶机构430用于对位于清胶输送线420上的晶托板81的残胶进行清理；其中，清胶机构430包括刮刀单元，刮刀单元用于对晶托板81的残胶进行刮除。

在本方案中，通过清胶装置400能够替代人工铲胶操作，相对于现有的人工清胶操作而言，清胶装置中的刮刀单元能够在清胶输送线420上直接完成晶托板81残胶的刮除操作，不需要人工将晶托板81转移至其它工位进行手动清胶，从而降低了人工劳动强度，提高了除胶效率。同时，清胶装置可与晶托分离生产线衔接，增强工序之间信息交互能力，更加自动化。

在一些实施例中，清胶机构430还包括清扫刷单元，清扫刷单元用于清扫晶托板81上的残胶。通过清胶机构430还包括有清扫刷单元，清扫刷单元用于清扫晶托板81上的残胶，这样对晶托板81进行清胶时，刮刀单元和清扫刷单元两者配合，可以对晶托板81上的残胶一边刮除一边清扫，从而对晶托板81上的残胶的清除效率更高，清洁效果更好。

其中，清胶机构430与清胶输送线420有多种配合方式，譬如，清胶输送线420将晶托板81传输至清胶装置的清胶工位后暂停输送，然后清胶机构430移动对晶托板81进行清胶操作；当然，还可以是清胶机构430的位置固定，清胶输送线420带动晶托板81相对于清胶机构430移动，从而实现晶托板81与清胶机构430的相对位移。

在一些实施例中，请结合图1和图2，清胶机构430包括横移架431和横移驱动单元432，刮刀单元和清扫刷单元均设置于横移架431，横移驱动单元432用于驱动横移架431沿第一方向X往复移动。通过将清胶机构430采用为移动式设置于机架410上，清胶机构430在横移驱动单元432的作用下，能够带动刮刀单元和清扫刷单元相对于胶输送线上的晶托板81移动，从而实现对晶托板81上的残胶清胶处理，并且将清胶机构430采用移动式，这样清胶机构430在对晶托板81进行清胶时，可以在横移驱动单元432的作用下往复多次移动进行清胶操作，从而更利于将晶托板81上的残胶清除。

其中，横移驱动单元432可以为多种直线驱动机构，譬如，横移驱动单元432可以为电动推杆、气缸、液压缸、丝杆螺母副机构、同步带或者齿轮齿条驱动机构等。

在本实施例中，横移驱动单元432采用为齿轮齿条机构，包括主驱电机4320、齿轮和齿条4321，齿条4321沿第一方向X铺设于机架410上，主驱电机4320采用为伺服电机配合减速机，主驱电机4320安装于横移架431上，主驱电机4320的输出轴连接齿轮，齿轮与齿条4321的啮合传动实现横移架431沿第一方向X移动，从而实现清胶。当然，机架410上还可以设置有导轨413，横移架431的底部对应设置有滑块4310，滑块4310与导轨413滑动配合，从而引导横移架431在横移驱动单元432的作用下沿第一方向X移动。

另外，机架410上对应设置有限位开关414，限位开关414用于限制横移架431在机架410上第一方向X的行程。

在一些实施例中，请结合图3和图4，刮刀单元包括第一刮刀组件441和第二刮刀组件442，第一刮刀组件441用于对晶托板81的上表面的残胶进行刮除，第二刮刀组件442用于对晶托板81侧面的残胶进行刮除。通过将刮刀单元包括有第一刮刀组件441和第二刮刀组件442，利用第一刮刀组件441可以对晶托板81的上表面的残胶进行刮除，防止晶托板81上表面的残胶对树脂板的粘合有影响，而利用第二刮刀组件442可以对晶托板81侧面的残胶进行刮除，对晶托板81的侧面进行清理，可以防止晶托板81侧面的残胶累积增厚。

在一些实施例中，请结合图4至图7，第一刮刀组件441包括第一刮刀驱动件4410和第一刮刀4411，第一刮刀驱动件4410安装于横移架431，第一刮刀驱动件4410的驱动端与第一刮刀4411驱动连接，以用于驱动第一刮刀4411沿竖直方向Z靠近或远离清胶输送线420上的晶托板81。通过第一刮刀驱动件4410可以驱动第一刮刀4411沿竖直方向Z上下移动，这样可以调节第一刮刀4411在竖向上的位置，利于第一刮刀4411对晶托板81的避让和定位，能够更好的对晶托板81上表面的残胶进行清理。

可以理解地，清胶输送线420上的晶托板81进入于清胶工位时，第一刮刀驱动件4410需先带动第一刮刀4411向上运动，以避让晶托板81，晶托板81移动到位后，第一刮刀驱动件4410驱动第一刮刀4411向下运动，以抵紧于晶托板81的上表面，然后进行刮胶处理。

其中，第一刮刀驱动件4410可以为多种直线驱动机构，譬如，第一刮刀驱动件4410可以为电动推杆、气缸、液压缸、丝杆螺母副机构、同步带或者齿轮齿条驱动机构等。在本实施例中，第一刮刀驱动件4410采用为气缸。

在一些实施例中，第一刮刀包括刀杆、刀架和一个主刀头，刀杆的一端与第一刮刀驱动件的驱动端连接，刀杆的另一端连接于刀架，主刀头设置于刀架。通过将主刀头设置于刀架上，刀架通过刀杆与第一刮刀驱动件驱动连接，在第一刮刀驱动件的作用下，利用一个主刀头可以实现对晶托板上表面的刮胶作业。

当然，主刀头的数量可以为一个，也可以为多个。

可选的，请参阅图5，第一刮刀4411包括刀杆44110、刀架44111和多个主刀头44112，刀杆44110的一端与第一刮刀驱动件4410的驱动端连接，刀杆44110的另一端连接于刀架44111，多个主刀头44112沿第一方向X间隔分布于刀架44111的相对两侧。由于清胶机构430地移动方向为第一方向X，且多个主刀头44112沿第一方向X间隔分布于刀架44111的相对两侧，这样在清胶机构430的往返移动过程中，第一刮刀4411均能实现对晶托板81上表面的往返刮胶，相比于单程刮胶而言，刮胶效果更好。

其中，第一刮刀4411在第二方向Y的尺寸不小于晶托板81的宽度方向的尺寸，晶托板81的宽度一般为170-210mm，那么第一刮刀4411在第二方向Y的尺寸可以为210mm，这样便可以兼顾170-210mm的晶托板81的清理。

在一些实施例中，多个主刀头44112包括第一主刀头44112a和第二主刀头44112b，第一主刀头44112a的上端和第二主刀头44112b的上端均与刀架44111连接，沿从上到下的方向上，第一主刀头44112a和第二主刀头44112b的距离逐渐增加。将多个主刀头44112包括第一主刀头44112a和第二主刀头44112b，第一主刀头44112a和第二主刀头44112b的距离逐渐增加，使得第一主刀头44112a和第二主刀头44112b在刀架44111上呈八字形分布并向外侧张开，第一刮刀4411在往返移动过程中，均能实现对晶托板81上表面的残胶有效刮除，且刮除的残胶在第一主刀头44112a或第二主刀头44112b的引导作用下向上并向外两侧散开，刮除的残胶不会停留在原位。

其中，主刀头44112的材质可以为高韧性、不生锈的钢刀材质。

在一些实施例中，请结合图4至图7，第二刮刀组件442包括两个第二子刮刀组件，两组第二子刮刀组件沿第二方向Y间隔分布于横移架431，第一方向X、第二方向Y和竖直方向Z两两垂直；每个第二子刮刀组件包括第二刮刀驱动件4420和第二刮刀4421，第二刮刀驱动件4420的驱动端与第二刮刀4421驱动连接，以带动第二刮刀4421沿第二方向Y靠近或远离清胶输送线420上的晶托板81的对应侧面。通过两组第二子刮刀组件沿第二方向Y间隔分布于横移架431，两组第二子刮刀组件中的两个刮刀能够在第二刮刀驱动件4420的作用下在第二方向Y相互远离和靠近，从而实现对晶托板81的两个侧面进行同步刮胶，刮胶效果好。

可以理解地，清胶输送线420上的晶托板81进入于清胶工位时，两个第二刮刀驱动件4420需先带动两个第二刮刀4421向外侧张开，以避让晶托板81，晶托板81移动到位后，第二刮刀驱动件4420带动两个第二刮刀4421相互靠近，以抵紧持于晶托板81的相对两侧面，然后对晶托板81的侧面进行刮胶处理。

第二刮刀驱动件4420可以为多种直线驱动机构，譬如，第二刮刀驱动件4420可以为电动推杆、气缸、液压缸、丝杆螺母副机构、同步带或者齿轮齿条4321驱动机构等。在本实施例中，第二刮刀驱动件4420采用为气缸。

其中，第一刮刀组件441和/或第二刮刀组件442的数量可以设为一组，也可以设为多组。

在一些实施例中，第一刮刀组件441和/或第二刮刀组件442的数量设为多组，多组第一刮刀组件441和/或第二刮刀组件442在横移架431上沿第一方向X间隔分布。通过将第一刮刀组件441和/或第二刮刀组件442的数量设为多组，多组第一刮刀组件441和/或第二刮刀组件442，相比于一组第一刮刀组件441和第二刮刀组件442而言，可以提高对晶托板81上残胶的清胶效率。

在本实施例中，第一刮刀组件441和第二刮刀组件442的数量均设为一组。

在一些实施例中，请结合图4至图7，清扫刷单元包括第一清扫刷组件451和第二清扫刷组件452，第一清扫刷组件451用于对晶托板81的上表面的残胶进行清扫，第二清扫刷组件452用于对晶托板81侧面的残胶进行清扫。利用第一清扫刷组件451可以对晶托板81的上表面的残胶进行清扫，利用第二清扫刷组件452可以对晶托板81侧面的残胶进行清扫，相比于仅利用刮刀单元对残胶进行刮除而言，利用清扫刷单元清扫配合刮刀单元的刮胶，对晶托板81上的残胶的清胶效果更好。

在一些实施例中，第一清扫刷组件451包括第一清扫刷升降件4510、第一清扫刷驱动件4511和第一清扫刷4512，第一清扫刷驱动件4511的驱动端与第一清扫刷4512驱动连接，以用于带动第一清扫刷4512转动，第一清扫刷驱动件4511安装于第一清扫刷升降件4510的驱动端，第一清扫刷升降件4510安装于横移架431，以用于驱动第一清扫刷4512沿竖直方向Z靠近或远离清胶输送线420上的晶托板81。第一清扫刷驱动件4511可以带动第一清扫刷4512转动，从而实现对晶托板81上表面的残胶进行清扫，在第一清扫刷升降件4510的驱动作用下，可以实现第一清扫刷4512与清胶输送线420上的晶托板81在竖直方向Z的靠近或远离，便于实现对晶托板81上表面的精准清扫。

其中，第一清扫刷升降件4510可以为多种直线驱动机构，譬如，第一清扫刷升降件4510可以为电动推杆、气缸、液压缸、丝杆螺母副机构、同步带或者齿轮齿条4321驱动机构等。在本实施例中，第一清扫刷升降件4510采用为气缸。第一清扫刷驱动件4511可以为驱动电机。

另外，第一清扫刷4512的尺寸也不小于晶托板81的宽度方向的尺寸，晶托板81的宽度一般为170-210mm，那么第一清扫刷4512在第二方向Y的尺寸可以为210mm，这样便可以兼顾170mm-210mm的晶托板81的清扫。

在一些实施例中，第二清扫刷组件452的数量设为两组，两组清扫刷组件沿第二方向Y间隔分布；每组第二清扫刷组件452包括第二清扫刷驱动件4520、第三清扫刷驱动件4521和第二清扫刷4522，第三清扫刷驱动件4521的驱动端与第二清扫刷4522驱动连接，以用于带动第二清扫刷4522转动；第二清扫刷驱动件4520安装于第二清扫刷驱动件4520的驱动端，第二清扫刷驱动件4520安装于横移架431，用于驱动第二清扫刷4522沿第二方向Y移动，以使第二清扫刷4522能够靠近或远离晶托板81的侧面。通过将第二清扫刷组件452的数量设为两组，两组清扫刷组件可以分别对应于晶托板81的两个侧面，第三清扫刷驱动件4521可以带动第一清扫刷4512转动，从而实现对晶托板81侧面的残胶进行清扫，在第二清扫刷4522升降件的驱动作用下，可以实现第二清扫刷4522与清胶输送线420上的晶托板81的水平靠近或远离，便于实现对晶托板81的侧面精准清扫。

其中，第二清扫刷驱动件4520可以为多种直线驱动机构，譬如，第二清扫刷驱动件4520可以为电动推杆、气缸、液压缸、丝杆螺母副机构、同步带或者齿轮齿条4321驱动机构等。在本实施例中，第二清扫刷驱动件4520采用为气缸。第三清扫刷驱动件4521可以为驱动电机。

另外，第二清扫刷4522可以包括两个侧刷，分别为第一侧刷45220和第二侧刷45221，第一侧刷45220和第二侧刷45221上下各一个，第一侧刷45220位于第二侧刷45221的上方，第一侧刷45220的尺寸小于第二侧刷45221，第一侧刷45220对晶托板81的侧面进行清理干净，第二侧刷45221能够伸入于晶托板81的底部边缘，对晶托板81的底部边缘进行清洁处理。

第一清扫刷4512和第二清扫刷4522的材质可以为多种，在本实施例中，第一清扫刷4512和第二清扫刷4522均为钢丝刷。

在一些实施例中，沿清胶输送线420的输送方向，第一清扫刷组件451在横移架431上相较于第一刮刀组件441位于清胶输送线420的下游；第二清扫刷组件452在横移架431上相较于第二刮刀组件442位于清胶输送线420的上游。将第一清扫刷组件451在横移架431上相较于第一刮刀组件441位于清胶输送线420的下游，这样横移架431带动清胶机构430往复移动时，在返程的时候，始终是第一刮刀组件441先对晶托的上表面刮除后再通过第一清扫刷组件451对晶托板81的上表面进行清扫，这样可以将晶托板81上表面的残胶清离于晶托板81。通过将第二清扫刷组件452在横移架431上相较于第二刮刀组件442位于清胶输送线420的上游，第二刮刀组件442在返程时不对晶托板81上的残胶进行刮除，因此往返程时第二清扫刷组件452均会对晶托板81的侧面进行清扫。

在一些实施例中，请参阅图8，清胶装置还包括水箱460和清洗管路，水箱460用于向清洗管路提供清洗水，清洗管路末端设置有冲洗喷头，冲洗喷头用于对晶托板81上的残胶进行冲洗。通过在清胶装置中设置有清洗管路和水箱460，水箱460可以向清洗管路提供清洗水，清洗管路喷出清洗水，可以对晶托板81上的残胶进行清理，并能实现对晶托板81的降温，即清洗管路可以起到对晶托板81的清洁和降温的双重作用。

在一些实施例中，冲洗喷头包括第一冲洗喷头和两个第二冲洗喷头，第一冲洗喷头朝向于晶托板81的上表面，两个第二冲洗喷头分别朝向晶托板81的两个侧面。通过第一冲洗喷头朝向于晶托板81的上表面喷出清洗水，可以对晶托板81的上表面的残胶进行清洁和降温，利用两个第二冲洗喷头分别朝向晶托板81的两个侧面喷出清洗水，可以实现对晶托板81的两个侧面上的残胶进行清洁和降温。

其中，冲洗喷头在机架410上的设置位置可以根据实际情况而定。

在一些实施例中，沿第一方向X，冲洗喷头位于刮刀单元和清扫刷单元之间。由于横移架431带动清胶装置在移动时为往返程式移动，因此通过将冲洗喷头位于刮刀单元和清扫刷单元之间，在对晶托板81上的残胶进行刮除或清扫后，利用冲洗喷头可以对刮除后清扫后的残胶进行清理，对晶托板81的清胶效果更好。

在一些实施例中，请参阅图8，水箱460内设置有用于将水箱460的内腔分隔为过滤腔463和存水腔的第一分隔板461，过滤腔463的内部或水箱460上设置有过滤网464，第一分隔板461上开设有用于使过滤腔463和存水腔相通的第一通水口4610，过滤网464用于过滤清胶机构430清胶后的清洗水且在清洁水的流动方向上位于第一通水口4610的上游段。通过第一分隔板461将水箱460分隔为过滤腔463和存水腔，借助于过滤腔463上的过滤网464，可以对清胶输送线420上清除的残胶和水进行收集过滤，让多余的水透过过滤网464进入于过滤腔463中，并通过第一通水口4610进入于存水腔中暂存。

其中，机架410为矩形框架结构，机架410的底部设置有支撑脚412。机架410在竖直方向Z具有中层架体411，清胶输送线420设置于中层架体411上。

清胶机构430在机架410上的位置可以为多种，譬如，清胶机构430可以设置在清胶输送线420的上方，即清胶机构430设置于机架410的顶部，水箱460可以位于清胶输送线420的下方，即位于中层架体411的下方。清胶机构430对清胶输送线420上清除的残胶和水可以在转移至下方的过滤腔463中，经过过滤网464过滤。机架410上设置有可拆卸式的透明观察窗415，透明观察窗415安装于机架410上并位于清胶输送线420的外侧，透明观察窗415的材质可以为亚克力。另外，过滤网464可以采用为二级过滤，过滤效果更好，能够将残胶分离在过滤网464上，定期对过滤网464进行清理便可，而细微尺寸的胶片便会通过过滤网464流到水箱460内沉淀。

在一些实施例中，请参阅图8，水箱460内设置有第二分隔板462，第二分隔板462用于将存水腔分隔为冷却腔465和加热腔466，冷却腔465通过第一通水口4610与过滤腔463相通，冷却腔465内设置有冷却管路4650，第二分隔板462上开设有用于使冷却腔465和加热腔466相通的第二通水口4620，加热腔466内设置有加热部件4660，加热腔466与清洗管路相通。因为晶托经过电磁脱胶设备后分离的晶托板81为热的，经过清洁管路冲洗后，水箱460内的水温慢慢会变高，因此通过在水箱460内设置有第二分隔板462，第二分隔板462将存水腔分隔为冷却腔465和加热腔466，利用冷却腔465内的冷却管路4650可以对冷却腔465内的水进行冷却控温。而通过在加热腔466内设置有加热部件4660，因为对于冬季而言，水温较低，当冬季的水温度低于20度时，水温太低影响清胶效果，加热管快速进行加热到30度，保证合适的温度。

其中，加热部件4660可以为多种加热机构，譬如，加热部件4660可以为蒸汽换热管、电加热丝或者加热器等。清洁管路上设置有水泵，水泵可以将加热腔466内的水抽出至冲洗喷头进行清洁处理。

在一些实施例中，过滤腔463、冷却腔465和加热腔466的至少一者设置有排水管路467，排水管路467设置有排水阀。通过在过滤腔463、冷却腔465或加热腔466设置有排水管路467，仅需要打开排水阀，便可以定期对水箱460内的残留的胶片杂质进行清理。

在本实施例中，冷却腔465和加热腔466均设置有排水管路467。

其中，水箱460设置有补水组件，补水组件包括补水管路468，补水管路468的一端连接有供水系统，另一端与水箱460相通。补水组件包括控制器和液位传感器，补水管路468的一端连接有供水系统，另一端与水箱460相通，液位传感器设置于水箱460以用于监测水箱460内的清洗水的液位，补水管路468上设置有电磁阀，电磁阀和液位传感器均与控制器电连接，当水箱460内清洗水的液位低于阈值时，控制器控制补水管路468的控制阀打开，以向水箱460补充清洗水。另外，冷却腔465设置有液温传感器469。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例中的特征可以相互结合。

以上所述仅为本申请的优选实施例而已，并不用于限制本申请，对于本领域的技术人员来说，本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (21)

1.一种清胶装置，其特征在于，包括：

机架；

清胶输送线，沿第一方向延伸设置于所述机架，所述清胶输送线用于输送与垫板分离后的晶托板；

清胶机构，设置于所述机架，所述清胶机构用于对位于所述清胶输送线上的晶托板的残胶进行清理；

其中，所述清胶机构包括刮刀单元，所述刮刀单元用于对晶托板的残胶进行刮除。

2.如权利要求1所述的清胶装置，其特征在于，所述清胶机构还包括清扫刷单元，所述清扫刷单元用于清扫晶托板上的残胶。

3.如权利要求2所述的清胶装置，其特征在于，所述清胶机构包括横移架和横移驱动单元，所述刮刀单元和所述清扫刷单元均设置于所述横移架，所述横移驱动单元用于驱动所述横移架沿所述第一方向往复移动。

4.如权利要求3所述的清胶装置，其特征在于，所述刮刀单元包括第一刮刀组件和第二刮刀组件，所述第一刮刀组件用于对晶托板的上表面的残胶进行刮除，所述第二刮刀组件用于对晶托板侧面的残胶进行刮除。

5.如权利要求4所述的清胶装置，其特征在于，所述第一刮刀组件包括第一刮刀驱动件和第一刮刀，所述第一刮刀驱动件安装于所述横移架，所述第一刮刀驱动件的驱动端与所述第一刮刀驱动连接，以用于驱动所述第一刮刀沿竖直方向靠近或远离所述清胶输送线上的晶托板。

6.如权利要求5所述的清胶装置，其特征在于，所述第一刮刀包括刀杆、刀架和一个主刀头，所述刀杆的一端与所述第一刮刀驱动件的驱动端连接，所述刀杆的另一端连接于所述刀架，所述主刀头设置于所述刀架。

7.如权利要求5所述的清胶装置，其特征在于，所述第一刮刀包括刀杆、刀架和多个主刀头，所述刀杆的一端与所述第一刮刀驱动件的驱动端连接，所述刀杆的另一端连接于所述刀架，多个所述主刀头沿所述第一方向间隔分布于所述刀架的相对两侧。

8.如权利要求7所述的清胶装置，其特征在于，多个所述主刀头包括第一主刀头和第二主刀头，所述第一主刀头的上端和所述第二主刀头的上端均与所述刀架连接，沿从上到下的方向上，所述第一主刀头和所述第二主刀头的距离逐渐增加。

9.如权利要求4所述的清胶装置，其特征在于，所述第二刮刀组件包括两个第二子刮刀组件，两组所述第二子刮刀组件沿第二方向间隔分布于所述横移架，所述第一方向、所述第二方向和竖直方向两两垂直；

每个所述第二子刮刀组件包括第二刮刀驱动件和第二刮刀，所述第二刮刀驱动件的驱动端与所述第二刮刀驱动连接，以带动所述第二刮刀沿所述第二方向靠近或远离所述清胶输送线上的晶托板的对应侧面。

10.如权利要求4所述的清胶装置，其特征在于，所述第一刮刀组件和/或所述第二刮刀组件的数量设为多组，多组所述第一刮刀组件和/或所述第二刮刀组件在所述横移架上沿所述第一方向间隔分布。

11.如权利要求4所述的清胶装置，其特征在于，所述清扫刷单元包括第一清扫刷组件和第二清扫刷组件，所述第一清扫刷组件用于对晶托板的上表面的残胶进行清扫，所述第二清扫刷组件用于对晶托板侧面的残胶进行清扫。

12.如权利要求11所述的清胶装置，其特征在于，所述第一清扫刷组件包括第一清扫刷升降件、第一清扫刷驱动件和第一清扫刷，所述第一清扫刷驱动件的驱动端与所述第一清扫刷驱动连接，以用于带动所述第一清扫刷转动，所述第一清扫刷驱动件安装于所述第一清扫刷升降件的驱动端，所述第一清扫刷升降件安装于所述横移架，以用于驱动所述第一清扫刷沿竖直方向靠近或远离所述清胶输送线上的晶托板。

13.如权利要求11所述的清胶装置，其特征在于，所述第二清扫刷组件的数量设为两组，两组所述清扫刷组件沿第二方向间隔分布；每组所述第二清扫刷组件包括第二清扫刷驱动件、第三清扫刷驱动件和第二清扫刷，所述第三清扫刷驱动件的驱动端与所述第二清扫刷驱动连接，以用于带动所述第二清扫刷转动；所述第二清扫刷驱动件安装于所述第二清扫刷驱动件的驱动端，所述第二清扫刷驱动件安装于所述横移架，用于驱动所述第二清扫刷沿第二方向移动，以使所述第二清扫刷能够靠近或远离晶托板的侧面。

14.如权利要求11所述的清胶装置，其特征在于，沿所述清胶输送线的输送方向，所述第一清扫刷组件在所述横移架上相较于所述第一刮刀组件位于所述清胶输送线的下游；所述第二清扫刷组件在所述横移架上相较于所述第二刮刀组件位于所述清胶输送线的上游。

15.如权利要求2所述的清胶装置，其特征在于，所述清胶装置还包括水箱和清洗管路，所述水箱用于向所述清洗管路提供清洗水，所述清洗管路末端设置有冲洗喷头，所述冲洗喷头用于对晶托板上的残胶进行冲洗。

16.如权利要求15所述的清胶装置，其特征在于，所述冲洗喷头包括第一冲洗喷头和两个第二冲洗喷头，所述第一冲洗喷头朝向于晶托板的上表面，两个所述第二冲洗喷头分别朝向晶托板的两个侧面。

17.如权利要求15所述的清胶装置，其特征在于，沿所述第一方向，所述冲洗喷头位于所述刮刀单元和清扫刷单元之间。

18.如权利要求15所述的清胶装置，其特征在于，所述水箱内设置有用于将所述水箱的内腔分隔为过滤腔和存水腔的第一分隔板，所述过滤腔的内部或所述水箱上设置有过滤网，所述第一分隔板上开设有用于使所述过滤腔和存水腔相通的第一通水口，所述过滤网用于过滤所述清胶机构清胶后的清洗水且在清洁水的流动方向上位于所述第一通水口的上游段。

19.如权利要求18所述的清胶装置，其特征在于，所述水箱内设置有第二分隔板，所述第二分隔板用于将所述存水腔分隔为冷却腔和加热腔，所述冷却腔通过所述第一通水口与所述过滤腔相通，所述冷却腔内设置有冷却管路，所述第二分隔板上开设有用于使所述冷却腔和所述加热腔相通的第二通水口，所述加热腔内设置有加热部件，所述加热腔与所述清洗管路相通。

20.如权利要求19所述的清胶装置，其特征在于，所述过滤腔、所述冷却腔和所述加热腔的至少一者设置有排水管路，所述排水管路设置有排水阀。

21.一种晶托分离生产线，其特征在于，包括根据权利要求1-20任一项所述的清胶装置。