CN220691979U - 晶托分离生产线 - Google Patents
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Abstract
本申请实施例提供一种晶托分离生产线。晶托分离生产线包括沿晶托的输送方向依次分布的翻转上料装置、电磁加热装置、垫板分离装置、清胶装置、超声波清洗装置及漂洗冷却装置;翻转上料装置用于将晶托翻转,以使垫板位于晶托板的上方;电磁加热装置用于对翻转后的晶托进行加热以使晶托板与垫板之间的胶水软化;垫板分离装置用于将加热后的晶托的垫板与晶托板分离;清胶装置用于清理分离后的晶托板上的胶水;超声波清洗装置用于对清胶装置处理后的晶托板进行超声波清洗;漂洗冷却装置用于对超声波清洗后的晶托板进行冲洗和降温。晶托分离生产线能够提高晶托分离效率,能耗低。
Description
技术领域
本申请涉及硅片加工技术领域,具体而言,涉及一种晶托分离生产线。
背景技术
在硅片加工领域,将硅棒通过切片机加工成硅片,硅棒通过双组分胶水粘接在垫板(树脂板或塑料板)上,垫板则通过双组分胶水粘接在金属材质的晶托板上,每一根硅棒加工完之后会进行脱胶处理,此过程中硅片会和垫板脱离,垫板因为在切割过程中有被加工到,所以直接报废处理,晶托板则需要进一步脱胶与垫板分离以实现重复使用。
目前,实现垫板与晶托板分离的方法主要是热水浴法,现有生产线不能适配晶托结构,效率低、能耗高、劳动强度大且浪费水资源。因此,需求一种新型的自动生产线装置,考虑如何提高分离效率、降低能耗是本领域技术人员亟需解决的技术问题。
实用新型内容
本申请提供一种晶托分离生产线,能够提高晶托分离效率,能耗低。
本申请是通过下述技术方案实现的:
本申请实施例提供了一种晶托分离生产线,晶托包括金属材质的晶托板和温度变化后可发生形变的垫板,垫板粘接于晶托板上,晶托分离生产线用于分离晶托板与垫板,晶托分离生产线包括沿晶托的输送方向依次分布的翻转上料装置、电磁加热装置、垫板分离装置、清胶装置、超声波清洗装置及漂洗冷却装置;翻转上料装置用于将晶托翻转,以使垫板位于晶托板的上方;电磁加热装置用于对翻转后的晶托进行加热以使晶托板与垫板之间的胶水软化;垫板分离装置用于将加热后的晶托的垫板与晶托板分离;清胶装置用于清理分离后的晶托板上的胶水;超声波清洗装置用于对清胶装置处理后的晶托板进行超声波清洗;漂洗冷却装置用于对超声波清洗后的晶托板进行冲洗和降温。
根据本申请实施例的晶托分离生产线,通过翻转上料机构将晶托翻转并上料至加热工位,晶托翻转后,垫板位于晶托板的上方,以便于后续工序作业;通过电磁加热装置对晶托进行电磁加热,能够快速加热晶托,以使晶托板与垫板之间的胶水软化,降低垫板推离晶托板的阻力,以利于垫板与晶托板分离;通过垫板分离装置推动垫板相对于晶托板移动,以将垫板与晶托板分离;通过清胶装置清理与垫板分离后的晶托板上的胶水,以便于晶托板再次利用;通过超声波清洗装置对晶托板进行超声波清洗,能够清洗掉晶托板上的残余胶水及污渍,清洗效果较好;通过漂洗冷却装置对晶托板进行冲洗和降温,能够提高晶托板的清洁度,降低晶托板的温度,以便于晶托板再次利用。采用本申请的晶托分离生产线对晶托进行分离,分离效果好,分离效率高,能耗低。
本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本申请的实践了解到。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本申请一些实施例提供的晶托分离生产线的结构示意图;
图2为本申请一些实施例提供的翻转上料装置的示意图;
图3为本申请一些实施例提供的晶托的示意图;
图4为本申请一些实施例提供的翻转机构的示意图;
图5为本申请一些实施例提供的翻转承接部和翻转驱动部的示意图;
图6为本申请一些实施例提供的上料机构的示意图;
图7为本申请一些实施例提供的第一移送部的示意图;
图8为本申请一些实施例提供的第一导轨的示意图;
图9为本申请一些实施例提供的第二导轨的示意图;
图10为本申请一些实施例提供的上料机架的示意图;
图11为本申请一些实施例提供的电磁加热装置的结构示意图;
图12为本申请一些实施例提供的调整机构与基座的装配示意图;
图13为本申请一些实施例提供的第一传动件的结构示意图;
图14为本申请一些实施例提供的第二传动件在第一水平方向上两个位置的对照图;
图15为本申请一些实施例提供的电磁加热装置的装配图;
图16为本申请一些实施例提供的滚刷机构的结构示意图;
图17为本申请一些实施例提供的加热输送线机构的结构示意图;
图18为本申请一些实施例提供的垫板分离装置的结构示意图;
图19为本申请一些实施例提供的主体框架的结构示意图;
图20为本申请一些实施例提供的推料驱动件与推料固定板的装配示意图;
图21为本申请一些实施例提供的料斗与底盘的装配示意图;
图22为本申请一些实施例提供的料斗的结构示意图;
图23为本申请一些实施例提供的清胶装置的结构示意图;
图24为图23中取下第一水箱后的结构示意图;
图25为图24的正视图;
图26为图25中A的放大示意图;
图27为本申请一些实施例提供的第一刮刀组件的结构示意图;
图28为本申请一些实施例提供的清胶装置另一角度的结构示意图;
图29为图28中B的放大示意图;
图30为本申请一些实施例提供的第一水箱的结构示意图;
图31为本申请一些实施例提供的超声波清洗装置中超声波清洗池的结构示意图;
图32为图31中超声波振子安装于超声波清洗池的结构示意图;
图33为本申请一些实施例提供的超声波清洗装置另一角度的结构示意图;
图34为本申请一些实施例提供的超声波清洗池的正剖视图;
图35为本申请一些实施例提供的副池体的结构示意图;
图36为本申请一些实施例提供的工件托举组件的结构示意图;
图37为本申请一些实施例提供的晶托板的结构示意图;
图38为本申请一些实施例提供的超声波清洗装置的结构示意图;
图39为本申请一些实施例提供的超声波清洗装置中清洗输送线的结构示意图;
图40为本申请一些实施例提供的超声波清洗装置中清洗机架的结构示意图;
图41为图40中清洗机架覆盖有挡板后的结构示意图;
图42为本申请一些实施例提供的超声波清洗装置中抓取单元的结构示意图;
图43为图42中横移板与第五导轨配合的结构示意图;
图44为图42中第二横移驱动单元的结构示意图;
图45为图42中升降驱动单元的结构示意图;
图46为图42中抓取部的结构示意图;
图47为本申请一些实施例提供的漂洗冷却装置的结构示意图;
图48为本申请一些实施例提供的冷却输送线的结构示意图;
图49为本申请一些实施例提供的喷淋管和喷淋头的结构示意图;
图50为本申请一些实施例提供的冷却水管路的结构示意图;
图51为本申请一些实施例提供的第二水箱的结构示意图。
图标:100-翻转上料装置;11-翻转机构;110-翻转承接部;1101-第一夹持部;1102-第二夹持部;11020-第二子夹持部;1103-转动架;1104-夹持口;111-翻转驱动部;112-上料输送线;1120-链条输送线;113-位置传感器;1110-电机;1111-第一减速机;1112-联轴器;1113-翻转轴;12-上料机构;120-晶托固定部;121-移送组件;1210-第一移送部;12100-安装件;12100a-第一安装板;12100b-第二安装板;12100c-第三安装板;12101-第一导轨;12102-第一滑块;12103-第一驱动件;12104-第一齿轮;12105-第一齿条;1211-第二移送部;12110-第二导轨;12112-第二驱动件;12114-第二齿条;13-上料机架;130-第一框架;131-网格防护门;132-底座;1320-第一接水盒;200-电磁加热装置;21-电磁加热机构;22-调整机构;221-第一连接板;222-第一驱动件;223-第一传动件;2231-传动件本体;2231a-第一表面;2231b-第二表面;2232-输入部;2233-输出部;224-第二传动件;2241-滑槽;225-第三导轨;226-第三滑块;227-第二驱动件;228-加热器固定板;229-导向杆;230-限位板;231-直线轴承组件;24-基座;25-第一防护罩;251-第一观察窗;26-滚刷机构;261-第三驱动件;262-传动组件;263-滚刷;264-滚刷调节板;2641-第一长条孔;2642-第一螺栓;265-第一固定板;2651-第二长条孔;2652-第二螺栓;266-滚刷调整组件;2661-第一调整块;2662-第二调整块;2663-调整件;2664-锁紧螺母;27-第二防护罩;28-加热输送线机构;281-框架底座;282-链条输送线;2821-安装座;2822-驱动电机;2823-链轮;2824-链条;283-脚杯;284-万向轮;29-排风机构;291-罩体;292-排风机;300-垫板分离装置;31-分离输送线机构;311-分离输送线;312-垫板导向板;32-推料机构;321-推料驱动件;322-侧推板;323-推料防护罩;33-废料收集机构;331-料斗;332-底盘;333-行走轮;334-料斗转轴;335-把手;34-主体框架;35-第二接水盒;36-第一导向轴;361-直线轴承;37-晶托压块;38-推料固定板;400-清胶装置;410-清胶机架;411-中层架体;412-支撑脚;413-第四导轨;414-限位开关;415-第二观察窗;420-清胶输送线;430-清胶机构;431-横移架;4310-第四滑块;432-第一横移驱动单元;4320-主驱电机;4321-第三齿条;441-第一刮刀组件;4410-第一刮刀驱动件;4411-第一刮刀;44110-刀杆;44111-刀架;44112-主刀头;44112a-第一主刀头;44112b-第二主刀头;442-第二刮刀组件;4420-第二刮刀驱动件;4421-第二刮刀;451-第一清扫刷组件;4510-第一清扫刷升降件;4511-第一清扫刷驱动件;4512-第一清扫刷;452-第二清扫刷组件;4520-第二清扫刷驱动件;4521-第三清扫刷驱动件;4522-第二清扫刷;45220-第一侧刷;45221-第二侧刷;460-第一水箱;461-第一分隔板;4610-第一通水口;462-第二分隔板;4620-第二通水口;463-过滤腔;464-过滤网;465-冷却腔;4650-冷却管路;466-加热腔;4660-第一加热部件;467-排水管路;468-补水管路;469-液温传感器;500-超声波清洗装置;510-清洗机架;511-上层框架;512-下层框架;513-挡板;514-支撑杆件;515-支撑脚;520-超声波清洗池;521-底壁;522-侧壁;5220-第一侧壁;5221-第二侧壁;523-超声波振子;524-第二加热部件;525-第一回液口;526-导向斜面;530-副池体;531-第一进液口;533-净化管路;534-过滤器;535-水泵;536-阻挡部;537-第一腔体;5370-第一排污口;5371-第一排污阀;538-第二腔体;5380-第二排污口;5381-第二排污阀;539-液位传感器;5391-补水管路;540-工件托举组件;541-托架;5411-承托部;5412-支撑柱;5413-连接部;5414-托举驱动件;5416-第一直线轴承;550-清洗输送线;551-第三接水盒;552-排水管;553-挡水板;560-抓取单元;561-第五导轨;562-横移板;563-第五滑块;564-第二横移驱动单元;5640-第一伺服电机;5641-第二减速机;5642-第四齿轮;5643-第四齿条;565-升降驱动单元;5650-第二伺服电机;5651-升降机;5652-丝杆;5653-保护套筒;5654-连接法兰;566-抓取部;5660-第二导向轴;5661-第二固定板;5662-磁性吸附件;5663-弹簧;5664-弹簧轴;5665-第二直线轴承;5666-接近开关;570-轴流风机;580-触摸屏;600-漂洗冷却装置;61-喷淋组件;611-第二水箱;6111-水箱补水口;6112-水箱出水口;6113-水箱排水口;6114-水箱溢流口;6115-接水盒连接孔;612-喷淋驱动件;613-喷淋管;614-喷淋头;615-冷却水管路;6151-冷却水管路进水口;6152-冷却水管路出水口;616-不锈钢保持条;62-吹风组件;621-鼓风机;622-风刀;63-第二框架;64-冷却输送线;641-尼龙条;65-第四接水盒;700-第一输送线;70-避空槽;71-转动辊;800-晶托;81-晶托板;82-垫板;1000-晶托分离生产线。
具体实施方式
为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
除非另有定义,本申请所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同;本申请中在申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限定本申请;本申请的说明书和权利要求书及上述附图说明中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含。本申请的说明书和权利要求书或上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象,而不是用于描述特定顺序或主次关系。
在本申请中提及“实施例”意味着,结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例,也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是,本申请所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“附接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
本申请中术语“和/或”,仅仅是一种描述关联对象的关联关系,表示可以存在三种关系,例如,A和/或B,可以表示:单独存在A,同时存在A和B,单独存在B这三种情况。另外,本申请中字符“/”,一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
本申请中出现的“多个”指的是两个以上(包括两个),同理,“多组”指的是两组以上(包括两组),“多片”指的是两片以上(包括两片)。
在硅片与晶托分离作业时,为了便于硅片的收集,垫板位于晶托板的下方。在完成硅片分离后,需要进行晶托分离作业,也即,将垫板与晶托板分离,分离后,晶托板经清胶、清洗后再次利用。本申请提供的晶托分离生产线用于晶托板与垫板的分离、以及晶托板的清胶、清洗等处理。
下面结合附图介绍晶托分离生产线的结构。
本申请实施例提供了一种晶托分离生产线,该晶托分离生产线包括沿晶托的输送方向依次分布的翻转上料装置、电磁加热装置、垫板分离装置、清胶装置、超声波清洗装置及漂洗冷却装置。翻转上料装置用于将晶托翻转,以使垫板位于晶托板的上方;电磁加热装置用于对翻转后的晶托进行加热以使晶托板与垫板之间的胶水软化;垫板分离装置用于将加热后的晶托的垫板与晶托板分离;清胶装置用于清理分离后的晶托板上的胶水;超声波清洗装置用于对清胶装置处理后的晶托板进行超声波清洗;漂洗冷却装置用于对超声波清洗后的晶托板进行冲洗和降温。
根据本申请实施例的晶托分离生产线,通过翻转上料机构将晶托翻转并上料至加热工位,晶托翻转后,垫板位于晶托板的上方,以便于后续工序作业;通过电磁加热装置对晶托进行电磁加热,能够快速加热晶托,以使晶托板与垫板之间的胶水软化,降低垫板推离晶托板的阻力,以利于垫板与晶托板分离;通过垫板分离装置推动垫板相对于晶托板移动,以将垫板与晶托板分离;通过清胶装置清理与垫板分离后的晶托板上的胶水,以便于晶托板再次利用;通过超声波清洗装置对晶托板进行超声波清洗,能够清洗掉晶托板上的残余胶水及污渍,清洗效果较好;通过漂洗冷却装置对晶托板进行冲洗和降温,能够提高晶托板的清洁度,降低晶托板的温度,以便于晶托板再次利用。采用本申请的晶托分离生产线对晶托进行分离,分离效果好,分离效率高,能耗低。
下面结合附图介绍翻转上料装置的结构。
请参照图2和图3,翻转上料装置100包括上料机构12、翻转机构11和第一输送线700。上料机构12用于获取并转运晶托800。翻转机构11用于承接并翻转由上料机构12转运的晶托800,以使得垫板82处于晶托板81的上方。第一输送线700用于承接由翻转机构11翻转后的晶托800并输送晶托800。
上料机构12可以用于由上一工位获取晶托800,并将晶托800转运给翻转机构11。在一些实施例中,上料机构12可以包括晶托固定部120和移送组件121,晶托固定部120用于固定晶托800,移送组件121用于驱使晶托固定部120移动,以能够由上一工位获取晶托800,并将晶托800转运至翻转机构11上。在其他一些实施例中,上料机构12也可以包括多轴机械手,多轴机械手可以抓取晶托800并将晶托800转运至翻转机构11上。
在一些实施例中,硅片脱胶处理后,晶托800为垫板82处于晶托板81的下方的姿态。当晶托800被输送至电磁加热装置时,晶托800可以为垫板82处于晶托板81的上方的姿态,以便于呈金属材质的晶托板81被电磁加热。
翻转机构11可以用于承接由上料机构12转运的晶托800,并将该晶托800翻转,以利于后续工序中,晶托板81被电磁加热,利于晶托板81和垫板82的分离。“将该晶托800翻转”可以理解为,通过翻转晶托800,使得晶托800由“垫板82处于晶托板81的下方的姿态”切换至“垫板82处于晶托板81的上方的姿态”。
第一输送线700可以用于承接由翻转机构11翻转后的晶托800,使得晶托800以垫板82处于晶托板81的上方的姿态向下一个工序输送,例如向电磁加热装置输送。
在一些实施例中,第一输送线700可以包括皮带输送线、辊筒输送线或者其他能够输送晶托800的部件。
根据本申请实施例的翻转上料装置100,上料机构12从上一工位获取晶托800,通过翻转机构11工作,将晶托800翻转,使得垫板82处于晶托板81的上方(在该姿态下,利于晶托800的加热以利于晶托800的分离),以便于第一输送线700将处于该姿态的晶托800运输至下一工位,从而实现上料的自动化,有效降低晶托800上料的劳动强度,提高上料效率,进而提高晶托800的分离效率。
根据本申请的一些实施例,请参见图4和图5,翻转机构11包括翻转承接部110和翻转驱动部111,翻转固定部用于承接由上料机构12转运的晶托800。翻转驱动部111与翻转承接部110连接,翻转驱动部111用于驱使翻转承接部110在第一位置和第二位置之间翻转,在翻转承接部110处于第一位置时,翻转承接部110用于承接上料机构12转运的晶托800,在翻转承接部110处于第二位置时,翻转承接部110将晶托800放置在第一输送线700上。
翻转承接部110为翻转机构11用于承接晶托800,且翻转承接部110在翻转驱动部111的驱动下翻转,以在第一位置和第二位置之间翻转切换。
第一位置可以理解为,当翻转承接部110处于第一位置时,能够接收由上料机构12转运的晶托800。第二位置可以理解为,通过翻转驱动部111的驱动,翻转承接部110绕翻转轴线转动,以使得被翻转承接部110承接的晶托800的姿态翻转,且被翻转后的晶托800能够处于第一输送线700上。
翻转驱动部111与翻转承接部110连接,用于向翻转承接部110的翻转提供驱动力。在一些实施例中,翻转驱动部111可以包括电机,通过电机输出的扭矩使得翻转驱动部111沿翻转轴线转动,从而在第一位置和第二位置之间切换。
上述方案中,翻转机构11包括翻转承接部110和翻转驱动部111。翻转承接部110通过翻转驱动部111的驱使,能够在适于承接上料机构12转运的晶托800的第一位置和将晶托800放置于第一输送线700上的第二位置之间翻转。
在翻转承接部110翻转的过程中,被翻转承接部110所承接的晶托800也跟随翻转,晶托800能够以垫板82处于晶托板81的上方的姿态被放置在第一输送线700上,实现晶托800翻转的自动化,从而有效降低劳动强度,提高上料效率,进而利于晶托800分离效率的提高。
根据本申请的一些实施例,参见图2,第一输送线700具有避空槽70,避空槽70用于容纳翻转承接部110的至少部分。翻转承接部110被配置为在第二位置时,翻转承接部110的一部分容纳于避空槽70中,晶托板81被第一输送线700承接。
避空槽70可以理解为,在第一输送线700上开设有成凹陷状的避空槽70,当翻转承接部110由第一位置切换至第二位置时,翻转承接部110的至少部分能够容纳于避空槽70中,以使得被翻转承接部110承接的晶托800能够与第一输送线700接触,使得第一输送线700与晶托800之间产生摩擦力,从而使得晶托800随第一输送线700移动。
在一些实施例中,第一输送线700可以为辊筒输送线,避空槽70可以通过增大相邻两个滚筒之间的间隙形成。在其他一些实施例中,第一输送线700也可以为皮带输送线,避空槽70可以通过在皮带上开设若干通孔实现,皮带的运动频率对应于翻转机构11的翻转频率,当翻转承接部110由第一位置切换至第二位置时,皮带上的通孔处于对应的位置,以能够容纳翻转承接部110的至少部分。
上述方案中,通过在第一输送线700上设置避空槽70收容翻转承接部110的至少部分,从而能够使得晶托板81与第一输送线700的输送界面接触,以使得晶托板81在第一输送线700的作用下,脱离于翻转承接部110并输送至下一工位。
根据本申请的一些实施例,参见图5,翻转承接部110包括第一夹持部1101和第二夹持部1102,第一夹持部1101和第二夹持部1102在翻转承接部110的翻转方向上间隔开以容纳晶托800。
第一夹持部1101和第二夹持部1102在翻转承接部110的翻转方向上间隔设置,第一夹持部1101和第二夹持部1102之间形成用于容纳晶托800的空间。
在一些实施例中,第一夹持部1101和第二夹持部1102可以沿着翻转承接部110的翻转轴线转动,以使得位于第一夹持部1101和第二夹持部1102之间的晶托800由“垫板82处于晶托板81的下方的姿态”切换至“垫板82处于晶托板81的上方的姿态”。
在一些实施例中,晶托800处于第一夹持部1101和第二夹持部1102之间时,晶托800可以仅与第一夹持部1101和第二夹持部1102中的一者接触。换而言之,在晶托800翻转的过程中,当晶托800与第一夹持部1101和第二夹持部1102中的一者接触时,晶托800与另一者间隔设置。
在一些实施例中,当翻转承接部110收容于避空槽70时,晶托800被第一输送线700支撑,晶托800可以不与第一夹持部1101接触,也不与跌夹持部接触,利于晶托800随第一输送线700移动。
在一些实施例中,第一夹持部1101和第二夹持部1102相互朝向的表面均可以为平整面,以稳定地支撑晶托800。在一些实施例中,第一夹持部1101和第二夹持部1102相互朝向的表面可以设置有防滑层,以提高与晶托800之间的摩擦力,降低晶托800脱离于翻转承接部110的风险,防滑层可以为设置于第一夹持部1101或跌夹持部表面的凹凸层,也可以为设置于第一夹持部1101或跌夹持部表面的橡胶层等。
上述方案中,翻转承接部110结构简单,便于制造。通过设置在翻转承接部110的翻转方向上相互间隔的第一夹持部1101和第二夹持部1102,一方面便于容纳承接晶托800,降低晶托800在翻转过程中脱落于翻转承接部110的风险;另一方面当翻转承接部110被收容于避让槽中时,晶托800在第一输送线700的作用下,能够快速地通过第一夹持部1101和第二夹持部1102之间的间隙,从而随第一输送线700运输至下一工位。
在其他一些实施例,翻转承接部110还可以包括机械手或者其他能够做出夹持动作的夹具,夹具能够抓取或者放下晶托800,例如夹具在第一位置时,由上一工位夹取晶托800,夹具在第二位置时,取消对晶托800的夹持力。
根据本申请的一些实施例,在翻转承接部110从第一位置转动至第二位置的过程中,晶托800由第一夹持部1101承接转变为由第二夹持部1102承接。在翻转承接部110处于第二位置时,避空槽70收容第二夹持部1102的至少部分。
在一些实施例中,在翻转承接部110处于第一位置并承接晶托800时,第一夹持部1101可以处于晶托800的下方以支撑晶托800。随翻转承接部110的翻转,克服晶托800重力的部件由第一夹持部1101转变为第二夹持部1102,在翻转承接部110切换至第二位置时,第二夹持部1102可以处于晶托800的下方以支撑晶托800。
“避空槽70收容第二夹持部1102的至少部分”可以理解为,当翻转承接部110处于第二位置时,第二夹持部1102的部分或者全部第二夹持部1102可以容纳于避空槽70中。
在一些实施例中,当翻转承接部110处于第二位置时,第一夹持部1101的部分或者全部第一夹持部1101可以收容于避空槽70内。
上述方案中,一方面,通过设置第一夹持部1101和第二夹持部1102分别承接晶托800,降低晶托800脱离于翻转承接部110的风险,另一方面,通过设置避让槽以收容第二夹持部1102的至少部分,能够让晶托800与第一输送线700的输送界面接触,以使得晶托板81在第一输送线700的作用下,脱离于第二夹持部1102并输送至下一工位,进而提高上料的效率,进而提高晶托800分离的效率。
根据本申请的一些实施例,参见图5并结合图2,在第一输送线的输送方向(X方向)上,第二夹持部1102包括多个间隔开的第二子夹持部11020,第一输送线700上设置有多个间隔开的避空槽70,在翻转承接部110处于第二位置时,每个第二子夹持部11020收容在对应的避空槽70内。其中,第一输送线700包括多个用于输送晶托800的转动辊71,至少部分相邻的两个避空槽70之间设置有承接晶托800的转动辊71。
在一些实施例中,第二夹持部1102包括多个第二子夹持部11020,例如包括两个、三个或者更多个的第二子夹持部11020。
第二子夹持部11020可以呈杆状,多个呈杆状的第二子夹持部11020沿第一输送线的输送方向(X方向)间隔设置。相邻两个第二子夹持部11020之间的间隙能够暴露于晶托800的部分。第一输送线的输送方向(X方向)可以与翻转承接部110的翻转轴线平行。
第一输送线700上设置有多个避空槽70。避空槽70的数量和第二子夹持部11020的数量对应,例如避空槽70的数量和第二子夹持部11020的数量一致,以使得每一个第二子夹持部11020能够被对应的避空槽70收容。
第一输送线700可以为辊筒输送线,也即第一输送线700包括多个用于输送晶托800的转动辊71,通过转动辊71的转动,以为晶托800提供滚动摩擦力,从而实现对晶托800的运输。
“至少部分相邻的两个避空槽70之间设置有承接晶托800的转动辊71”可以理解为,被相邻两个第二子夹持部11020之间的间隙暴露的晶托800的部分能够受到转动辊71的作用,实现晶托800的运输。
在一些实施例中,晶托800受转动辊71作用的部分,包括位于相邻两个第二子夹持部11020之间的部位;包括沿第一输送线的输送方向(X方向),晶托800超出于第二夹持部1102的部分;或者包括位于相邻两个第二子夹持部11020之间的部位以及沿第一输送线的输送方向(X方向),晶托800超出于第二夹持部1102的部分。
在一些实施例中,在第一输送线的输送方向(X方向)上,第一夹持部1101也可以包括多个间隔开的第一子夹持部。或者,在其他一些实施例中,第一夹持部1101为一个整体结构,第一夹持部1101为一个板状结构。
上述方案中,一方面,通过设置多个间隔开的第二子夹持部11020,能够稳定且受力均匀地承接晶托800,降低晶托800脱离于翻转承接部110的风险;另一方面,多个间隔开的第二子夹持部11020能够对应于避空槽70之间的转动辊71,使得晶托800的暴露于相邻两个第二子夹持部11020之间的部分能够被避空槽70之间的转动辊71作用,从而利于第一输送线700运输晶托800,提高上料效率,进而提高晶托800分离的效率。
在一些实施例中,第二夹持部1102可以不包括多个间隔开的第二子夹持部11020,例如,第二夹持部1102为一个整体结构,当第二夹持部1102收容于避空槽70内时,沿第一输送线的输送方向(X方向),晶托800超出于第二夹持部1102的部分被转动辊71作用以使得晶托800脱离于第二夹持部1102并随第一输送线700移动。
根据本申请的一些实施例,请参见图4,翻转机构11还包括上料输送线112,上料输送线112用于承接上料机构12转运的晶托800,且将晶托800运输至翻转承接部110。翻转承接部110还包括转动架1103,转动架1103和翻转驱动部111连接,第一夹持部1101的一端和第二夹持部1102的一端和转动架1103连接,第一夹持部1101的另一端和第二夹持部1102的另一端间隔开以形成夹持口1104,翻转承接部110被配置为在第一位置时,夹持口1104朝向上料输送线112,以承接晶托800。
参见图4,翻转承接部110包括转动架1103、第一夹持部1101和第二夹持部1102,转动架1103连接翻转驱动部111,翻转驱动部111驱使转动架1103翻转。在一些实施例中,翻转驱动部111可以包括电机1110、第一减速机1111、联轴器1112以及翻转轴1113,电机1110的输出轴与第一减速机1111连接,第一减速机1111通过联轴器1112连接翻转轴1113,使得翻转轴1113绕翻转轴1113的轴线转动,转动架1103设置于翻转轴1113的周面,随翻转轴的转动而翻转。
转动架1103连接第一夹持部1101和第二夹持部1102,第一夹持部1101远离转动架1103的一端和第二夹持部1102远离转动架1103的一端间隔开形成夹持口1104。当翻转承接部110处于第一位置时,夹持口1104朝向上料输送线112,晶托800在上料输送线112的输送下进入夹持口1104中。
上料输送线112为用于承接由上料机构12转运的晶托800,且将晶托800运输至翻转承接部110的部件。在一些实施例中,上料机构12可以将晶托800放在上料输送线112上。在一些实施例中,上料输送线112位于翻转机构11的一侧,第一输送线700位于翻转机构11的另一侧,使得晶托800在翻转机构11的翻转下,由一侧移动至另一侧。
在一些实施例中,上料输送线112的输送方向可以垂直于第一输送线的输送方向(X方向)。
在一些实施例中,上料输送线112可以包括两个链条输送线1120,两个链条输送线1120沿第一输送线700的运输方向间隔设置。两个链条输送线分别作用于晶托800的两端。
在翻转承接部110处于第一位置时,翻转承接部110处于两个链条输送线1120之间,随两个链条输送线1120的输送,晶托800中部朝向夹持口1104移动,最终进入夹持口1104位于第一夹持部1101和第二夹持部1102之间。
上述方案中,通过设置上料输送线112,能够将承接于上料机构12的晶托800向翻转承接部110输送,并使得晶托800能够进入由第一夹持部1101和第二夹持部1102形成的夹持口1104,从而有效提高晶托800由上料机构12转移至翻转承托部的效率,提高了上料效率,进而提高了晶托800分离的效率。
根据本申请的一些实施例,参见图5,夹持口1104内设置有位置传感器113,位置传感器113用于感应晶托800的位置。
位置传感器113为用于感应晶托800的传感器件,例如位置传感器113可以为光电传感器。
位置传感器113可以设置在夹持口1104的深处,例如位置传感器113的一端可以设置于转动架1103。随上料输送线112的输送,晶托800由夹持口1104进入第一夹持部1101和第二夹持部1102之间,当晶托800触发位置传感器113或者位置传感器113感应到晶托800时,可以表明晶托800已处于合适的位置,能够允许翻转驱动部驱动翻转承接部110翻转。
在一些实施例中,翻转上料装置100可以配置有控制模块,控制模块可以接收由位置传感器113发出的信号,进而判断是否驱使翻转驱动部工作。
上述方案中,通过在夹持口1104内设置位置传感器113,以感应晶托800是否进入夹持口1104内或者感应晶托800是否已进入夹持口1104并深入到合适位置,以能够基于位置传感器113发出的信号,判断是否翻转,从而使得翻转上料装置100具有较高的容错率,提高翻转上料的成功率。
根据本申请的一些实施例,请参加图6,上料机构12包括晶托固定部120和移送组件121,晶托固定部120用于固定晶托800,移送组件121用于驱使晶托固定部120移动以将晶托800移送至翻转机构11。
晶托固定部120为用于获取并固定晶托800的部件。在一些实施例中,晶托固定部120可以为电磁吸附件,通过磁吸附方式连接晶托板81。在另一些实施例中,晶托固定部120可以为具有夹取功能的夹具。
移送组件121为用于移动晶托固定部120的部件,通过移送组件121的工作,使得晶托固定部120能够在不同的位置之间切换,实现晶托800转运的目的。例如,晶托固定部120在移送组件121的驱使下,能够在上位工位和上料输送线112之间移动,晶托固定部120也可以在移送组件121的驱使下,将晶托800缓慢放下,以使得晶托800放置于上料输送部上。
上述方案中,上料机构12包括晶托固定部120和移送组件121,通过移送组件121的驱使能够使得晶托固定部120移动,使得晶托固定部120能够由上一工位获取晶托800,并将晶托800移送至翻转机构11,以及在晶托800被翻转机构11承接后,能够使得晶托固定部120再次向上一工位移动以获取另一个晶托800,从而有效地提高晶托800上料的效果,利于晶托800分离效率的提高。
根据本申请的一些实施例,移送组件121包括第一移送部1210和第二移送部1211,第一移送部1210连接晶托固定部120并用于驱使晶托固定部120在高度方向Z上移动。第二移送部1211用于驱使第一移送部1210沿第二水平方向Y移动,第二水平方向Y和高度方向Z相交。
第一移送部1210为用于使得晶托固定部120在高度方向Z移动的部件,也即用于使得晶托固定部120升降的部件。在一些实施例中,通过第一移送部1210的驱动,能够使得晶托固定部120下放晶托800,例如由上料输送线112的上方将晶托800下放至与上料输送线112接触的位置。
第二移送部1211为用于驱使第一移动部沿第二水平方向Y移动,以使得晶托固定部120沿第二水平方向Y移动的部件。第二水平方向Y为上一工位和翻转机构11相对设置的方向。在一些实施例中,第二水平方向Y可以垂直于第一输送线的输送方向(X方向)。
在一些实施例中,晶托800通过第二移送部1211的输送,能够移动至上料输送线112的上方,随后通过第一移送部1210的下方,晶托800能够被放置在上料输送线112上。
上述方案中,移送组件121包括第一移送部1210和第二移送部1211,通过第一移送部1210和第二移送部1211,能够使得晶托固定部120在两个不同的方向移动,以便于晶托固定部120将晶托800由上一工位传递给翻转机构11,降低晶托固定部120与上一工位的晶托800或者翻转机构11发生干涉的风险,提高晶托800上料的效率,进而提高晶托800分离的效率。
根据本申请的一些实施例,请参见图6和图7,第一移送部1210包括安装件12100、第一导轨12101、第一滑块12102以及第一驱动件12103。安装件12100与第二移送部1211连接,第一滑块12102设置于安装件12100,第一导轨12101沿高度方向Z延伸且与第一滑块12102滑动连接,第一驱动件12103设置于安装件12100且驱使第一导轨12101沿第一滑块12102升降,第一导轨12101的端部与晶托固定部120连接。
安装件12100为安装第一驱动件12103和第一滑块12102的部件。在一些实施例中,安装件12100可以包括第一安装板12100a、第二安装板12100b和第三安装板12100c,第一安装板12100a形成有通孔以供第一导轨12101穿过。第二安装板12100b和第三安装板12100c垂直设置于第一安装板12100a上且围设于该通孔设置,第二安装板12100b和第三安装板12100c相邻设置。第一滑块12102设置于第二安装板12100b上并与第一导轨12101滑动配合,第一驱动件12103设置与第三安装板12100c用于驱使第一导轨12101升降。
参见图7,第一滑块12102的数量为多个,例如两个、三个或者更多。多个第一滑块12102沿高度方向Z间隔设置,且均与第一导轨12101滑动配合。
在一些实施例中,第二安装板的数量为两个,两个第二安装板相对设置,每个第二安装板上均设置有第一滑块12102。
上述方案中,第一移送部1210包括安装件12100、第一导轨12101、第一滑块12102以及第一驱动件12103。通过第一驱动件12103的驱动,能够使得第一导轨12101相对于第一滑块12102升降,从而使得位于第一导轨12101端部的晶托固定部120沿高度方向Z上移动,以调节晶托固定部120的在高度方向Z上的位置,降低晶托固定部120与晶托800或者翻转机构11相互干涉的风险,提高上料的效率,进而提高晶托800分离的效率。
根据本申请的一些实施例,请参见图7和图8,第一驱动件12103与第一导轨12101通过第一传动件连接。第一传动件包括彼此啮合的第一齿轮12104和第一齿条12105,第一齿轮12104与第一驱动件12103连接,第一齿条12105设置于第一导轨12101且沿高度方向Z延伸。
参见图7,第一驱动件12103包括电机,电机的输出轴上设置有第一齿轮12104。参见图8,第一导轨12101上设置有第一齿条12105,第一齿条12105沿高度方向Z延伸。当电机工作时,通过相互啮合的第一齿轮12104和第一齿条12105,能够使得第一导轨12101在第一滑块12102的配合下上下移动,实现晶托固定部120的升降。
上述方案中,通过设置彼此啮合的第一齿轮12104和第一齿条12105,能够使得第一导轨12101在第一驱动件12103的驱动下稳定地沿高度方向Z移动,提高晶托800转运的稳定性,降低晶托800受冲击振动而脱离于晶托固定部120的风险。
在一些实施例中,第一移送部1210还可以包括如直线电机、电缸、气缸或者其他能够输出直线运动的机构。例如第一移送部1210包括直线电机,直线电机被第二移送部1211驱使以沿第二水平方向Y移动,直线电机的输出端设置有晶托固定部120。
根据本申请的一些实施例,请参见图6和图9,第二移送部1211包括第二导轨12110、第二滑块以及第二驱动件12112。第二导轨12110沿第二水平方向Y延伸,安装件12100通过第二滑块与第二导轨12110滑动配合,第二驱动件12112设置于安装件12100,用于驱使安装件12100沿第二导轨12110滑动。
参见图9,第二导轨12110的数量为两个,两个第二导轨12110相对间隔设置,以共同支撑安装件12100的第一安装板。安装件12100的第一安装板面向第二导轨12110的表面设置有至少两个第二滑块,以与两个第二导轨12110滑动配合。第二导轨12110沿第二水平方向Y延伸,以能够使得安装件12100带动第一导轨12101沿第二水平方向Y滑动。
第二驱动件12112设置于安装件12100,例如第二驱动件12112设置于安装件12100的第一安装板,第二驱动件12112的输出端穿过安装件12100的第一安装板以与第二导轨12110传动连接,从而在第二驱动件12112的驱使下,使得安装件12100带动第一导轨12101沿第二水平方向Y滑动。其中,在一些实施例中,第二驱动件12112的输出端可以与其中一个第二导轨12110传动连接。
上述方案中,第二移送部1211包括第二导轨12110、第二滑块以及第二驱动件12112。通过第二驱动件12112的驱动,能够使得安装件12100沿第二导轨12110滑动,从而带动第一导轨12101以及位于第一导轨12101端部的晶托固定部120沿第二水平方向Y上移动,从而使得晶托固定部120在上一工位和翻转机构11之间往复运动,实现晶托800的转运。
根据本申请的一些实施例,第二驱动件12112与第二导轨12110之间设置有第二传动件,第二传动件包括彼此啮合的第二齿轮和第二齿条12114,第二齿轮与第二驱动件12112连接,第二齿条12114设置于第二导轨12110且沿第二水平方向Y延伸。
参见图7,第二驱动件12112包括电机,电机的输出轴上可以设置有第二齿轮。参见图9,其中一个第二导轨12110上设置有第二齿条12114,第二齿条12114沿第二水平方向Y延伸。第二齿条12114可以设置于第二导轨12110的面向另一个第二导轨12110的表面。当电机工作时,通过相互啮合的第二齿轮和第二齿条12114,能够使得安装件12100沿第二导轨12110移动,实现晶托固定部120的在第二水平方向Y上的移动。
上述方案中,通过设置彼此啮合的第二齿轮和第二齿条12114,能够使得安装件12100在第二驱动件12112的驱动下稳定地沿第二水平方向Y移动,提高晶托800转运的稳定性,降低晶托800受冲击振动而脱离于晶托固定部120的风险。
根据本申请的一些实施例,晶托固定部120包括电磁吸附件,电磁吸附件用于磁吸晶托800的晶托板81。
电磁吸附件指在电流的作用下,能够产生磁力或者消去磁力的部件。例如,当电磁吸附件在不同的电流的作用下,能够产生磁力以固定晶托800,或者能够消去磁力以释放晶托800。
上述方案中,晶托固定部120包括电磁吸附件,通过电磁吸附的方式,一方面,能够有效与晶托800的晶托板81磁吸附连接,提高晶托800转运的稳定性,另一方面,较夹爪类的夹取结构而言,采用电磁吸附的方式固定晶托800,能够降低对晶托800表面的伤害。
根据本申请的一些实施例,电磁吸附件构造为电磁铁,且电磁铁构造为在断电后仍然具有磁性。
在一些实施例中,电磁吸附件可以为断电保持性磁铁,以能够在未通电(例如断电或者停电)情况下还能够吸附晶托板81。
上述方案中,通过将电磁铁设置为在断电后仍然具有磁性,能够在突发停电时,降低晶托800脱落导致晶托800受损的风险,提高翻转上料装置100的运行可靠性。
根据本申请的一些实施例,翻转上料装置100还包括上料机架13,上料机构12和翻转机构11均设置于上料机架13。
上料机架13为翻转上料装置100起支撑的部件。在一些实施例中,上料机架13安装固定上料机构12和翻转机构11且上料机架13能够通过螺栓固定于地面,以使得整体装置的稳定性。
上述方案中,通过设置上料机架13,能够整合上料机构12和翻转机构11,提高翻转上料装置100的空间利用率。
根据本申请的一些实施例,参见图10,上料机架13包括第一框架130以及网格防护门131,第一框架130具有相对的第一端和第二端,第一端和第二端均呈开放状,第一端对应于上一工位设置,第二端对应于第一输送线700设置。网格防护门131的数量为两个,两个网格防护门131相对设置,网格防护门131与第一框架130连接并位于第一端和第二端之间。
在一些实施例中,第一框架130可以由方管焊接而成。在第二水平方向Y上,第一框架130具有相对的第一端和第二端,第一端可以对应于上一工位设置,第二端对应于第一输送线700设置。例如,上料机构12由第一端获取晶托800,并沿第二水平方向Y,将晶托800转运给翻转机构11,翻转机构11朝向第二端翻转,以使得晶托800翻到第一输送线700上。
网格防护门131的数量为两个,两个网格防护门131相对设置以封闭第一框架130的两个侧面,使得上料机架13呈半封闭结构。
上述方案中,上料机架13可以为第一框架130式结构,一方面具有结构简单、制造方便的优势,另一方面利于翻转上料机构12中各个部件的散热,降低因机械构件工作造成热量累计导致机械构件疲劳怠工的风险;再一方面,通过设置网格防护门131,能够利于维护人员进入第一框架130内部,对翻转上料装置100进行维护。
根据本申请的一些实施例,上料机架13还包括底座132,底座132与第一框架130连接,翻转机构11设置于底座132,底座132设置有第一接水盒1320,第一接水盒1320用于收集由晶托800滴落的水。
底座132为承接翻转机构11的部件,底座132与第一框架130连接以使得翻转机构11稳定地处于第一框架130内。在一些实施例中,底座132可以通过方管焊接而成,通过焊接、螺接或者卡接等连接方式与第一框架130连接。
在高度方向Z上,底座132的上表面可以安装翻转机构11,底座132的下表面可以设置有第一接水盒1320,第一接水盒1320用于收集由晶托800滴落的水。第一接水盒1320与底座132的连接关系包括但不限于焊接、卡接、粘接或者螺栓连接。
上述方案中,通过设置第一接水盒1320,能够收集由晶托800滴落的水,降低由晶托800滴落的水对晶托800分离生产线各个工位上的装置的干扰,提高晶托800分离生产线各个工位上的装置的运行稳定性。
请参照图11和图3,本申请实施例提供了一种电磁加热装置200,该电磁加热装置200包括电磁加热机构21和调整机构22,电磁加热机构21用于对晶托800加热;调整机构22与电磁加热机构21相连,调整机构22用于调整电磁加热机构21的位置,以使电磁加热机构21均匀地加热晶托800。
电磁加热机构21包括电磁加热器,电磁加热器为现有结构,本申请不作详细介绍。
调整机构22为用于调整电磁加热机构21的位置的机构,其能够改变电磁加热机构21对晶托800的加热位置,以使得晶托800受热均匀。
在电磁加热机构21对晶托800加热时,晶托800放置于电磁加热机构21的下方,晶托800静止,调整机构22调整电磁加热机构21移动。调整机构22可以在水平方向上调整电磁加热机构21的位置,以使得电磁加热机构21产生的热量能够在晶托800上分布均匀,从而使得晶托800各区域受热均匀。此种情况下,电磁加热机构21无需太大,能够节省能耗,降低成本。
根据本申请实施例的电磁加热装置200,通过电磁加热机构21采用电磁加热的方式加热晶托800,把电能转化为磁能,能够实现晶托800的快速加热;通过调整机构22调整电磁加热机构21的位置,能够使得晶托800受热均匀,以便于垫板82与晶托板81之间的胶层发生软化,垫板82与晶托板81分离难度降低,分离效率高,能耗较低,无需多余工装、步骤,降低劳动强度。
例如,电池加热机构21可以通过电子线路板组成部分产生交变磁场、当交变磁场经过金属材质的晶托板81时,晶托板81切割交变磁力线而在晶托板81产生交变的电流(即涡流),涡流使晶托板81的载流子高速无规则运动,载流子与原子互相碰撞、摩擦而产生热能。从而加热后的晶托板81可以使得晶托板81和垫板82之间的胶体软化,方便后续晶托板81和垫板82分离的工序进行。
请参照图11,并进一步参照图12,根据本申请的一些实施例,电磁加热装置200还包括基座24,调整机构22设置于基座24,电磁加热机构21连接于调整机构22,调整机构22被配置为驱动电磁加热机构21相对于基座24沿第一水平方向X往复移动。
基座24为设置调整机构22的基础,实现对调整机构22的定位,以便于调整机构22调整电磁加热机构21的位置。
图中,字母X所指示的方向可以为第一水平方向。第一水平方向X可以为晶托800的移动方向,也即,晶托800可以沿第一水平方向X移动至电磁加热机构21的下方,在晶托800加热完成后,晶托800沿第一水平方向X离开。
电磁加热机构21通过调整机构22连接于基座24,电磁加热机构21在调整机构22的驱动下相对于基座24移动。
调整机构22能够驱动电磁加热机构21沿第一水平方向X做直线运动,以改变电磁加热机构21相对于基座24的位置,从而改变电磁加热机构21在第一水平方向X上对晶托800的加热区域。在加热时,晶托800静止,电磁加热机构21沿第一水平方向X往复移动。
在上述方案中,电磁加热机构21连接于调整机构22,调整机构22能够带动电磁加热机构21在第一水平方向X上往复移动,从而在第一水平方向X上改变电磁加热构架对晶托800的加热区域,使得晶托800受热均匀,以便于垫板82与晶托板81之间的胶层受热均匀而快速软化。
请参照图11和图12,根据本申请的一些实施例,调整机构22包括第一连接板221、第一驱动件222、第一传动件223和第二传动件224,第一连接板221连接于电磁加热机构21,第一驱动件222安装于基座24,第一驱动件222和第一连接板221通过第一传动件223和第二传动件224连接,第一传动件223与第二传动件224配合以使第一连接板221在第一驱动件222的驱动下沿第一水平方向X往复移动。
第一连接板221沿第一水平方向X可滑动地设置于基座24。第一连接板221用于与电磁加热机构21连接,以带动电磁加热机构21沿第一水平方向X移动。
第一驱动件222和第一连接板221通过第一传动件223和第二传动件224连接,第一驱动件222输出的动力经由第一传动件223和第二传动件224传递至第一连接板221,以使得第一连接板221相对于基座24沿第一水平方向X往复移动。
第一传动件223和第二传动件224为相互配合的两个部件,在第一驱动件222将动力传递至第一传动件223和第二传动件224时,第一传动件223和第二传动件224的共同作用下使第一连接板221在第一水平方向X上做往复运动。第一传动件223和第二传动件224的配合方式可以为多种,例如,齿轮齿条配合方式、凸轮连杆配合方式、偏心轴和连杆配合方式等。
在上述方案中,第一驱动件222能够将动力经由第一传动件223和第二传动件224传递至第一连接板221,以使第一连接板221带动电磁加热机构21沿第一水平方向X往复移动,实现电机的转动转换为第一连接板221沿第一水平方向X的直线运动。
请参照图11和图12,并进一步参照图13和图14,根据本申请的一些实施例,第一传动件223包括传动件本体2231、输入部2232和输出部2233,输入部2232和输出部2233设置于传动件本体2231的厚度方向的两侧,输入部2232与第一驱动件222连接以使第一传动件223绕输入部2232的中心线转动,输入部2232和输出部2233偏心设置;第二传动件224设置有滑槽2241,滑槽2241的延伸方向与第一水平方向X相交,输出部2233可滑动地设置于滑槽2241内。
第一驱动件222可以为电机,第一驱动件222工作时,能够带动第一传动件223转动。
输出部2233与输入部2232偏心设置,也即,输出部2233的中心线与输入部2232的中心线不重合。
传动件本体2231被构造为圆柱形且具有中心线,传动件本体2231可以具有沿传动件本体2231的厚度方向相对设置的第一表面2231a和第二表面2231b,传动件本体2231的厚度方向可以与第一水平方向X垂直,输入部2232可以为形成于第一表面2231a的凹槽,输出部2233可以为设置于第二表面2231b的轴,该轴凸出于第二表面2231b。第一驱动件222的输出轴可以插入输入部2232内与第一传动件223传动配合,输出部2233插设于滑槽2241内,并且与滑槽2241滑动配合。可选地,输出部2233与传动件本体2231一体成型。
输入部2232的中心线可以与传动件本体2231的中心线偏心设置,输出部2233的中心线可以与传动件本体2231的中心线偏心设置,从而使得输入部2232的中心线和输出部2233中心线之间的距离大于传动件本体2231的半径,增大输入部2232的中心线和输出部2233中心线之间的距离,二者较大的距离可以提升第二传动件224的往复幅度。
在一些实施例中,输入部2232可以呈圆柱状,以便于第一传动件223在第一驱动件222的带动下转动。
在一些实施例中,滑槽2241可以沿高度方向Z延伸,也即,滑槽2241在高度方向Z上具有一定的尺寸,在第一驱动件222驱动第一传动件223转动时,输出部2233在跟随输入部2232转动的同时,沿高度方向Z在滑槽2241内滑动,使得第二传动件224沿第一水平方向X往复移动,第一连接板221在第二传动件224的带动下沿第一水平方向X往复移动。
在一些实施例中,第二传动件224可以称为连杆,连杆的长度方向与第一水平方向X平行,连杆的宽度方向与高度方向Z平行。
在上述方案中,输入部2232和输出部2233构成偏心结构,输出部2233与第二传动件224滑动配合,以使得输入部2232在第一驱动件222的驱动下转动时,输出部2233在滑槽2241内滑动,通过第二传动件224带动第一连接板221沿第一水平方向X往复移动。
请参照图11和图12,根据本申请的一些实施例,调整机构22还包括滑动配合的第三导轨225和第三滑块226,第三导轨225沿第一水平方向X设置于基座24,第三滑块226设置于第一连接板221。
第三导轨225设置于基座24,可以为,第三导轨225焊接于基座24,也可以为第三导轨225与基座24螺纹连接。
第三滑块226可以设置于第一连接板221的面向基座24的一侧。例如,第一连接板221可以设置于基座24的上方,第三滑块226可以设置于第一连接板221的底部,以减少水平方向上的空间占用。
第三滑块226的数量可以为多个,多个第三滑块226可以沿第三导轨225的延伸方向间隔设置,以使得第一连接板221在基座24上移动稳定。
在上述方案中,第三导轨225与第三滑块226滑动配合,对第一连接板221的移动进行导向,以便于第一连接板221相对于基座24移动稳定。
在另一些实施例中,第三导轨225也可以沿第一水平方向X设置于第一连接板221,第三滑块226也可以设置于基座24。
根据本申请的一些实施例,电磁加热机构21相对于第一连接板221可在高度方向Z上移动。
电磁加热机构21可活动地与第一连接板221连接,电磁加热机构21能够相对于第一连接板221在高度方向Z上移动。
在上述方案中,电磁加热机构21还能够相对于第一连接板221在高度方向Z上移动,以便于电磁加热机构21靠近或远离晶托800,以便于电磁加热机构21对晶托800加热均匀。
请参照图11,根据本申请的一些实施例,调整机构22还包括第二驱动件227和加热器固定板228,第二驱动件227设置于第一连接板221,加热器固定板228连接于第二驱动件227的输出端,电磁加热机构21安装于加热器固定板228,第二驱动件227用于驱动加热器固定板228沿高度方向Z移动。
第二驱动件227可以为直线驱动件,例如,电缸、气缸、液压缸等。
加热器固定板228连接于第二驱动件227的输出端,例如,加热器固定板228通过螺栓连接于第二驱动件227的输出端。
在上述方案中,加热器固定板228用于实现对电磁加热机构21的定位,第二驱动件227用于驱动加热器固定板228相对于第一连接板221沿高度方向Z移动,以改变电磁加热机构21在高度方向Z上的位置,调节方便。
可选地,第二驱动件227可以为电缸,电缸安装于第一连接板221的上方,加热器固定板228位于第一连接板221的下方,电缸的输出端穿过第一连接板221连接于加热器固定板228。为了使得加热器固定板228沿高度方向Z移动稳定,加热器固定板228连接有多个导向杆229,每个导向杆229的下端连接于加热器固定板228,上端穿设于第一连接板221。同时,相邻的两个导向杆229的上端通过限位板230连接,限位板230位于第一连接板221的上方,以限制加热器固定板228在高度方向Z上的移动位置。为了便于导向杆229相对于第一连接板221移动灵活,第一连接板221的用于供导向杆229穿设的通孔处设置有直线轴承组件231,第一连接板221与导向杆229通过直线轴承组件231连接。
加热的距离、电磁参数、加热指定指标,可以根据晶托板81的尺寸、垫板82的粘接牢固程度等实际情况确定。
请参照图15,根据本申请的一些实施例,电磁加热装置200还包括第一防护罩25,第一防护罩25设置于基座24且罩设于电磁加热机构21和调整机构22的外部,第一防护罩25上设置有第一观察窗251。
第一防护罩25设置于基座24,可以为,第一防护罩25设置于基座24的周向。例如,如图15所示,晶托800沿第一水平方向X移动时,第一防护罩25可以设置于基座24的沿第二水平方向Y上的两端,第二水平方向Y与第一水平方向X垂直。
第一观察窗251可以为设置于第一防护罩25上的结构,第一观察窗251可以为透明结构,以便于观察第一防护罩25内的结构。例如,第一观察窗251的材质可以为玻璃,也可以为亚克力。
在一些实施例中,第一防护罩25与基座24枢转连接,以便于打卡或关闭第一防护罩25。
在上述方案中,第一防护罩25实现对电磁加热机构21和调整机构22的保护,第一观察窗251的设置,能够便于观察电磁加热机构21和调整机构22,以应对紧急情况。
请参照图15和图16,根据本申请的一些实施例,电磁加热装置200还包括滚刷机构26,在晶托800的移动方向上,滚刷机构26设置于电磁加热机构21的上游段,滚刷机构26用于在晶托800被加热前清理晶托800的表面。
晶托800的移动方向是指晶托800在电磁加热工位的移动方向,晶托800在移动方向上依次经过滚刷机构26和电磁加热机构21。晶托800的移动方向可以与第一水平方向X平行。
滚刷机构26为清理晶托800的表面的机构,例如,滚刷机构26可以清理晶托800的表面残留的硅。
在上述方案中,在晶托800的移动方向上,滚刷机构26设置于电磁加热机构21的上游段,将晶托800表面残余的硅清理后加热晶托800,以便于晶托800受热均匀。
请参照图16,根据本申请的一些实施例,滚刷机构26包括第三驱动件261、传动组件262及滚刷263,滚刷263通过传动组件262与第三驱动件261连接,第三驱动件261用于驱动滚刷263转动。
第三驱动件261可以为电机,用于为滚刷263提供动力。
传动组件262可以链条传动组件、带传动组件或齿轮传动组件。可选地,传动组件262为链条传动组件。
滚刷263可以为钢刷,具有一定的强度,以便于清理附着于晶托800表面的硅等物料。
滚刷263的转动轴线可以与晶托800的移动方向垂直。
第三驱动件261的输出轴与滚刷263的转动轴通过传动组件262传动连接,以便于第三驱动件261驱动滚刷263转动。
在上述方案中,第三驱动件261驱动滚刷263转动,以便于提高清理效果,提高晶托800表面的清洁度。
请参照图15和图16,根据本申请的一些实施例,电磁加热装置200还包括基座24,电磁加热机构21和调整机构22设置于基座24;滚刷机构26还包括滚刷调节板264、第一固定板265和滚刷调整组件266,滚刷调节板264设置于基座24,第三驱动件261通过第一固定板265安装于滚刷调节板264,滚刷263可转动地安装于滚刷调节板264,滚刷调整组件266连接滚刷调节板264和基座24,用于沿高度方向Z调整滚刷调节板264的位置。
滚刷调节板264为滚刷263和第三驱动件261的安装基础,滚刷263可转动地安装于滚刷调节板264,第三驱动件261通过第一固定板265安装于滚刷调节板264。
滚刷调节板264与基座24通过第一螺栓2642连接,滚刷调节板264上设置有沿高度方向Z延伸的第一长条孔2641,第一螺栓2642可滑动地设置于第一长条孔2641内,以便于调整滚刷调节板264相对于基座24的位置。
在一些实施例中,第三驱动件261安装于第一固定板265,第一固定板265通过螺栓固定在滚刷调节板264上。可选地,第一固定板265相对于滚刷调节板264的位置可调,以便于调整第三驱动件261相对于滚刷调节板264的位置。例如,第一固定板265设置有沿高度方向Z延伸的第二长条孔2651,第一固定板265与滚刷调节板264通过穿设于第二长条孔2651内的第二螺栓2652连接,通过调整第二螺栓2652在第二长条孔2651内的位置,调整第一固定板265在滚刷调节板264上的位置。
在一些实施例中,滚刷263可以包括无缝钢管、多个不锈钢钢板和位于两端的旋转轴,旋转轴位于无缝钢管的相对的两端,多个不锈钢钢板在无缝钢管的周向间隔分布,两端的旋转轴与设置于滚刷调节板264的轴承座连接,以使得滚刷263能够相对于滚刷调节板264转动。
滚刷调整组件266连接滚刷调节板264和基座24,一方面实现滚刷调节板264和基座24的连接,另一方面能够改变滚刷调节板264相对于基座24在高度方向Z上的位置。
在上述方案中,电磁加热机构21和调整机构22设置于基座24,以便于实现对电磁加热机构21和调整机构22的定位;滚刷调节板264可调节地设置于基座24,滚刷调整组件266连接滚刷调节板264和基座24,以便于通过滚刷调整组件266调整滚刷调节板264在高度方向Z上的位置,操作便捷。
请参照图16,根据本申请的一些实施例,滚刷调整组件266包括第一调整块2661、第二调整块2662及调整件2663,第一调整块2661固定于滚刷调节板264,第二调整块2662固定于基座24,第二调整块2662与第一调整块2661沿高度方向Z相对设置,调整件2663连接第一调整块2661和第二调整块2662,调整件2663用于沿高度方向Z调整第一调整块2661与第二调整块2662之间的距离。
第一调整块2661固定于滚刷调节板264,第二调整块2662固定于基座24,第二调整块2662与第一调整块2661沿高度方向Z相对设置,改变第二调整块2662和第一调整块2661在高度方向Z上之间的距离,能够改变滚刷调节板264相对于基座24在高度方向Z上的位置。
调整件2663可以为调整第一调整块2661在高度方向Z上与第二调整块2662之间的距离的部件,例如,调整件2663可以为楔形块、螺栓等。
在上述方案中,通过调整件2663在高度方向Z上调整第一调整块2661和第二调整块2662之间的距离,结构简单,操作便捷。
根据本申请的一些实施例,调整件2663为调整螺栓,调整螺栓穿设于第二调整块2662且与第二调整块2662螺纹连接,调整螺栓与第一调整块2661抵接。
调整件2663为调整螺栓,调整螺栓与第二调整块2662螺纹连接,调整螺栓的一端与第一调整块2661的面向第二调整块2662的一侧抵接。
在一些实施例中,调整螺栓上套设有锁紧螺母2664,锁紧螺母2664位于第二调整块2662的背离第一调整块2661的一侧,以固定调整螺栓的位置。
在上述方案中,调整螺栓与第二调整块2662螺纹连接,通过转动调整螺栓,可以改变第二调整块2662在高度方向Z上与第一调整块2661之间的距离,操作便捷。
请参照图15,根据本申请的一些实施例,电磁加热装置200还包括第二防护罩27,第二防护罩27设置于滚刷机构26的外部。
第二防护罩27设置于滚刷机构26的外部,第二防护罩27设置有缺口,以将滚刷263露出。
在上述方案中,第二防护罩27的设置,能够防止滚刷机构26清理的废料飞溅,起到防护作用。
根据本申请的一些实施例,电磁加热装置200还包括加热输送线机构28,加热输送线机构28用于沿第一水平方向X输送晶托800。
在一些实施例中,电磁加热机构21、调整机构22和滚刷机构26可以设置于加热输送线机构28的上方,当晶托800经由加热输送线机构28移动至清理位置时,滚刷机构26清理晶托800的表面;当晶托800经由加热输送线机构28移动至加热位置时,电磁加热机构21对晶托800进行加热,调整机构22驱动电磁加热机构21沿第一水平方向X往复移动,以使得晶托800在第一水平方向X上受热均匀。
在上述方案中,加热输送线机构28沿第一水平方向X输送晶托800,便于提高晶托800输送速度,提高晶托800分离效率。
请参照图15,并进一步参照图17,根据本申请的一些实施例,加热输送线机构28包括框架底座281和链条输送线282,链条输送线282设置于框架底座281,链条输送线282用于沿第一水平方向X输送晶托800。
框架底座281为设置基础,链条输送线282可以设置于框架底座281的上部。
链条输送线282为晶托800的移动提供移动动力,晶托800被链条输送线282承载。
在上述方案中,框架底座281实现对链条输送线282的定位,链条输送线282沿第一水平方向X输送晶托800,使得晶托800在第一水平方向X上移动稳定。
请参照图17,根据本申请的一些实施例,链条输送线282包括安装座2821、驱动电机2822、链轮2823和链条2824,安装座2821设置于框架底座281,驱动电机2822安装于安装座2821,链轮2823为两个且在第一水平方向X上间隔开,链轮2823可转动地设置于安装座2821,驱动电机2822与至少一个链轮2823连接,链条2824套设在两个链轮2823的外周且分别与两个链轮2823啮合。
安装座2821为驱动电机2822的安装基础,安装座2821设置于框架底座281,以便于实现对驱动电机2822的定位。
两个链轮2823在第一水平方向X上间隔设置,链条2824套设于两个链轮2823,并且分别与两个链轮2823啮合。两个链轮2823中至少一者与驱动电机2822连接,或者,两个链轮2823均与驱动电机2822连接。可选地,一个链轮2823与驱动电机2822传动连接,该链轮2823为主动轮,另一个链轮2823为从动轮。
在上述方案中,安装座2821实现驱动电机2822的定位,驱动电机2822驱动链轮2823转动,以带动链条2824转动,实现对放置于链条2824上的晶托800移动。
请参照图17,根据本申请的一些实施例,加热输送线机构28还包括脚杯283,脚杯283可调节地连接于框架底座281的底部,用于调节框架底座281的高度。
脚杯283,通常由螺杆和底盘组成,可以通过螺纹的旋转调节设备高度。
脚杯283的设置,使得框架底座281在地面上设置稳定。脚杯283可调节地连接于框架底座281,以便于框架底座281适应不同的地面。
请参照图17,根据本申请的一些实施例,加热输送线机构28还包括万向轮284,万向轮284设置于框架底座281的底部,万向轮284用于移动框架底座281。
万向轮284设置于框架底座281的底部,在框架底座281需要移动时,推动框架底座281移动方便,降低框架底座281移动难度。
在上述方案中,万向轮284的设置,以便于框架底座281移动灵活。
请参照图15,根据本申请的一些实施例,电磁加热装置200还包括排风机构29,排风机构29用于排出晶托800加热后产生的水汽。
在加热之前,晶托800的表面有水渍,加热的过程中会产生大量水汽,排风机构29能够提供风力,以将水汽排出,减少水汽对设备的影响。
在上述方案中,排风机构29的设置,以便于排出晶托800加热后产生的水汽。
请参照图15,根据本申请的一些实施例,排风机构29包括罩体291和排风机292,罩体291罩设于电磁加热机构21的上方,排风机292设置于罩体291,排风机292的进气口与罩体291内的空间连通以将罩体291内的水汽抽出。
在调整机构22设置于基座24的实施例中,罩体291罩设于基座24的上方,电磁加热机构21设置于基座24的内部,基座24的周向设置第一防护罩25,晶托800移动至电磁加热机构21下方时,晶托800被电磁加热机构21加热,产生的水汽在排风机292的作用下从罩体291内抽出。
排风机292的进气口与罩体291的内部通过排风管连通,以便于排风机292工作时,将罩体291内的水汽排出。
在上述方案中,罩体291罩设于电磁加热机构21的上方,以便于收集晶托800加热后产生的水汽,排风机292的进风口与罩体291内的空间连通,以便于排风机292将罩体291内的水汽抽出。
请参照图18和图19,根据本申请的一些实施例,垫板分离装置300包括分离输送线机构31、推料机构32和废料收集机构33,分离输送线机构31用于承载并输送晶托800,推料机构32用于将垫板82与晶托板81分离,废料收集机构33用于收集分离后的垫板82。
分离输送线机构31用于接收电磁加热装置200加热后的晶托800,晶托800移动至分离位置,以通过推料机构32将垫板82与晶托板81分离,分离后的垫板82被废料收集及机构收集。
分离输送线机构31可以包括分离输送线311和垫板导向板312,垫板导向板312与推料机构32设置于分离输送线311的相对的两侧,推料机构32将垫板82推离晶托板81,并从垫板导向板312移动至废料收集机构33。
分离输送线311可以为链条输送线、皮带输送线或其他结构输送线。可选地,分离输送线311为链条输送线。
垫板82分离装置300还包括主体框架34,分离输送线机构31和推料机构32均设置于主体框架34,推料机构32和废料收集机构33分别位于分离输送线机构31的相对的两侧,推料机构32的推料方向与晶托800的移动方向垂直。
主体框架34为分离输送线机构31和推料机构32的安装基础。主体框架34可以由方管、等边角钢和钢板焊接而成。
在一些实施例中,主体框架34的底部四角通过螺栓连接安装有脚杯和万向轮,可通过万向轮调整垫板82分离装置300的位置,脚杯可调整垫板82分离装置300的高度。
请参照图19,主体框架34上可以设置有第二接水盒35,第二接水盒35设置于分离输送线311的下方,以承接晶托800上滴落的水。
请参照图20,推料机构32包括推料驱动件321和侧推板322,推料驱动件321安装于主体框架34,侧推板322连接于推料驱动件321的输出端,侧推板322被配置为在推料驱动件321的驱动下推动垫板82相对于晶托板81移动。
请参照图19和图20,推料驱动件321的外部罩设有推料防护罩323,以对推料驱动件321进行遮挡。
推料驱动件321可以为但不限于气缸、电缸、液压缸等。可选地,推料驱动件321为气缸。
推料驱动件321通过推料固定板38固定于主体框架34。
请参照图20,为了便于侧推板322移动稳定,垫板82分离装置300还包括第一导向轴36,第一导向轴36的一端连接于侧推板322,第一导向轴36的另一端穿设于推料固定板38,第一导向轴36与推料固定板38滑动配合,第一导向轴36用于对侧推板322移动导向。在推料驱动件321驱动侧推板322移动时,第一导向轴36相对于推料固定板38移动。在第一导向轴36与推料固定板38的连接处设置有直线轴承361,以使得第一导向轴36相对于推料固定板38移动灵活。
请参照图20,垫板82分离装置300还包括晶托压块37,晶托压块37设置于主体框架34的分离位置,当晶托800移动至分离位置时,晶托板81位于晶托压块37与分离输送线机构31之间,以限制晶托板81翻转。
晶托压块37可以设置于推料固定板38。晶托压块37位于侧推板322的下方,当晶托800移动至分离位置时,晶托压块37对晶托板81定位,并限制晶托板81相对于分离输送线311移动。
请参照图21和图22,废料收集机构33包括料斗331、底盘332及行走轮333,料斗331可转动地设置于底盘332上,行走轮333设置于底盘332的底部。
请参照图18,垫板导向板312设置于料斗331的上方,垫板82能够经由垫板导向板312滑入料斗331内。
料斗331与底盘332枢转连接,如图21和图22所示,料斗331的底部的一端设置有料斗转轴334,料斗转轴334与底盘332通过轴承连接。料斗331上还设置有把手335,操作员通过提拉把手335,能够带动料斗331相对于底盘332转动,以倾倒料斗331内的垫板82。可选地,把手335和料斗转轴334设置于料斗331的相对的两侧。
行走轮333可以为万向轮,以便于废料收集机构33移动灵活。
请参照图23至图30,根据本申请的一些实施例,清胶装置400包括机架410、清胶输送线420和清胶机构430,清胶输送线420沿第一水平方向X延伸设置于机架410,清胶输送线420用于输送与垫板分离后的晶托板81;清胶机构430设置于清胶机架410,清胶机构430用于对位于清胶输送线420上的晶托板81的残胶进行清理;其中,清胶机构430包括刮刀单元,刮刀单元用于对晶托板81的残胶进行刮除。
在本方案中,通过清胶装置400能够替代人工铲胶操作,相对于现有的人工清胶操作而言,清胶装置中的刮刀单元能够在清胶输送线420上直接完成晶托板81残胶的刮除操作,不需要人工将晶托板81转移至其它工位进行手动清胶,从而降低了人工劳动强度,提高了除胶效率。同时,清胶装置可与晶托分离生产线衔接,增强工序之间信息交互能力,更加自动化。
在一些实施例中,清胶机构430还包括清扫刷单元,清扫刷单元用于清扫晶托板81上的残胶。通过清胶机构430还包括有清扫刷单元,清扫刷单元用于清扫晶托板81上的残胶,这样对晶托板81进行清胶时,刮刀单元和清扫刷单元两者配合,可以对晶托板81上的残胶一边刮除一边清扫,从而对晶托板81上的残胶的清除效率更高,清洁效果更好。
其中,清胶机构430与清胶输送线420有多种配合方式,譬如,清胶输送线420将晶托板81传输至清胶装置的清胶工位后暂停输送,然后清胶机构430移动对晶托板81进行清胶操作;当然,还可以是清胶机构430的位置固定,清胶输送线420带动晶托板81相对于清胶机构430移动,从而实现晶托板81与清胶机构430的相对位移。
在一些实施例中,请结合图23和图24,清胶机构430包括横移架431和第一横移驱动单元432,刮刀单元和清扫刷单元均设置于横移架431,第一横移驱动单元432用于驱动横移架431沿第一水平方向X往复移动。通过将清胶机构430采用为移动式设置于清胶机架410上,清胶机构430在第一横移驱动单元432的作用下,能够带动刮刀单元和清扫刷单元相对于胶输送线上的晶托板81移动,从而实现对晶托板81上的残胶清胶处理,并且将清胶机构430采用移动式,这样清胶机构430在对晶托板81进行清胶时,可以在第一横移驱动单元432的作用下往复多次移动进行清胶操作,从而更利于将晶托板81上的残胶清除。
其中,第一横移驱动单元432可以为多种直线驱动机构,譬如,第一横移驱动单元432可以为电动推杆、气缸、液压缸、丝杆螺母副机构、同步带或者齿轮齿条驱动机构等。
在本实施例中,第一横移驱动单元432采用为齿轮齿条机构,包括主驱电机4320、第三齿轮和第三齿条4321,第三齿条4321沿第一水平方向X铺设于清胶机架410上,主驱电机4320采用为伺服电机配合减速机,主驱电机4320安装于横移架431上,主驱电机4320的输出轴连接第三齿轮,第三齿轮与第三齿条4321的啮合传动实现横移架431沿第一水平方向X移动,从而实现清胶。当然,清胶机架410上还可以设置有第四导轨413,横移架431的底部对应设置有第四滑块4310,第四滑块4310与第四导轨413滑动配合,从而引导横移架431在第一横移驱动单元432的作用下沿第一水平方向X移动。
另外,清胶机架410上对应设置有限位开关414,限位开关414用于限制横移架431在清胶机架410上第一水平方向X的行程。
在一些实施例中,请结合图25和图26,刮刀单元包括第一刮刀组件441和第二刮刀组件442,第一刮刀组件441用于对晶托板81的上表面的残胶进行刮除,第二刮刀组件442用于对晶托板81侧面的残胶进行刮除。通过将刮刀单元包括有第一刮刀组件441和第二刮刀组件442,利用第一刮刀组件441可以对晶托板81的上表面的残胶进行刮除,防止晶托板81上表面的残胶对树脂板的粘合有影响,而利用第二刮刀组件442可以对晶托板81侧面的残胶进行刮除,对晶托板81的侧面进行清理,可以防止晶托板81侧面的残胶累积增厚。
在一些实施例中,请结合图26至图29,第一刮刀组件441包括第一刮刀驱动件4410和第一刮刀4411,第一刮刀驱动件4410安装于横移架431,第一刮刀驱动件4410的驱动端与第一刮刀4411驱动连接,以用于驱动第一刮刀4411沿高度方向Z靠近或远离清胶输送线420上的晶托板81。通过第一刮刀驱动件4410可以驱动第一刮刀4411沿高度方向Z上下移动,这样可以调节第一刮刀4411在竖向上的位置,利于第一刮刀4411对晶托板81的避让和定位,能够更好的对晶托板81上表面的残胶进行清理。
可以理解地,清胶输送线420上的晶托板81进入于清胶工位时,第一刮刀驱动件4410需先带动第一刮刀4411向上运动,以避让晶托板81,晶托板81移动到位后,第一刮刀驱动件4410驱动第一刮刀4411向下运动,以抵紧于晶托板81的上表面,然后进行刮胶处理。
其中,第一刮刀驱动件4410可以为多种直线驱动机构,譬如,第一刮刀驱动件4410可以为电动推杆、气缸、液压缸、丝杆螺母副机构、同步带或者齿轮齿条驱动机构等。在本实施例中,第一刮刀驱动件4410采用为气缸。
在一些实施例中,请参照图27,第一刮刀4411包括刀杆44110、刀架44111和多个主刀头44112,刀杆44110的一端与第一刮刀驱动件4410的驱动端连接,刀杆44110的另一端连接于刀架44111,多个主刀头44112沿第一水平方向X间隔分布于刀架44111的相对两侧。由于清胶机构430地移动方向为第一水平方向X,且多个主刀头44112沿第一水平方向X间隔分布于刀架44111的相对两侧,这样在清胶机构430的往返移动过程中,第一刮刀4411均能实现对晶托板81上表面的往返刮胶,相比于单程刮胶而言,刮胶效果更好。
其中,第一刮刀4411在第二水平方向Y的尺寸不小于晶托板81的宽度方向的尺寸,晶托板81的宽度一般为170-210mm,那么第一刮刀4411在第二水平方向Y的尺寸可以为210mm,这样便可以兼顾170-210mm的晶托板81的清理。
在一些实施例中,多个主刀头44112包括第一主刀头44112a和第二主刀头44112b,第一主刀头44112a的上端和第二主刀头44112b的上端均与刀架44111连接,沿从上到下的方向上,第一主刀头44112a和第二主刀头44112b的距离逐渐增加。将多个主刀头44112包括第一主刀头44112a和第二主刀头44112b,第一主刀头44112a和第二主刀头44112b的距离逐渐增加,使得第一主刀头44112a和第二主刀头44112b在刀架44111上呈八字形分布并向外侧张开,第一刮刀4411在往返移动过程中,均能实现对晶托板81上表面的残胶有效刮除,且刮除的残胶在第一主刀头44112a或第二主刀头44112b的引导作用下向上并向外两侧散开,刮除的残胶不会停留在原位。
其中,主刀头44112的材质可以为高韧性、不生锈的钢刀材质。
在一些实施例中,请结合图26至图29,第二刮刀组件442包括两个第二子刮刀组件,两组第二子刮刀组件沿第二水平方向Y间隔分布于横移架431,第一水平方向X、第二水平方向Y和高度方向Z两两垂直;每个第二子刮刀组件包括第二刮刀驱动件4420和第二刮刀4421,第二刮刀驱动件4420的驱动端与第二刮刀4421驱动连接,以带动第二刮刀4421沿第二水平方向Y靠近或远离清胶输送线420上的晶托板81的对应侧面。通过两组第二子刮刀组件沿第二水平方向Y间隔分布于横移架431,两组第二子刮刀组件中的两个刮刀能够在第二刮刀驱动件4420的作用下在第二水平方向Y相互远离和靠近,从而实现对晶托板81的两个侧面进行同步刮胶,刮胶效果好。
可以理解地,清胶输送线420上的晶托板81进入于清胶工位时,两个第二刮刀驱动件4420需先带动两个第二刮刀4421向外侧张开,以避让晶托板81,晶托板81移动到位后,第二刮刀驱动件4420带动两个第二刮刀4421相互靠近,以抵紧持于晶托板81的相对两侧面,然后对晶托板81的侧面进行刮胶处理。
第二刮刀驱动件4420可以为多种直线驱动机构,譬如,第二刮刀驱动件4420可以为电动推杆、气缸、液压缸、丝杆螺母副机构、同步带或者齿轮齿条驱动机构等。在本实施例中,第二刮刀驱动件4420采用为气缸。
其中,第一刮刀组件441和/或第二刮刀组件442的数量可以设为一组,也可以设为多组。
在一些实施例中,第一刮刀组件441和/或第二刮刀组件442的数量设为多组,多组第一刮刀组件441和/或第二刮刀组件442在横移架431上沿第一水平方向X间隔分布。通过将第一刮刀组件441和/或第二刮刀组件442的数量设为多组,多组第一刮刀组件441和/或第二刮刀组件442,相比于一组第一刮刀组件441和第二刮刀组件442而言,可以提高对晶托板81上残胶的清胶效率。
在本实施例中,第一刮刀组件441和第二刮刀组件442的数量均设为一组。
在一些实施例中,请结合图26至图29,清扫刷单元包括第一清扫刷组件451和第二清扫刷组件452,第一清扫刷组件451用于对晶托板81的上表面的残胶进行清扫,第二清扫刷组件452用于对晶托板81侧面的残胶进行清扫。利用第一清扫刷组件451可以对晶托板81的上表面的残胶进行清扫,利用第二清扫刷组件452可以对晶托板81侧面的残胶进行清扫,相比于仅利用刮刀单元对残胶进行刮除而言,利用清扫刷单元清扫配合刮刀单元的刮胶,对晶托板81上的残胶的清胶效果更好。
在一些实施例中,第一清扫刷组件451包括第一清扫刷升降件4510、第一清扫刷驱动件4511和第一清扫刷4512,第一清扫刷驱动件4511的驱动端与第一清扫刷4512驱动连接,以用于带动第一清扫刷4512转动,第一清扫刷驱动件4511安装于第一清扫刷升降件4510的驱动端,第一清扫刷升降件4510安装于横移架431,以用于驱动第一清扫刷4512沿高度方向Z靠近或远离清胶输送线420上的晶托板81。第一清扫刷驱动件4511可以带动第一清扫刷4512转动,从而实现对晶托板81上表面的残胶进行清扫,在第一清扫刷升降件4510的驱动作用下,可以实现第一清扫刷4512与清胶输送线420上的晶托板81在高度方向Z的靠近或远离,便于实现对晶托板81上表面的精准清扫。
其中,第一清扫刷升降件4510可以为多种直线驱动机构,譬如,第一清扫刷升降件4510可以为电动推杆、气缸、液压缸、丝杆螺母副机构、同步带或者齿轮齿条驱动机构等。在本实施例中,第一清扫刷升降件4510采用为气缸。第一清扫刷驱动件4511可以为驱动电机。
另外,第一清扫刷4512的尺寸也不小于晶托板81的宽度方向的尺寸,晶托板81的宽度一般为170-210mm,那么第一清扫刷4512在第二水平方向Y的尺寸可以为210mm,这样便可以兼顾170mm-210mm的晶托板81的清扫。
在一些实施例中,第二清扫刷组件452的数量设为两组,两组清扫刷组件沿第二水平方向Y间隔分布;每组第二清扫刷组件452包括第二清扫刷驱动件4520、第三清扫刷驱动件4521和第二清扫刷4522,第三清扫刷驱动件4521的驱动端与第二清扫刷4522驱动连接,以用于带动第二清扫刷4522转动;第二清扫刷驱动件4520安装于第二清扫刷驱动件4520的驱动端,第二清扫刷驱动件4520安装于横移架431,用于驱动第二清扫刷4522沿第二水平方向Y移动,以使第二清扫刷4522能够靠近或远离晶托板81的侧面。通过将第二清扫刷组件452的数量设为两组,两组清扫刷组件可以分别对应于晶托板81的两个侧面,第三清扫刷驱动件4521可以带动第一清扫刷4512转动,从而实现对晶托板81侧面的残胶进行清扫,在第二清扫刷4522升降件的驱动作用下,可以实现第二清扫刷4522与清胶输送线420上的晶托板81的水平靠近或远离,便于实现对晶托板81的侧面精准清扫。
其中,第二清扫刷驱动件4520可以为多种直线驱动机构,譬如,第二清扫刷驱动件4520可以为电动推杆、气缸、液压缸、丝杆螺母副机构、同步带或者齿轮齿条驱动机构等。在本实施例中,第二清扫刷驱动件4520采用为气缸。第三清扫刷驱动件4521可以为驱动电机。
另外,第二清扫刷4522可以包括两个侧刷,分别为第一侧刷45220和第二侧刷45221,第一侧刷45220和第二侧刷45221上下各一个,第一侧刷45220位于第二侧刷45221的上方,第一侧刷45220的尺寸小于第二侧刷45221,第一侧刷45220对晶托板81的侧面进行清理干净,第二侧刷45221能够伸入于晶托板81的底部边缘,对晶托板81的底部边缘进行清洁处理。
第一清扫刷4512和第二清扫刷4522的材质可以为多种,在本实施例中,第一清扫刷4512和第二清扫刷4522均为钢丝刷。
在一些实施例中,沿清胶输送线420的输送方向,第一清扫刷组件451在横移架431上相较于第一刮刀组件441位于清胶输送线420的下游;第二清扫刷组件452在横移架431上相较于第二刮刀组件442位于清胶输送线420的上游。将第一清扫刷组件451在横移架431上相较于第一刮刀组件441位于清胶输送线420的下游,这样横移架431带动清胶机构430往复移动时,在返程的时候,始终是第一刮刀组件441先对晶托的上表面刮除后再通过第一清扫刷组件451对晶托板81的上表面进行清扫,这样可以将晶托板81上表面的残胶清离于晶托板81。通过将第二清扫刷组件452在横移架431上相较于第二刮刀组件442位于清胶输送线420的上游,第二刮刀组件442在返程时不对晶托板81上的残胶进行刮除,因此往返程时第二清扫刷组件452均会对晶托板81的侧面进行清扫。
在一些实施例中,请参照图30,清胶装置还包括第一水箱460和清洗管路,第一水箱460用于向清洗管路提供清洗水,清洗管路末端设置有冲洗喷头,冲洗喷头用于对晶托板81上的残胶进行冲洗。通过在清胶装置中设置有清洗管路和第一水箱460,第一水箱460可以向清洗管路提供清洗水,清洗管路喷出清洗水,可以对晶托板81上的残胶进行清理,并能实现对晶托板81的降温,即清洗管路可以起到对晶托板81的清洁和降温的双重作用。
在一些实施例中,冲洗喷头包括第一冲洗喷头和两个第二冲洗喷头,第一冲洗喷头朝向于晶托板81的上表面,两个第二冲洗喷头分别朝向晶托板81的两个侧面。通过第一冲洗喷头朝向于晶托板81的上表面喷出清洗水,可以对晶托板81的上表面的残胶进行清洁和降温,利用两个第二冲洗喷头分别朝向晶托板81的两个侧面喷出清洗水,可以实现对晶托板81的两个侧面上的残胶进行清洁和降温。
其中,冲洗喷头在清胶机架410上的设置位置可以根据实际情况而定。
在一些实施例中,沿第一水平方向X,冲洗喷头位于刮刀单元和清扫刷单元之间。由于横移架431带动清胶装置在移动时为往返程式移动,因此通过将冲洗喷头位于刮刀单元和清扫刷单元之间,在对晶托板81上的残胶进行刮除或清扫后,利用冲洗喷头可以对刮除后清扫后的残胶进行清理,对晶托板81的清胶效果更好。
在一些实施例中,请参照图30,第一水箱460内设置有用于将第一水箱460的内腔分隔为过滤腔463和存水腔的第一分隔板461,过滤腔463的内部或第一水箱460上设置有过滤网464,第一分隔板461上开设有用于使过滤腔463和存水腔相通的第一通水口4610,过滤网464用于过滤清胶机构430清胶后的清洗水且在清洁水的流动方向上位于第一通水口4610的上游段。通过第一分隔板461将第一水箱460分隔为过滤腔463和存水腔,借助于过滤腔463上的过滤网464,可以对清胶输送线420上清除的残胶和水进行收集过滤,让多余的水透过过滤网464进入于过滤腔463中,并通过第一通水口4610进入于存水腔中暂存。
其中,清胶机架410为矩形框架结构,清胶机架410的底部设置有支撑脚412,支撑脚412可以为脚杯。清胶机架410在高度方向Z具有中层架体411,清胶输送线420设置于中层架体411上。
清胶机构430在清胶机架410上的位置可以为多种,譬如,清胶机构430可以设置在清胶输送线420的上方,即清胶机构430设置于清胶机架410的顶部,第一水箱460可以位于清胶输送线420的下方,即位于中层架体411的下方。清胶机构430对清胶输送线420上清除的残胶和水可以在转移至下方的过滤腔463中,经过过滤网464过滤。清胶机架410上设置有可拆卸式的第二观察窗415,第二观察窗415安装于清胶机架410上并位于清胶输送线420的外侧,第二观察窗415可以为透明窗,第二观察窗415的材质可以为亚克力。另外,过滤网464可以采用为二级过滤,过滤效果更好,能够将残胶分离在过滤网464上,定期对过滤网464进行清理便可,而细微尺寸的胶片便会通过过滤网464流到第一水箱460内沉淀。
在一些实施例中,请参照图30,第一水箱460内设置有第二分隔板462,第二分隔板462用于将存水腔分隔为冷却腔465和加热腔466,冷却腔465通过第一通水口4610与过滤腔463相通,冷却腔465内设置有冷却管路4650,第二分隔板462上开设有用于使冷却腔465和加热腔466相通的第二通水口4620,加热腔466内设置有第一加热部件4660,加热腔466与清洗管路相通。因为晶托经过电磁脱胶设备后分离的晶托板81为热的,经过清洁管路冲洗后,第一水箱460内的水温慢慢会变高,因此通过在第一水箱460内设置有第二分隔板462,第二分隔板462将存水腔分隔为冷却腔465和加热腔466,利用冷却腔465内的冷却管路4650可以对冷却腔465内的水进行冷却控温。而通过在加热腔466内设置有第一加热部件4660,因为对于冬季而言,水温较低,当冬季的水温度低于20度时,水温太低影响清胶效果,加热管快速进行加热到30度,保证合适的温度。
其中,第一加热部件4660可以为多种加热机构,譬如,第一加热部件4660可以为蒸汽换热管、电加热丝或者加热器等。清洁管路上设置有水泵,水泵可以将加热腔466内的水抽出至冲洗喷头进行清洁处理。
在一些实施例中,过滤腔463、冷却腔465和加热腔466的至少一者设置有排水管路467,排水管路467设置有排水阀。通过在过滤腔463、冷却腔465或加热腔466设置有排水管路467,仅需要打开排水阀,便可以定期对第一水箱460内的残留的胶片杂质进行清理。
在本实施例中,冷却腔465和加热腔466均设置有排水管路467。
其中,第一水箱460设置有补水组件,补水组件包括补水管路468,补水管路468的一端连接有供水系统,另一端与第一水箱460相通。补水组件包括控制器和液位传感器,补水管路468的一端连接有供水系统,另一端与第一水箱460相通,液位传感器设置于第一水箱460以用于监测第一水箱460内的清洗水的液位,补水管路468上设置有电磁阀,电磁阀和液位传感器均与控制器电连接,当第一水箱460内清洗水的液位低于阈值时,控制器控制补水管路468的控制阀打开,以向第一水箱460补充清洗水。另外,冷却腔465设置有液温传感器469。
请参照图31至图33,超声波清洗装置500包括超声波清洗池520和超声波发生器,超声波清洗池520用于盛装有清洗介质,超声波发生器设置于超声波清洗池520,超声波发生器包括超声波振子523,超声波振子523用于向超声波清洗池520内的清洗介质提供振动波,以对位于超声波清洗池520内的晶托板81进行超声波清洗。
在本方案中,由于晶托板81与垫板分离后,晶托板81上仍粘附有残胶和硅泥,通过提供超声波清洗池520,在超声波清洗池520内盛装有清洗介质,超声波清洗池520上安装有超声波振子523,超声波振子523可以产生超声波,利用清洗介质为传输介质,将振动传至晶托板81上,对晶托板81上残留的污物直接或间接的作用,使晶托板81上的污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的,清洗效果好,使得清洗后的晶托板81的清洁度更高,利于晶托板81后续重复使用。
其中,清洗介质可以为多种,譬如,清洗介质可以为水或水中混合有清洗液构成的清洗溶液等。在本实施例中,清洗介质采用为水。
在一些实施例中,超声波清洗池520包括底壁521以及设置在底壁521的外周沿且朝向上方延伸的侧壁522,超声波振子523设置于超声波清洗池520的底壁521和/或侧壁522。
可以理解地,超声波振子523可以根据实际情况合理布置在超声波清洗池520,超声波振子523在超声波清洗池520上具有多种布置情况,譬如,超声波振子523可以布置在超声波清洗池520一块或多块侧壁522上,也可以布置在超声波清洗池520的底壁521,当然,超声波清洗池520的侧壁522和底壁521均布置有超声波振子523。
在一些实施例中,如图32所示,侧壁522包括彼此正对且间隔开的第一侧壁5220和第二侧壁5221,超声波振子设置于第一侧壁5220、第二侧壁5221和底壁521。通过将超声波振子设置于第一侧壁5220、第二侧壁5221和底壁521,在保证对晶托板81清洗效果的同时,合理控制成本。
具体的,多个超声波振子523的总功率为15Kw-25Kw,单个振子功率为40w-70w,多个超声波振子523均匀排布在超声波清洗池520的第一侧壁5220、第二侧壁5221和底壁521。在本申请的一些实施例中,底壁521共有300个超声波振子523;第一侧壁5220和第二侧壁5221分别设置有50个超声波振子523。
单个超声波振子523的额定频率为25KHz-35KHz,通过水为传输介质,将振动传到晶托上,将硅泥清洗掉。超声波振子523为购买的成品,通过特殊的密封胶连接到超声波清洗池520上。
在一些实施例中,请参照图31和图33,超声波清洗池520设置有第二加热部件524,第二加热部件524用于对超声波清洗池520内的清洗介质进行加热控温。通过在超声波清洗池520内设置有第二加热部件524,第二加热部件524可以对超声波清洗池520的清洗介质进行加热控温,维持清洗介质处在合适温度,不会因外部温度环境而影响晶托板81的清洗效果。
其中,第二加热部件524可以为多种结构,第二加热部件524可以为加热管,加热管内可以通蒸汽,当然,第二加热部件524也可以为电加热丝或加热器等。
在一些实施例中,请结合图33和图35,超声波清洗池520的沿第二水平方向Y的一侧设置有副池体530,超声波清洗池520上设置有第一排液口,副池体530上设置有第一进液口531,第一进液口531与第一排液口连通;副池体530上设置有第二排液口,超声波清洗池520上设置有第一回液口525,第二排液口通过过滤器534与第一回液口525连通,第二排液口与第一回液口525之间设置有净化管路533,净化管路533上设置有过滤器534和水泵535。由于超声波清洗池520内的清洗介质对晶托板81上的硅泥等杂质清洗后,杂质会存留在超声波清洗池520内,影响清洗介质的水质。通过在超声波清洗池520的一侧设置有副池体530,超声波清洗池520内的水通过第一排液口会流入于副池体530内,通过副池体530与超声波清洗池520之间连接有净化管路533,净化管路533上设置有过滤器534和水泵535,利用水泵535可以将副池体530中清洗介质抽出引入于过滤器534,过滤器534能够对清洗介质进行过滤后将清洗介质排入于超声波清洗池520内,完成清洗介质的循环,提高了超声波清洗池520内清洗介质的水质情况。
其中,过滤器534可以采用为篮式过滤器过滤,第一回液口525在超声波池体上可以呈多点位分布。另外,由于定期需要对超声波清洗池520内的杂质进行清理,使得超声波清洗内清洗介质的量减少,副池体530内可以设置有液位传感器539,液位传感器539用于监测副池体530内清洗介质的液位,超声波清洗池520还连接有补水管路5391,当液位传感器539监测的液位低于阈值时,补水管路5391自动向超声波清洗池520内补充清洗介质,使得超声波清洗池520内清洗介质的存量满足要求。
在一些实施例中,请参照图34,由超声波清洗池520背离于副池体530的一侧向副池体530的方向,超声波清洗池520的底壁521内表面具有倾斜向下的导向斜面526,导向斜面526被配置为引导超声波清洗池520内沉积的杂质向副池体530的第一进液口531移动。由于超声波清洗池520对晶托板81上的硅泥等杂质清洗后,杂质会停留在超声波清洗池520内,通过在超声波清洗池520的底壁521内表面具有倾斜向下的导向斜面526,导向斜面526可以引导超声波清洗池520内沉积的杂质在坡度的作用下向副池体530的排污口的方向移动,使得杂质汇聚于副池体530内,后续可以通过排污口将杂质一同排出,这样在清理超声波清洗池520内的杂质时,不需要完全更换整个超声波清洗池520内的清洗介质。
其中,超声波清洗池520的槽体的材质可以为多种,钢、铁或者砌体结构等。在本实施例中,槽体为不锈钢304材质。
在一些实施例中,导向斜面526与水平面之间的角度为α,满足:1°≤α≤10°。
示例性地,满足:2°≤α≤5°。例如α可以为2°、3°、4°或5°。在导向斜面526与水平面之间的角度满足上述条件时,既可以使得槽底的杂质可以在重力的作用下移动至副池体530,同时也不至于因为导向斜面526过于倾斜导致超声波清洗池520在厚度方向上的尺寸过大。
在本实施例中,α取值为3°,可以将超声波清洗池520的槽底的杂质如硅泥等通过坡度使其流到副池体530内。
在一些实施例中,请继续参照图35,副池体530内设置有阻挡部536,阻挡部536设置在副池体530的底壁521上且朝向上方延伸,以将副池体530的内腔分隔为第一腔体537和第二腔体538,阻挡部536的高度小于副池体530内的腔室高度以使第一腔体537的上侧区域和第二腔体538的上侧区域连通,第一进液口531的高度小于阻挡部536的高度,净化管路533与第二腔体538连通,第一腔体537的底部设置有第一排污口5370,第一排污口5370的末端设置有第一排污阀5371。由于净化管路533与副池体530连通,为了避免水泵535将副池体530内的杂质一同抽入于过滤器534中加重过滤器534的过滤负担,通过在副池体530内设置有阻挡部536,阻挡部536将副池体530的内腔分隔为第一腔体537和第二腔体538,且阻挡部536的高度小于副池体530内的腔室高度以使第一腔体537的上侧区域和第二腔体538的上侧区域连通,这样第一腔体537可以阻挡一部分杂质停留在第一腔体537中,避免大量杂质越过阻挡部536进入于第二腔体538后进而于过滤器534,造成过滤器534故障。只需要定期打开第一排污阀5371,利用第一排污口5370将第一腔体537内存留的杂质排出。
在一些实施例中,第二腔体538的底部设置有第二排污口5380,第二排污口5380的末端设置有第二排污阀5381。第一腔体537内还是会有一部分杂质通过阻挡部536进入于第二腔体538内,通过在第二腔体538的底部设置有第二排污口5380,打开第二排污阀5381,可以利用第二排污口5380排出第二腔体538内的杂质。
在一些实施例中,请参照图36和图37,超声波清洗装置500还包括工件托举组件540,工件托举组件540包括托架541,托架541用于承托晶托板81,托架541设置于超声波清洗池520内或托架541可选择地在超声波清洗池520内上下移动以使晶托板81浸没在清洗介质或从清洗介质露出。通过在超声波清洗池520内设置有托架541,托架541可以对晶托板81起到承托作用,利于清洗介质对晶托板81的超声波清洗,或者可以利用托架541的上下移动,使晶托板81浸没在清洗介质或从清洗介质露出,能够满足后续晶托板81的转移需求。
在一些实施例中,托架541包括承托部5411和支撑柱5412,支撑柱5412竖直设置于承托部5411上,支撑柱5412用于支撑晶托板81以用于使晶托板81的底部与承托部5411间隔开。通过托架541上设置有支撑柱5412,支撑柱5412可以使得晶托板81的底部与承托部5411间隔开,从而使得晶托板81能够更加充分的与清洗介质接触,利于保证对晶托板81的清洗效果,减小清洗盲区。
其中,支撑柱5412的数量可以设为多个,譬如,两个、三个或者五个等,在本实施例中,支撑柱5412的数量设为四个,四个支撑柱5412沿第一水平方向X间隔设置于承托部5411,能够满足不同型号的晶托板81的支撑需求。
在一些实施例中,托架541还包括连接部5413,连接部5413与承托部5411连接,连接部5413的上端从超声波清洗池520内伸出;工件托举组件540还包括托举驱动件5414,托举驱动件5414的驱动端与连接部5413的上端驱动连接,以用于带动承托部5411沿高度方向Z移动。通过托架541的连接部5413可以向外从超声波清洗池520内伸出,而托举驱动件5414的驱动端与连接部5413的上端驱动连接,从而可以带动承托部5411沿高度方向Z移动,实现托架541的上下升降,以满足晶托板81的转移需求。
其中,托举驱动件5414可以多种驱动机构,譬如,托举驱动件5414可以为气缸、液压缸、电动推杆、丝杆螺母副机构或齿轮齿条机构等,在本实施例中,托举驱动件5414为气缸。连接部5413包括竖直段和水平段,并呈L形;竖直段的下端连接于承托部5411,竖直段的上端连接于水平段,水平段与托举驱动件5414的驱动端连接。
当然,在托举驱动件5414采用为气缸的情况下,为了更好的保证托架541上下升降的稳定性,工件托举组件540还可以包括导向部件,导向部件包括第一直线轴承5416和导向杆,导向杆沿高度方向Z延伸,水平段的端部通过第一直线轴承5416与导向杆滑动配合。利用第一直线轴承5416与导向杆滑动配合,可以引导托架541定向上下升降,稳定性更高,使得晶托板81的上下升降更加稳定,避免出现晶托板81掉落的现象。另外,托架541可以采用不锈钢方管40mm×40mm,从而防止水槽内的水蒸气的影响。
在一些实施例中,连接部5413为两个且分别设置于承托部5411在长度方向上的两端。通过将连接部5413设置为两个,连接部5413处对应设置有托举驱动件5414,使得托架541的长度方向的两端同步实现上下升降,相比于一个托举驱动件5414而言,稳定性更高,避免出现因托架541倾斜而出现晶托板81掉落的现象。
相应的,在托举驱动件5414选用为气缸的情况下,那么气缸的数量设为两个,两个气缸分别连接于托架541长度方向两端的两个连接部5413,从而驱动托架541沿高度方向Z上下升降。
在一些实施例中,承托部5411在高度方向Z具有清洗位置和待抓取位置,托举驱动件5414驱动承托部5411移动以使承托部5411在清洗位置和待抓取位置之间移动;当承托部5411处于清洗位置时,承托部5411位于超声波清洗池520内以使承托部5411上的晶托板81被清洗介质浸没;当承托部5411处于待抓取位置时,承托部5411上的晶托板81从清洗介质内露出。
可以理解地,承托部5411处于清洗位置时,即代表承托部5411位于超声波清洗池520内,如若承托部5411上具有晶托板81上时,那么晶托板81被清洗介质浸没处于清洗状态,当晶托板81清洗完成后,托举驱动件5414将承托部5411由清洗位置向上提升至待抓取位置,使得承托部5411上的晶托板81从清洗介质内露出,便于后续晶托板81被抓取转移,当然,如若承托部5411处于待抓取位置,且承托部5411上无晶托板81时,也便于后续的抓取单元560将待清洗的晶托板81放置于承托部5411上。
在一些实施例中,请参照图38,工件托举组件540构造为多个,且多个工件托举组件540在第二水平方向Y上间隔开。通过将工件托举组件540设置为多个,即在超声波清洗池520中设置有多个托举工位,且每个工件托举组件540独立工作,能够满足进行多个晶托板81的同时清洗,提高对晶托板81的清洗效率。
在一些实施例中,请参照图38和图39,晶托清洗装置还包括清洗机架510和清洗输送线550,清洗机架510具有沿第二水平方向Y分布的清洗区和输送区,超声波清洗池520设置于清洗区;清洗输送线550设置于输送区,清洗输送线550用于沿第一水平方向X输送经过清胶处理后的晶托板81,第一水平方向X、第二水平方向Y和高度方向Z两两垂直。清洗机架510分为清洗区和输送区两个区域,超声波清洗池520设置于清洗区,而利用清洗输送线550可以自动输送经过清胶处理后的晶托板81,不需要人工输送晶托板81,晶托板81的输送效率更高。
其中,清洗输送线550采用为链板式专用输送带方式,使用变频器控制,输送速度200mm/s,负载200Kg,链板及清洗机架510均为不锈钢材质,清洗输送线550的有效尺寸(长L×宽W×高H)为1860mm×240mm×800mm。
由于清洗输送线550输送的为经过清胶处理后的晶托板81,而经过清胶处理后的晶托板81可能粘附有水分等,为了确保装置的清洁程度,清洗输送线550的下方设置有第三接水盒551,第三接水盒551可以用来承接清洗输送线550上晶托板81所残留的水,对水进行收集,提高了装置的清洁程度,第三接水盒551通过排水管552排至污水池。
另外,请参照图33,超声波清洗池520与清洗输送线550之间至少部分间隔开以形成缝隙,超声波清洗池520和/或清洗输送线550上设置有覆盖缝隙的挡水板553,挡水板553可以避免晶托板81由清洗输送线550转移至超声波清洗池520的过程中,晶托板81上的水分掉落至超声波清洗池520与清洗输送线550之间的缝隙。
在一些实施例中,请继续参照图38,晶托清洗装置还包括抓取单元560,抓取单元560设置于清洗机架510,抓取单元560用于在输送区和清洗区之间移动,以将位于清洗输送线550上的晶托板81转移至超声波清洗池520的托架541上;或,将超声波清洗池520内清洗完成后的晶托板81转移至清洗输送线550。通过在清洗机架510上设置有抓取单元560,抓取单元560可以在输送区和清洗区之间移动,利用抓取单元560可以将位于清洗输送线550上的晶托板81转移至超声波清洗池520的托架541上;或,将超声波清洗池520内清洗完成后的晶托板81转移至清洗输送线550,不需要人为参与,从而提高晶托清洗装置的清洗效率,自动化程度更高。
工作流程为:利用清洗输送线550将待清洗晶托板81运送到指定位置,到位传感器触发,抓取单元560将待清洗的晶托板81抓走至托架541上,然后将托架541上已清洗的晶托板81转移放置到清洗输送线550,利用清洗输送线550将已清洗晶托输送出本设备,然后下一个待清洗的晶托板81通过清洗输送线550运送到指定位置,重复上述工序便可。
对于清洗机架510而言,请结合图40和图41,清洗机架510的底部设置有多个支撑脚515,支撑脚515上具有安装孔,通过穿设螺栓,可以将清洗机架510固定于底面上。清洗机架510为矩形框架结构,矩形框架结构包括多根矩形管和/或方管构成,矩形管的型号可以为80mm×80mm或60mm×40mm,方管可以为80mm×80mm或40mm×40mm,相邻两根管件之间采用焊接固定。清洗机架510在高度方向Z分为上下两层,上层框架511主要供抓取单元560布置,下层框架512供清洗输送线550和超声波清洗池520布置。下层框架512在超声波清洗池520的第一水平方向X的两侧分别设置有若干供托举驱动件5414安装的支撑杆件514,气缸安装于支撑杆件514上。另外,清洗输送线550沿第一水平方向X贯穿于清洗机架510设置,清洗机架510的外周侧除清洗输送线550的位置覆盖有挡板513,清洗机架510的顶部设置有轴流风机570,轴流风机570产生负压,可以将超声波清洗池520内产生的水蒸气抽离。清洗机架510的一侧设置有触摸屏580,触摸屏580可以对晶托清洗装置的预设参数进行设定。
在一些实施例中,请结合图42至图46,抓取单元560包括第五导轨561、横移板562、抓取部566、第二横移驱动单元564和升降驱动单元565,第五导轨561沿第二水平方向Y延伸设置于清洗机架510;横移板562具有第五滑块563,横移板562通过第五滑块563与第五导轨561滑动配合;抓取部566设置于横移板562,抓取部566用于抓取清洗输送线550上的晶托板81或者工件托举组件540上的晶托板81;第二横移驱动单元564其驱动端与横移板562驱动连接,第二横移驱动单元564用于驱动横移板562在清洗机架510沿第二水平方向Y移动;升降驱动单元565设置于横移板562上,升降驱动单元565用于带动抓取部566沿高度方向Z移动。通过设置有抓取单元560,抓取单元560的作用为抓取和转移晶托板81,而第二横移驱动单元564和升降驱动单元565两者配合,第二横移驱动单元564可以驱动横移板562在清洗机架510上沿第二水平方向Y移动,从而使得抓取部566能够在输送区和清洗区之间移动,而升降驱动单元565可以带动抓取部566沿高度方向Z上下升降,从而实现对晶托板81的抓取。
其中,横移板562通过第五导轨561安装于清洗机架510上,第五导轨561的数量设为两根,两根第五导轨561沿第一水平方向X间隔设置于清洗机架510上相对的两侧,同样的,横移板562第一水平方向X的两侧设置有第五滑块563,从而使得横移板562与第五导轨561滑动配合。横移板562采用不锈钢材质,防止超声波清洗池520内的水蒸气的影响,横移板562与第五滑块563通过螺钉连接,第五滑块563的数量共4件,左右对称,第五滑块563沿第五导轨561移动,第五导轨561为重负荷型滚珠直线第五导轨561;第五导轨561的数量为2件,左右对称设置于清洗机架510。
第二横移驱动单元564给横移板562提供驱动作用,驱使横移板562沿第二水平方向Y移动,第二横移驱动单元564可以为多种驱动机构,譬如,第二横移驱动单元564可以为气缸、液压缸、电动推杆、丝杆5652螺母副机构或者电机齿轮齿条机构,在本实施例中,第二横移驱动单元564采用为电机齿轮齿条驱动机构,第二横移驱动单元564包括第一伺服电机5640、第二减速机5641、第四齿轮5642和第四齿条5643,第四齿条5643沿第二水平方向Y设置于清洗机架510的上层框架511上,第一伺服电机5640和减速架安装于横移板562,第二减速机5641的驱动端啮合有第四齿轮5642,第四齿轮5642与第四齿条5643啮合,2.5模数的第四齿轮5642与第四齿条5643的啮合传动,实现X轴方向的移动,在伺服电机的驱动作用下,能够带动横移板562在清洗机架510上沿第二水平方向Y移动。
同样的,升降驱动单元565也可以为多种驱动机构,这里便不再一一赘述,在本实施例中,升降驱动单元565采用丝杆5652传动的方式。升降驱动单元565包括升降机5651、伺服电机和丝杆5652,升降机5651采用锁定倒立式WSH系列蜗轮蜗杆升降机5651,驱动源为第二伺服电机5650,升降机5651的传动方式为丝杠传动,从而实现高度方向Z的移动,丝杆5652的下端设置有连接法兰5654,连接法兰5654与抓取部566中的第二固定板5661通过螺钉连接,丝杆5652的上段设置有保护套筒5653,保护套筒5653对丝杆5652上部提供保护作用,避免人为损坏和杂物干扰。
在一些实施例中,抓取部566包括第二导向轴5660、第二固定板5661和磁性吸附件5662,第二导向轴5660与升降驱动单元565的驱动端连接,第二固定板5661安装于第二导向轴5660的末端,磁性吸附件5662安装于第二固定板5661,磁性吸附件5662通过磁力吸附晶托板81,接近开关5666设置于第二固定板5661,接近开关5666用于判断抓取部566是否吸附有晶托板81。由于晶托板81为金属材质,通过将抓取部566采用为磁性吸附件5662,磁性吸附件5662通过磁力吸附晶托板81,进而实现对晶托板81的牢固抓取,通过在第二固定板5661上设置有接近开关5666,接近开关5666可以起到识别判断作用,从而确保抓取部566对晶托板81的有效抓取。
其中,横移板562上对应于第二导向轴5660的位置设置有避让孔,第二导向轴5660的上端穿过横移板562,第二导向轴5660可以对抓取部566的升降起到导向作用。第二导向轴5660的数量设为两根,两根第二导向轴5660设置于安装板的两侧。同样的,抓取部566中磁性吸附件5662的数量设为两个,磁性吸附件5662采用为磁铁,磁铁选用断电保持型磁铁,以承受高负荷、连续性工作。磁铁与第二固定板5661之间可以设置有弹簧轴5664和弹簧5663,弹簧轴5664的上端穿设于第二固定板5661并连接有第二直线轴承5665,弹簧5663套设于弹簧轴5664上并位于磁铁与第二固定板5661的底部之间,弹簧5663可以给磁铁吸附晶托板81时提供缓冲作用,避免碰伤或刮花晶托板81。
另外,抓取部566的数量设为两组,两组抓取部566间隔安装于横移板562上,同样的,第二横移驱动单元564和升降驱动单元565同样也采用为两组。两组抓取部566可以共同配合,可以一批次分别抓取两个晶托板81。
根据本申请的一些实施例,请参照图47,漂洗冷却装置600包括喷淋组件61和吹风组件62,喷淋组件61用于喷淋晶托板81,吹风组件62用于干燥清洗后的晶托板81。
漂洗冷却装置600还包括第二框架63和冷却输送线64,喷淋组件61、吹风组件62和冷却输送线64均设置于第二框架63。
冷却输送线64用于驱动晶托800依次经过喷淋组件61和吹风组件62。
可选地,冷却输送线64可以为链板式输送带,使用变频器控制,输送速度为200mm/s,负载200Kg,链板及机架均为不锈钢材质。
请参照图48,冷却输送线64的两侧设置有尼龙条641,以防止晶托板81与冷却输送线64摩擦。
请参照图47和图49,喷淋组件61包括第二水箱611、喷淋驱动件612、喷淋管613及喷淋头614,喷淋驱动件612用于将第二水箱611内的水输送至喷淋管613并从喷淋头614喷出。
第二水箱611用于容纳喷淋水,第二水箱611设置有水箱补水口6111、水箱出水口6112、水箱排水口6113和水箱溢流口6114。
水箱补水口6111用于输入自来水。水箱排水口6113用于排出第二水箱611内的水。水箱溢流口6114用于排出第二水箱611内超过预设液位的水。水箱出水口6112与喷淋驱动件612的进水口连接。
可选地,第二水箱611的材质可以为304不锈钢,壁厚可以为3mm。
喷淋驱动件612可以为离心泵,用于将第二水箱611内的水泵送至喷淋管613,以从喷淋头614喷出。
喷淋驱动件612的出水口与喷淋管613的进水口连接,喷淋头614设置于喷淋管613的出水口。
水路循环流程为:第二水箱611的水经由离心泵、喷淋管613和喷淋头614喷淋至晶托板81,晶托板81上的水流入第二水箱611内,完成一个循环。
请参照图50,喷淋组件61还包括冷却水管路615,冷却水管路615设置于第二水箱611内,用于冷却第二水箱611内的水。
冷却水管路615可以为工业冷却水管路615,连接工厂内的冷却水(8℃~12℃),用于为第二水箱611内的水降温。
冷却水管路615具有冷却水管路进水口6151和冷却水管路出水口6152,冷却水管路进水口6151和冷却水管路出水口6152均设置于第二水箱611上,并穿过第二水箱611,以便于与工厂内的冷却水源连接。冷却水管路进水口6151和冷却水管路出水口6152在第二水箱611处密封牢固,以防止漏水。
如图50所示,冷却水管路615呈螺旋状,通过不锈钢保持条616将冷却水管路615焊接连接,防止冷却水管路615变形。
第二水箱611内设置有温度检测器,检测第二水箱611内的水温,以判断是否需要冷却。如果第二水箱611内的水温高于预设温度,则需要通过冷却水管路615对第二水箱611内的水降温;如果第二水箱611内的水温达到预设温度,则停止通过冷却水管路615对第二水箱611内的水降温。
喷淋管613设置于第二框架63上,喷淋管613包括上喷淋管和侧喷淋管,上喷淋管位于晶托板81的上方,侧喷淋管设置于晶托板81的宽度方向的相对的两侧,晶托板81的宽度方向与晶托板81的移动方向垂直。上喷淋管和侧喷淋管均设置有多个喷淋头614。
吹风组件62包括鼓风机621、吹风管路(图中未标出)和风刀622,吹风管路的一端连接于鼓风机621的出风口,风刀622连接于吹风管路的另一端。
鼓风机621抽取空气,将空气加压,通过吹风管路施加到风刀622,以将晶托板81表面的水吹净。
漂洗冷却装置600还包括第四接水盒65,第四接水盒65设置于第二框架63且位于冷却输送线64的下方,第四接水盒65与吹风组件62对应设置,以承接晶托板81上滴落的水,避免污染环境。
请参照图51,第二水箱611设置有接水盒连接孔6115,第四接水盒65通过接水盒连接孔6115与第二水箱611连接,以使第四接水盒65内的水流入第二水箱611。接水盒连接孔6115可以对称设置于第二水箱611的相对的两侧。
虽然已经参考优选实施例对本申请进行了描述,但在不脱离本申请的范围的情况下,可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是,只要不存在结构冲突,各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本申请并不局限于文中公开的特定实施例,而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。
Claims (27)
1.一种晶托分离生产线,所述晶托包括金属材质的晶托板和温度变化后可发生形变的垫板,所述垫板粘接于所述晶托板上,所述晶托分离生产线用于分离所述晶托板与所述垫板,其特征在于,所述晶托分离生产线包括沿所述晶托的输送方向依次分布的翻转上料装置、电磁加热装置、垫板分离装置、清胶装置、超声波清洗装置及漂洗冷却装置;
所述翻转上料装置用于将所述晶托翻转,以使所述垫板位于所述晶托板的上方;
所述电磁加热装置用于对翻转后的所述晶托进行加热以使所述晶托板与所述垫板之间的胶水软化;
所述垫板分离装置用于将加热后的所述晶托的所述垫板与所述晶托板分离;
所述清胶装置用于清理分离后的所述晶托板上的胶水;
所述超声波清洗装置用于对所述清胶装置处理后的所述晶托板进行超声波清洗;
所述漂洗冷却装置用于对超声波清洗后的所述晶托板进行冲洗和降温。
2.根据权利要求1所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述超声波清洗装置包括超声波清洗池和超声波发生器,所述超声波清洗池用于盛装清洗介质,所述超声波发生器设置于所述超声波清洗池,所述超声波发生器包括超声波振子,所述超声波振子用于向所述超声波清洗池内的所述清洗介质提供振动波,以对位于所述超声波清洗池内的所述晶托板进行超声波清洗。
3.根据权利要求2所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述超声波清洗池包括底壁以及设置在所述底壁的外周沿且朝向上方延伸的侧壁,所述超声波振子设置于所述底壁和/或所述侧壁。
4.根据权利要求2所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述超声波清洗池设置有第一加热部件,所述第一加热部件用于对所述超声波清洗池内的清洗介质进行加热控温。
5.根据权利要求2所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述超声波清洗装置还包括工件托举组件,所述工件托举组件包括托架,所述托架用于承托晶托板,所述托架设置于所述超声波清洗池内或所述托架可选择地在所述超声波清洗池内上下移动以使所述晶托板浸没在所述清洗介质或从所述清洗介质露出。
6.根据权利要求1所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述清胶装置包括清胶机架、清胶输送线及清胶机构,所述清胶输送线沿第一水平方向延伸设置于所述清胶机架,所述清胶输送线用于输送与所述垫板分离后的所述晶托板,所述清胶机构设置于所述清胶机架,所述清胶机构用于对的所述清胶输送线上的所述晶托板的残胶进行清理,所述清胶机构包括刮刀单元和清扫刷单元,所述刮刀单元用于对所述晶托板的残胶进行刮除,所述清扫刷单元用于清扫所述刮刀单元刮除的残胶。
7.根据权利要求6所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述清胶机构包括横移架和第一横移驱动单元,所述刮刀单元和所述清扫刷单元均设置于所述横移架,所述第一横移驱动单元用于驱动所述横移架沿所述第一水平方向往复移动。
8.根据权利要求7所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述刮刀单元包括第一刮刀组件和第二刮刀组件,所述第一刮刀组件用于对晶托板的上表面的残胶进行刮除,所述第二刮刀组件用于对晶托板侧面的残胶进行刮除;所述第一刮刀组件包括第一刮刀驱动件和第一刮刀,所述第一刮刀驱动件安装于所述横移架,所述第一刮刀驱动件的驱动端与所述第一刮刀驱动连接,以用于驱动所述第一刮刀沿竖直方向靠近或远离所述清胶输送线上的晶托板。
9.根据权利要求8所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述第一刮刀包括刀杆、刀架和多个主刀头,所述刀杆的一端与所述第一刮刀驱动件的驱动端连接,所述刀杆的另一端连接于所述刀架,多个所述主刀头沿所述第一水平方向间隔分布于所述刀架的相对两侧,多个所述主刀头包括第一主刀头和第二主刀头,所述第一主刀头的上端和所述第二主刀头的上端均与所述刀架连接,沿从上到下的方向上,所述第一主刀头和所述第二主刀头的距离逐渐增加。
10.根据权利要求6所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述清扫刷单元包括第一清扫刷组件和第二清扫刷组件,所述第一清扫刷组件用于对晶托板的上表面的残胶进行清扫,所述第二清扫刷组件用于对晶托板侧面的残胶进行清扫。
11.根据权利要求1所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述翻转上料装置包括上料机构、翻转机构和第一输送线,所述上料机构用于获取并转运所述晶托;所述翻转机构,用于承接并翻转由所述上料机构转运的所述晶托,以使得所述垫板处于晶托板的上方,第一输送线,用于承接由所述翻转机构翻转后的所述晶托并输送所述晶托。
12.根据权利要求11所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述翻转机构包括翻转承接部和翻转驱动部,所述翻转承接部用于承接由所述上料机构转运的所述晶托;
所述翻转驱动部与所述翻转承接部连接,所述翻转驱动部用于驱使所述翻转承接部在第一位置和第二位置之间翻转,在所述翻转承接部处于第一位置时,所述翻转承接部用于承接所述上料机构转运的所述晶托,在所述翻转承接部处于第二位置时,所述翻转承接部将所述晶托放置在所述第一输送线上。
13.根据权利要求12所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述第一输送线具有避空槽,所述避空槽用于容纳所述翻转承接部的至少部分;
所述翻转承接部被配置为在所述第二位置时,所述翻转承接部的一部分容纳于所述避空槽中,所述晶托板被所述第一输送线承接。
14.根据权利要求11所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述上料机构包括晶托固定部和移送组件,所述晶托固定部用于固定所述晶托,所述移送组件用于驱使所述晶托固定部移动以将所述晶托移送至所述翻转机构。
15.根据权利要求1所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述电磁加热装置包括电磁加热机构和调整机构,所述电磁加热机构用于对所述晶托加热;所述调整机构与所述电磁加热机构相连,所述调整机构用于调整所述电磁加热机构的位置,以使所述电磁加热机构均匀地加热所述晶托。
16.根据权利要求15所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述电磁加热装置还包括基座,所述调整机构设置于所述基座,所述电磁加热机构连接于所述调整机构,所述调整机构被配置为驱动所述电磁加热机构相对于所述基座沿第一水平方向往复移动。
17.根据权利要求15所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述电磁加热装置还包括滚刷机构,在所述晶托的移动方向上,所述滚刷机构设置于所述电磁加热机构的上游段,所述滚刷机构用于在所述晶托被加热前清理所述晶托的表面。
18.根据权利要求15所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述电磁加热装置还包括排风机构,所述排风机构用于排出所述晶托加热后产生的水汽。
19.根据权利要求1所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述垫板分离装置包括分离输送线机构、推料机构和废料收集机构,所述分离输送线机构用于承载并输送所述晶托,所述推料机构用于将所述垫板与所述晶托板分离,所述废料收集机构用于收集分离后的所述垫板。
20.根据权利要求19所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述垫板分离装置还包括主体框架,所述分离输送线机构和所述推料机构均设置于所述主体框架,所述推料机构和所述废料收集机构分别位于所述分离输送线机构的相对的两侧,所述推料机构的推料方向与所述晶托的移动方向垂直。
21.根据权利要求20所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述推料机构包括推料驱动件和侧推板,所述推料驱动件安装于所述主体框架,所述侧推板连接于所述推料驱动件的输出端,所述侧推板被配置为在所述推料驱动件的驱动下推动所述垫板相对于所述晶托板移动。
22.根据权利要求20所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述垫板分离装置还包括晶托压块,所述晶托压块设置于所述主体框架的分离位置,当所述晶托移动至所述分离位置时,所述晶托板位于所述晶托压块与所述分离输送线机构之间,以限制所述晶托板翻转。
23.根据权利要求19所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述废料收集机构包括料斗、底盘及行走轮,所述料斗可转动地设置于所述底盘上,所述行走轮设置于所述底盘的底部。
24.根据权利要求1所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述漂洗冷却装置包括喷淋组件和吹风组件,所述喷淋组件用于喷淋所述晶托板,所述吹风组件用于干燥清洗后的所述晶托板。
25.根据权利要求24所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述喷淋组件包括第二水箱、喷淋驱动件、喷淋管及喷淋头,所述喷淋驱动件用于将所述第二水箱内的水输送至所述喷淋管并从所述喷淋头喷出。
26.根据权利要求25所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述喷淋组件还包括冷却水管路,所述冷却水管路设置于所述第二水箱内,用于冷却所述第二水箱内的水。
27.根据权利要求24所述的晶托分离生产线,其特征在于,所述吹风组件包括鼓风机、吹风管路和风刀,所述吹风管路的一端连接于所述鼓风机的出风口,所述风刀连接于所述吹风管路的另一端。
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