CN220520209U - 流体处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种可效率良好地对设置于光源的发光元件进行冷却，且可抑制流体的处理效率下降的流体处理装置。实施方式的流体处理装置包括：筒部，呈筒状，在内部具有供流体流动的空间；基板，设置于筒部的外部；发光元件，设置于基板的筒部侧的面，对在筒部的内部流动的流体照射紫外线；冷却部，设置于基板的与发光元件侧相反的一侧，在内部具有供流体流动的孔；以及泵，使流体流通至冷却部的孔中。在与筒部的其中一端部侧连接且供向筒部供给的流体流动的流路中，从冷却部的孔排出的流体返回至流路的位置比从流路取入要供给至冷却部的孔中的流体的位置更靠下游。

Description

流体处理装置

技术领域

本实用新型涉及一种流体处理装置。

背景技术

存在一种对水等流体照射紫外线，进行流体中包含的细菌的杀菌、病毒的灭活、有机物的分解等处理的流体处理装置。例如，提出了一种流体处理装置，其包括供流体流动的筒部、以及具有对流体照射紫外线的发光二极管等发光元件的光源。此处，当使发光元件点亮时，会产生紫外线以及热。若发光元件的温度因所产生的热而变得过高，则有紫外线的照度下降，或者发光元件的寿命变短之虞。

因此，提出了一种在供流体流动的筒部的内部设置光源的技术。若如此，则可通过流体对设置于光源的发光元件进行冷却。然而，如此一来，需要将光源设为液密结构，因此制造成本增加。而且，在进行光源的维护时，需要将光源从筒部的内部卸下，或者将光源安装于筒部的内部。因此，维护作业会变得繁杂，或者维护时间会变长。

而且，提出了一种在供流体流动的筒部的外部设置光源，将在筒部内部流动的流体的一部分取出并用于光源的冷却的技术。在所述技术中，用于光源的冷却的流体被废弃。当将用于光源的冷却的流体废弃时，流体会产生损失，因此流体的处理效率会下降。

因此，期望开发一种可效率良好地对设置于光源的发光元件进行冷却，且可抑制流体的处理效率下降的流体处理装置。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利第6530681号公报

[专利文献2]日本专利第6681314号公报

实用新型内容

[实用新型所要解决的问题]

本实用新型所要解决的问题在于提供一种可效率良好地对设置于光源的发光元件进行冷却，且可抑制流体的处理效率下降的流体处理装置。

[解决问题的技术手段]

实施方式的流体处理装置包括：筒部，呈筒状，在内部具有供流体流动的空间；基板，设置于所述筒部的外部；发光元件，设置于所述基板的所述筒部侧的面，对在所述筒部的内部流动的所述流体照射紫外线；冷却部，设置于所述基板的与所述发光元件侧相反的一侧，在内部具有供所述流体流动的孔；以及泵，使所述流体流通至所述冷却部的孔中。在与所述筒部的其中一端部侧连接且供向所述筒部供给的所述流体流动的流路中，从所述冷却部的所述孔排出的所述流体返回至所述流路的位置比从所述流路取入要供给至所述冷却部的所述孔中的所述流体的位置更靠下游。

[实用新型的效果]

通过本实用新型的实施方式，可提供一种可效率良好地对设置于光源的发光元件进行冷却，且可抑制流体的处理效率下降的流体处理装置。

附图说明

图1是用于例示流体处理装置的示意立体图。

图2是图1中的流体处理装置的A-A线剖面图。

图3是图1中的流体处理装置的B-B线剖面图。

图4是用于例示光源的示意剖面图。

图5是用于例示光源的示意剖面图。

图6是冷却部的配管系统图。

图7是设置有多个冷却部时的配管系统图。

图8是设置有多个冷却部时的配管系统图。

图9是设置有多个冷却部时的配管系统图。

图10是设置有多个流体处理装置时的配管系统图。

图11是设置有多个流体处理装置时的配管系统图。

[符号的说明]

1：流体处理装置

2：筒部

2a、33a、34a、43a、44a、63b、65a：孔

2b：密封构件

2c：中心轴

3：供给头

4：排出头

5：基座

6：光源

21、31、32a、41、42a：凸缘

32：供给部

32a1：流路

32b：开闭阀

33、34、43、44：整流板

42：排出部

51：台座

52：架台

61：发光元件

62：基板

63：支架

63a：凹部

64：窗

65：冷却部

65b：配管接头

66：泵

300、300a：流体

301、302：位置

A-A、B-B：线

C、D：部

具体实施方式

以下，参照附图对实施方式进行例示。而且，在各附图中，对同样的构成元件标注相同的符号并适当省略详细的说明。

另外，本实用新型的实施方式的流体处理装置1例如可用于水等流体中包含的细菌的杀菌、病毒的灭活、有机物的分解等处理。但是，流体处理装置1的用途并不限定于进行例示的用途。

图1是用于例示流体处理装置1的示意立体图。

图2是图1中的流体处理装置1的A-A线剖面图。

图3是图1中的流体处理装置1的B-B线剖面图。

如图1所示，流体处理装置1例如具有筒部2、供给头3、排出头4、基座5以及光源6。

如图1至图3所示，筒部2呈筒状，在内部具有供要进行处理的流体300流动的空间。筒部2的内部空间成为供流体300流动的流路，并且成为通过从光源6照射的紫外线来进行处理的处理空间。筒部2的两侧的端部开口。在筒部2的两侧的端部能够分别设置框状的凸缘21。

筒部2例如可采用方筒管。此时，如图1所示，若从沿着筒部2的中心轴2c的方向观察而筒部2的剖面的轮廓为四边形，则筒部2的侧部为面积大的平坦面，因此光源6的安装变得容易。而且，可在彼此相向的侧部安装光源6。例如，若从彼此相向的光源6向筒部2的内部照射紫外线，则可增多紫外线对流体300的照射光量，或者减小照射不均。因此，能够提高杀菌等的处理性能，或者增加流体300的处理量。

由于进行处理的流体300在筒部2的内部流动，因此流体300会接触筒部2的内壁。而且，从光源6照射的紫外线入射至筒部2的内壁。此时，只要入射至筒部2的内壁的紫外线不会透射过筒部2而被筒部2的内壁反射，便可实现紫外线利用效率的提高，甚而实现杀菌等的处理性能的提高。而且，只要能提高紫外线的利用效率，便可减少光源6中所设的发光元件61的数量。只要发光元件61的数量变少，便可实现光源6的小型化、低成本化、节能化等。

因此，筒部2优选由对作为处理对象的流体300的耐受性、对紫外线的耐受性以及对紫外线的反射率高的材料所形成。例如，筒部2可由不锈钢或钛等金属或者氟树脂等树脂所形成。

而且，作为处理对象的流体300有海水、地下水、糖液等的情况。在海水或地下水等中，含有砂、微生物的尸骸、无机盐、有机物等异物。而且，在糖液等中，含有糖分或在制造工序中产生的杂质等异物。由于流体300会接触到筒部2的内壁，因此若在流体300中含有异物，则有时异物会附着于筒部2的内壁。若有异物附着于筒部2的内壁，则对紫外线的反射率会下降。若反射率下降，则照射至流体300的反射光(紫外线)的照射光量将变少。而且，若异物附着于筒部2的内壁的一部分，则反射率会局部下降而易产生照射不均。若紫外线的照射光量变少或者产生了照射不均，则杀菌等的处理性能有下降之虞。

因此，优选为筒部2的内壁的表面粗糙度(算术平均粗糙度)Ra设为50nm(纳米)以下，优选的是设为3nm(纳米)以上且50nm(纳米)以下。只要将筒部2的内壁的表面粗糙度如此设置，便能够抑制异物附着于筒部2的内壁，且能够提高对紫外线的反射率。

而且，只要筒部2由含有8wt％以上的Ni(镍)的不锈钢所形成，便可提高对紫外线的反射率与对海水等易产生腐蚀的流体的耐受性。含有8wt％以上的Ni的不锈钢例如为SUS304或SUS316等。

供给头3被设在筒部2的其中一端部。供给头3呈筒状，两侧的端部开口。供给头3的内部空间与筒部2的内部空间相连。供给头3的内部空间成为向筒部2的内部空间供给流体300的流路。

与筒部2的中心轴2c正交的方向上的、供给头3的尺寸随着朝向筒部2侧而渐增。当从沿着筒部2的中心轴2c的方向观察时，供给头3的筒部2侧的端部的形状和尺寸可设为与筒部2的端部的形状和尺寸相同。例如在筒部2为方筒的情况下，供给头3的外观形状可设为棱锥台。如图1所示，在筒部2为四方筒的情况下，供给头3的外观形状可设为四棱锥台。

在供给头3的筒部2侧的端部，可设置框状的凸缘31。供给头3的凸缘31与筒部2的凸缘21可使用螺丝等的紧固构件来连接。而且，在供给头3的凸缘31与筒部2的凸缘21之间，可设置密封构件。密封构件例如为O型环等。

在供给头3的与筒部2侧为相反侧的端部，可连接供给部32。在供给部32的、与供给头3侧为相反侧的端部，可设置凸缘32a等连接构件。例如，在凸缘32a可连接流路32a1。即，流路32a1与筒部2的其中一端部侧连接。对筒部2供给的流体300在流路32a1中流动。流路32a1例如为配管等。在流路32a1可连接流体300的供给装置等。流体300的供给装置例如既可为泵等，也可为工厂配管等。而且，在供给部32可设置开闭阀32b。若设有开闭阀32b，则例如在维护时可使位于筒部2内部的流体300排出。

供给头3的材料只要具有对流体300与紫外线的耐受性，则并无特别限定。但是，若供给头3的材料为对紫外线的反射率高的材料，则可使入射至供给头3的内壁的紫外线反射而照射至流体300。因此，可实现紫外线利用效率的提高，甚而实现杀菌等的处理性能的提高。

供给头3的材料例如可设为与筒部2的材料相同。供给头3的内壁的表面粗糙度例如可设为与筒部2的内壁的表面粗糙度相同。

如图2所示，在供给头3的内部，可设置整流板33以及整流板34。整流板33以及整流板34可在沿着筒部2的中心轴2c的方向(流体300的流动方向)上排列设置。例如，整流板34被设在比整流板33更靠筒部2侧。整流板33以及整流板34呈板状，例如可由与供给头3的材料相同的材料所形成。整流板33以及整流板34的表面粗糙度Ra例如可设为与筒部2的内壁的表面粗糙度相同。

如图3所示，在整流板34上，可设置沿厚度方向贯穿整流板34的多个孔34a。多个孔34a的数量、配置、开口面积、形状、间隔(间距尺寸)可根据与筒部2的中心轴2c正交的方向的尺寸或处理流量等来适当变更。但优选的是，多个孔34a的总开口面积大于供给头3的与筒部2侧为相反侧的端部的开口面积。这样便能够抑制流体300流经多个孔34a的内部时的压力损失。

在整流板33上，也可设置沿厚度方向贯穿整流板33的多个孔33a。多个孔33a的配置、开口面积、形状、间隔(间距尺寸)可设为与前述的孔34a同样。当从沿着筒部2的中心轴2c的方向观察时，多个孔33a可与多个孔34a重合。这样，在筒部2的内部，流体300的流动易成为层流。若流体300的流动成为层流，则能够抑制流体300的流动在筒部2的内部发生停滞。因此，能够抑制产生紫外线的照射不均，因此能够提高杀菌等的处理性能。

而且，能够抑制流体300流经多个孔33a的内部以及多个孔34a的内部时的压力损失。另外，整流板33的大小小于整流板34的大小。因此，多个孔33a的数量少于多个孔34a的数量。但是，优选的是，多个孔33a的总开口面积大于供给头3的与筒部2侧为相反侧的端部的开口面积。这样便能够抑制流体300流经多个孔33a的内部时的压力损失。

另外，例示了设有整流板33以及整流板34的情况，但也可仅设置其中任一个，还可设置三个以上的整流板。此时，若整流板的数量变多，则越容易使流体300的流动成为层流。另一方面，若整流板的数量变多，则压力损失将变大。因此，整流板的数量例如可根据筒部2的、与中心轴2c正交的方向的剖面积(流路面积)或处理流量等来适当变更。

排出头4被设在筒部2的、与设有供给头3的一侧为相反侧的端部。排出头4呈筒状，且两侧的端部开口。排出头4的内部空间与筒部2的内部空间相连。排出头4的内部空间为从筒部2的内部空间排出实施了杀菌等处理的流体300a的流路。

排出头4的尺寸、形状、向筒部2的安装以及材料例如可设为与前述的供给头3的尺寸、形状、向筒部2的安装以及材料相同。

例如，在排出头4的筒部2侧的端部，可设置框状的凸缘41。排出头4的凸缘41与筒部2的凸缘21可使用螺丝等紧固构件来连接。在排出头4的凸缘41与筒部2的凸缘21之间，可设置O型环等密封构件。

在排出头4的与筒部2侧为相反侧的端部，可连接排出部42。在排出部42，例如可设置凸缘42a等连接构件。例如，可将收纳实施了杀菌等处理的流体300a的槽罐、使用流体300a的清洗装置等经由配管而连接于凸缘42a。

如图2所示，在排出头4的内部，可设置整流板43以及整流板44。整流板43以及整流板44可在沿着筒部2的中心轴2c的方向(流体300的流动方向)上排列设置。例如，整流板44是设在比整流板43更靠筒部2侧。

在整流板43上，可设置沿厚度方向贯穿整流板43的多个孔43a。多个孔43a的数量、配置、开口面积、形状、间隔(间距尺寸)可设为与前述的整流板33的多个孔33a的数量、配置、开口面积、形状、间隔(间距尺寸)相同。

在整流板44上，可设置沿厚度方向贯穿整流板44的多个孔44a。多个孔44a的数量、配置、开口面积、形状、间隔(间距尺寸)可设为与前述的整流板34的多个孔34a的数量、配置、开口面积、形状、间隔(间距尺寸)相同。

在从沿着筒部2的中心轴2c的方向观察时，多个孔43a与多个孔44a重合。而且，多个孔43a与整流板33的多个孔33a重合。这样，在筒部2的内部，流体300的流动易成为层流。而且，能够抑制实施了杀菌等处理的流体300a流经多个孔43a的内部以及多个孔44a的内部时的压力损失。

另外，例示了设有整流板43以及整流板44的情况，但也可设置其中一个，还可设置三个以上的整流板。而且，也可设置整流板33、整流板34、整流板43以及整流板44的至少任一个。若在供给头3的内部与排出头4的内部设置整流板，则容易使流体300的流动成为层流。另一方面，若在供给头3的内部与排出头4的内部设置整流板，则压力损失将变大。因此，整流板的配置或数量例如可根据筒部2的、与中心轴2c正交的方向的剖面积(流路面积)或处理流量等来适当变更。

另外，在由于筒部2的、与中心轴2c正交的方向的剖面积(流路面积)小，而易在筒部2的内部形成层流的情况等下，也可省略整流板33、整流板34、整流板43、整流板44。

而且，例示了整流板设在供给头3的内部与排出头4的内部的情况，但整流板也可设在筒部2的内部。

基座5保持筒部2。基座5例如具有台座51与架台52。

台座51例如呈板状，可固定于地板等。架台52被设在台座51的其中一面。架台52例如具有使用型钢等细长构件的骨架结构。在架台52的、与台座51侧为相反侧的端部，可使用螺丝等紧固构件来安装筒部2的凸缘21以及供给头3的凸缘31中的至少任一个。在架台52的内部，可设置供给头3。

另外，基座5的结构并不限定于例示者，可根据流体处理装置1的设置环境等来适当变更。而且，在可直接设置设有供给头3、排出头4以及光源6的筒部2的情况下，可省略基座5。

光源6可使用螺丝等紧固构件而能够装卸地设在筒部2的侧部。发光元件61的寿命比放电灯等长，若点亮时间长，则发光效率会下降。而且，还要考虑到发光元件61发生故障而不亮的情况。若将光源6能够装卸地设在筒部2的侧部，则发光元件61的更换等维护变得容易。光源6可设置至少一个。图1以及图2所例示的流体处理装置1中设有四个光源6。

图4以及图5是用于例示光源6的示意剖面图。

另外，图4是图2中的C部的放大图。

图5是图3中的D部的放大图。

如图4以及图5所示，光源6例如具有发光元件61、基板62、支架63以及冷却部65。另外，在设置多个光源6的情况下，可设置具有相同结构的光源6，例如，也可设置具有发光元件61的数量等不同的结构的光源。

发光元件61被设在基板62的筒部2侧的面，经由后述的窗64来对在筒部2的内部流动的流体300照射紫外线。发光元件61可设置至少一个。图4以及图5所例示的光源6中设有多个发光元件61。在设有多个发光元件61的情况下，可将多个发光元件61串联连接。发光元件61只要是能够照射紫外线的元件，则并无特别限定。发光元件61例如可采用发光二极管或激光二极管等。从发光元件61照射的紫外线的峰值波长例如可设为260nm(纳米)以上且290nm(纳米)以下。

基板62呈板状，设置于筒部2的外部。基板62设置于冷却部65的筒部2侧的面。基板62例如可使用导热性粘合剂而粘合于冷却部65，也可经由散热片、散热带、散热脂(导热性脂)等而安装于冷却部65。

在基板62的、筒部2侧的面上，可设置配线图案。基板62优选由具有对紫外线的耐受性且导热率高的材料所形成。基板62例如可由氧化铝等的陶瓷、或者利用绝缘材料覆盖金属板表面的金属芯(metal core)基板等所形成。

支架63使用螺丝等紧固构件而能够装卸地设在筒部2的侧部。支架63呈板状，在筒部2侧的面具有开口的凹部63a。在凹部63a的内部设有窗64。在凹部63a的底面可设置孔63b。在孔63b的内部可设置发光元件61以及基板62。支架63例如具有保持窗64的功能与收纳发光元件61以及基板62的功能。支架63例如可由不锈钢等金属所形成。

在筒部2的侧部，设有与供流体300流动的空间连通的孔2a。窗64呈板状，覆盖孔2a的开口。在筒部2的侧部，可设置包围孔2a的开口的密封构件2b。密封构件2b例如可采用O型环等。在将支架63安装于筒部2的侧部时，设在凹部63a内部的窗64被密封构件2b按压。因此，能够将窗64与筒部2的侧部之间密封为液密。

窗64被设在筒部2的侧部。窗64覆盖被设在筒部2的侧部的孔2a。因此，从发光元件61出射的紫外线经由窗64与设在筒部2的侧部的孔2a而照射至在筒部2的内部流动的流体300。窗64是由可使紫外线透射且具有对紫外线和流体300的耐受性的材料所形成。窗64例如是由石英玻璃或者使紫外线透射的氟树脂等所形成。

而且，在窗64的、发光元件61侧的面，也可设置抗反射膜。若设有抗反射膜，则可抑制从发光元件61出射的紫外线被窗64反射而难以照射至流体300的情况。即，能够提高从发光元件61出射的紫外线的利用效率。

而且，在窗64的筒部2侧的面，也可设置防污膜。如前所述，流体300中有时会含有异物。若异物附着于窗64，则从发光元件61出射的紫外线将难以透射过窗64。若设有防污膜，则能够抑制异物附着于窗64。

冷却部65例如呈板状，设置于基板62的与发光元件61侧相反的一侧。冷却部65在内部具有供处理前的流体300流动的孔65a。而且，为了提高散热性，也可在冷却部65进一步设置散热鳍片等。如图4所示，在孔65a连接有一对配管接头65b。处理前的流体300可经由一对配管接头65b流入孔65a中。另外，关于流体300向冷却部65(孔65a)的供给以及流体300从冷却部65(孔65a)的排出的详情，将在后文叙述。

冷却部65可由导热性高的材料所形成。例如，冷却部65可由铝、铜、不锈钢等金属所形成。

通过使流体300在冷却部65的孔65a中流动，能够对发光元件61进行冷却。因此，例如即便使发光元件61的数量或施加电力等增加，发光元件61的温度也难以超过最大结温(junction temperature)。

而且，如图1以及图2所示，在本实施方式的流体处理装置1中，光源6被设在与筒部2的中心轴2c正交的方向上。例如，光源6被设在筒部2的侧部，朝向在筒部2的内部在沿着中心轴2c的方向上流动的流体300照射紫外线。

此时，如图2所示，光路长度与筒部2的侧部彼此之间的距离为同程度。即，与在筒部2的中心轴2c方向上的端部设置光源6的情况相比，可缩短光路长度。因此，例如即便是紫外线透射率低的流体300，由于能够减小光量衰减，因此也能够提高杀菌等的处理性能。而且，由于可增多直接照射至流体300的紫外线的照射量，因此即便有异物附着于筒部2的内壁，也能够抑制杀菌等的处理性能下降。而且，即便为了增加流体300的处理量而加大筒部2的剖面积(流路的剖面积)，光路长度的增加量也只要较少即可。因此，即便加大筒部2的剖面积，也能够抑制直接照射至流体300的紫外线的照射量变少，甚而能够维持杀菌等的处理性能。

而且，如图1以及图2所示，若一对光源6夹着筒部2的中心轴2c而彼此相向，则可从另一个光源6向位于远离其中一个光源6的位置处的流体300照射紫外线。因此，能够增加被照射至流体300的紫外线的照射量，或者消除照射不均，因此能够进一步提高杀菌等的处理性能。

而且，如图1以及图2所示，若将一对光源6在沿着筒部2的中心轴2c的方向上排列设置多组，则在筒部2的内部的大范围区域中，能够全面地对在筒部2的内部流动的流体300照射紫外线。因此，能够实现处理量的增加与杀菌等的处理性能的提高。

接着，对流体300向冷却部65的供给、以及流体300从冷却部65的排出进一步进行说明。

若将对冷却部65的孔65a供给的制冷剂设为处理前的流体300，则能够省略制冷剂与供给制冷剂的供给装置。

此时，可废弃供给至冷却部65的孔65a的流体300。然而，如此一来，在流体300产生损失，因此流体300的处理效率下降。

因此，在本实施方式的流体处理装置1中，使从冷却部65的孔65a排出的流体300返回至供向筒部2供给的流体300流动的流路32a1中。这样，流体300不会产生损失，因此能够抑制流体300的处理效率下降。

此时，当对冷却部65供给实施了处理的流体300a，使从冷却部65的孔65a排出的流体300a返回至与筒部2连接的流路32a1中时，对返回的流体300a再次进行处理。因此，优选为将处理前的流体300供给至冷却部65的孔65a中，使从冷却部65的孔65a排出的流体300返回至与筒部2连接的流路32a1。这样，不对流体300的一部分进行两次处理，因此能够实现光源6中的节能化。

图6是冷却部65的配管系统图。

另外，图6是设置有一个光源6(冷却部65)的情况。

如图6所示，在冷却部65与流路32a1之间，可设置使流体300流通至冷却部65的孔65a中的泵66。另外，例示了泵66设置于冷却部65(孔65a)的流体300的供给侧的情况，但泵66也可设置于冷却部65(孔65a)的流体300的排出侧。

此处，通过供给至冷却部65的孔65a中的流体300来进行发光元件61的冷却。当通过流体300进行发光元件61的冷却时，流体300的温度上升。因此，当仅仅使从冷却部65的孔65a排出的流体300返回至流路32a1时，有时温度高的流体300被供给至冷却部65的孔65a中。例如，在流路32a1中，若将从冷却部65的孔65a排出的流体300返回至流路32a1的位置302设为比从流路32a1取入要供给至冷却部65的孔65a中的流体300的位置301更靠上游侧，则有时由于来自发光元件61的热而温度变高的流体300经由位置301而供给至冷却部65的孔65a中。当温度高的流体300被供给至冷却部65的孔65a中时，则有难以抑制发光元件61的温度上升之虞。

因此，如图6所示，在流路32a1中，从冷却部65的孔65a排出的流体300返回至流路32a1的位置302优选为设为比从流路32a1取入要供给至冷却部65的孔65a中的流体300的位置301更靠下游侧(筒部2侧)。这样，能够抑制温度高的流体300供给至冷却部65的孔65a中，因此容易抑制发光元件61的温度上升。

此时，由于返回至流路32a1的流体300通过紫外线进行处理，因此未处理的流体300不会从流体处理装置1排出。

图7～图9是设置有多个冷却部65时的配管系统图。

另外，在图7～图9中，例示了设置四个冷却部65的情况，但冷却部65的数量只要是两个以上即可。而且，虽例示了在筒部2的其中一侧面设置光源6(冷却部65)的情况，但例如也可如图1以及图2所例示的那样，在筒部2的彼此相向的侧面分别设置光源6(冷却部65)。

如图7所示，多个冷却部65的孔65a可串联连接。例如，可经由配管等将一个冷却部65的孔65a的排出侧与另一个冷却部65的孔65a的供给侧连接。在将多个冷却部65的孔65a串联连接的情况下，也优选为将从串联连接的多个冷却部65的孔65a排出的流体300返回至流路32a1的位置302设为比从流路32a1取入要供给至串联连接的多个冷却部65的孔65a中的流体300的位置301更靠下游侧。

若将多个冷却部65的孔65a串联连接，则配管路径变得简洁，因此配管作业变得容易。因此，能够实现流体处理装置1的制造成本的降低。另外，当将多个冷却部65的孔65a串联连接时，经加热的流体300被供给至其他冷却部65的孔65a中。然而，在流体300的温度低的情况或发光元件61的发热量少的情况等下，能够维持其他冷却部65中的冷却效果。

如图8所示，多个冷却部65的孔65a可并联连接。例如，可经由配管等将多个冷却部65的孔65a的排出侧彼此连接，将多个冷却部65的孔65a的供给侧彼此连接。即便在将多个冷却部65的孔65a并联连接的情况下，也优选为将从并联连接的多个冷却部65的孔65a排出的流体300返回至流路32a1的位置302设为比从流路32a1取入要供给至并联连接的多个冷却部65的孔65a中的流体300的位置301更靠下游侧。

即便将多个冷却部65的孔65a并联连接，配管路径也变得简洁，因此配管作业变得容易。因此，能够实现流体处理装置1的制造成本的降低。而且，若将多个冷却部65的孔65a并联连接，则经加热的流体300不会供给至其他冷却部65的孔65a中。因此，容易维持多个冷却部65中的冷却效果。

如图9所示，可将多个冷却部65的孔65a分别与流路32a1连接。此时，优选为将分别从多个冷却部65的孔65a排出的流体300返回至流路32a1的位置302设为比从流路32a1取入要分别供给至多个冷却部65的孔65a中的流体300的位置301更靠下游侧。

这样，能够维持多个冷却部65中的冷却效果。

图10以及图11是设置有多个流体处理装置1时的配管系统图。

另外，在图10以及图11中，例示了对一个流体处理装置1设置一个光源6(冷却部65)的情况，但也可对一个流体处理装置1设置多个光源6(冷却部65)。而且，虽例示了设置四个流体处理装置1的情况，但流体处理装置1的数量只要是两个以上即可。

如图10所示，多个流体处理装置1可串联连接。例如，可经由配管等将一个流体处理装置1的排出侧与另一个流体处理装置1的供给侧连接。

此时，例如，可经由配管等将设置于一个流体处理装置1的冷却部65的孔65a的排出侧与设置于另一个流体处理装置1的冷却部65的孔65a的供给侧连接。即，与图7中例示者同样地，可将多个冷却部65的孔65a串联连接。若将多个冷却部65的孔65a串联连接，则可享有与图7中说明者相同的效果。另外，也可将多个冷却部65的孔65a并联连接。若将多个冷却部65的孔65a并联连接，则可享有与图8中说明者相同的效果。而且，也可将多个冷却部65的孔65a分别与流路32a1连接。这样，可享有与图9中说明者相同的效果。

如图11所示，多个流体处理装置1可并联连接。例如，可经由配管等将多个流体处理装置1的排出侧彼此连接，将多个流体处理装置1的供给侧彼此连接。

此时，例如，可经由配管等将设置于一个流体处理装置1的冷却部65的孔65a的排出侧与设置于另一个流体处理装置1的冷却部65的孔65a的供给侧连接。即，与图7中例示者同样地，可将多个冷却部65的孔65a串联连接。若将多个冷却部65的孔65a串联连接，则可享有与图7中说明者相同的效果。另外，也可将多个冷却部65的孔65a并联连接。若将多个冷却部65的孔65a并联连接，则可享有与图8中说明者相同的效果。而且，也可将多个冷却部65的孔65a分别与流路32a1连接。这样，可享有与图9中说明者相同的效果。

以上，例示了本实用新型的若干个实施方式，但这些实施方式是作为示例而提示，并非意图限定实用新型的范围。这些新颖的实施方式能以其他的各种形态来实施，在不脱离实用新型的主旨的范围内可进行各种省略、置换、变更等。这些实施方式或其变形例包含在实用新型的范围或主旨内，并且包含在权利要求所记载的实用新型及其均等的范围内。而且，前述的各实施方式可相互组合实施。

Claims (3)

1.一种流体处理装置，其特征在于，包括：

筒部，呈筒状，在内部具有供流体流动的空间；

基板，设置于所述筒部的外部；

发光元件，设置于所述基板的、所述筒部侧的面，对在所述筒部的内部流动的所述流体照射紫外线；

冷却部，设置于所述基板的与所述发光元件侧相反的一侧，在内部具有供所述流体流动的孔；以及

泵，使所述流体流通至所述冷却部的孔中，

在与所述筒部的其中一端部侧连接且供向所述筒部供给的所述流体流动的流路中，从所述冷却部的所述孔排出的所述流体返回至所述流路的位置，比从所述流路取入要供给至所述冷却部的所述孔中的所述流体的位置更靠下游。

2.根据权利要求1所述的流体处理装置，其特征在于，所述冷却部设置有多个，多个所述冷却部的孔串联连接。

3.根据权利要求1所述的流体处理装置，其特征在于，所述冷却部设置有多个，多个所述冷却部的孔并联连接。