CN220476921U - 一种雾化座组件及气溶胶生成装置 - Google Patents
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Abstract
本申请实施例提供一种雾化座组件及气溶胶生成装置,雾化座组件包括雾化座和雾化芯,雾化座设置有气流通道、进液通道以及贯穿进液通道的侧壁的开口;进液通道与气流通道通过开口连通,气流通道与开口相对的侧壁局部凹陷并限定出凹陷区域;雾化芯设置于开口,雾化芯的雾化面朝向凹陷区域。本申请实施例的雾化座,通过在气流通道与开口相对的侧壁局部凹陷并限定出凹陷区域以改变空气在气流通道中的流动形态,即用于使空气在凹陷区域处产生旋流,可以使得气溶胶与空气在气流通道内充分混合,降低出气通道的出气口处的气溶胶的温度,改善口感,进而改善用户使用体验感。
Description
技术领域
本申请涉及雾化技术领域,特别是涉及一种雾化座组件及气溶胶生成装置。
背景技术
气溶胶生成装置是通过控制电路和雾化元件来控制工作状态和烟雾输出量,以供用户抽吸的一种电子传送系统。
相关技术中的侧向雾化的气溶胶生成装置,外界的空气的流动方向与雾化芯雾化气溶胶生成基质后释放的气溶胶的方向呈垂直相遇状态,导致雾化区域内的空气和气溶胶混合不充分,从而导致出气口气溶胶的温度会过高,进而导致口感差的问题。
实用新型内容
有鉴于此,本申请实施例期望提供一种雾化座组件及气溶胶生成装置,能够改善口感,改善用户使用体验感。
为达到上述目的,本申请实施例提供了一种雾化座组件,包括:
雾化座,所述雾化座设置有气流通道、进液通道以及贯穿所述进液通道的侧壁的开口,所述进液通道与所述气流通道通过所述开口连通,所述气流通道与所述开口相对的侧壁局部凹陷并限定出凹陷区域;
雾化芯,所述雾化芯设置于所述开口,所述雾化芯的雾化面朝向所述凹陷区域。
一些实施例中,所述凹陷区域对着所述开口。
一些实施例中,所述气流通道的延伸方向与所述开口所在平面平行。
一些实施例中,在与所述开口平行的投影面上,所述开口的投影与所述凹陷区域的投影至少部分重叠,且所述开口的重叠区域在高度方向上的投影位于所述凹陷区域在高度方向上的投影范围内。
一些实施例中,所述凹陷区域的轮廓为曲率不为零的曲面。
一些实施例中,所述凹陷区域的截面轮廓为椭圆的一部分。
一些实施例中,所述凹陷区域的凹陷深度范围为0.3mm-0.6mm。
一些实施例中,所述凹陷区域的高度范围为3mm-6mm。
一些实施例中,所述凹陷区域的宽度范围为2mm-5mm。
一些实施例中,所述凹陷区域的宽度与所述气流通道的宽度一致。
一些实施例中,所述雾化座包括雾化顶座和雾化底座,所述雾化底座设置于所述雾化顶座的底侧,且与所述雾化顶座共同限定出所述气流通道,所述雾化顶座设置有所述进液通道和所述开口,所述气流通道以及所述进液通道均沿所述雾化座的高度方向延伸。
一些实施例中,所述雾化顶座形成有贯穿所述雾化顶座的顶壁的连接口,所述连接口与所述气流通道连通。
一些实施例中,所述雾化座组件包括套设于所述雾化座的密封套,所述密封套形成有避让所述进液通道的进液口。
本申请实施例还提供一种气溶胶生成装置,包括电源组件以及上述所述的雾化座组件,所述电源组件与所述雾化芯电连接。
一些实施例中,所述气溶胶生成装置包括具有空腔和出气通道的壳体,所述雾化座组件的至少部分结构设置于所述空腔内,所述雾化座组件的顶壁和所述空腔的侧壁限定出用于存储气溶胶产生基质的储液腔,所述进液通道用于将气溶胶生成基质导流至所述雾化芯,所述气流通道和所述出气通道连通。
本申请实施例提供的雾化座组件及气溶胶生成装置,雾化座组件包括雾化座和雾化芯,雾化座设置有气流通道、进液通道以及贯穿进液通道的侧壁的开口,进液通道与气流通道通过开口连通,开口用于安装雾化芯,由此,可以使得雾化芯的雾化面朝向气流通道,即进液通道可以将气溶胶生成基质导流至雾化芯的雾化面,雾化面用于对气溶胶生成基质进行雾化以生成气溶胶,生成的气溶胶在气流通道内与进入气流通道的空气混合,并经溶胶生成装置的出气通道流出以供用户使用。本申请实施例的雾化座,通过在气流通道与开口相对的侧壁局部凹陷并限定出凹陷区域以改变空气在气流通道中的流动形态,即用于使空气在凹陷区域处产生旋流,可以使得气溶胶与空气在气流通道内充分混合,降低出气通道的出气口处的气溶胶的温度,改善口感,进而改善用户使用体验感。
附图说明
图1为本申请一实施例中的气溶胶生成装置的结构示意图;
图2为图1的剖视图;
图3为图1的另一方向的剖视图;
图4为本申请一实施例中的雾化座的爆炸图;
图5为2中所示的雾化座组件的剖视图;
图6为3中所示的雾化座组件的剖视图;
图7为5中所示的雾化底座的剖视图;
图8为5中所示的雾化顶座的剖视图。
附图标记说明
10、雾化座组件;11、雾化座;11a、气流通道;11b、开口;11c、进液通道;11d、凹陷区域;11e、进气口;111、雾化顶座;111a、连接口;112、雾化底座;12、雾化芯;12a、雾化面;13、密封套;13a、进液口;14、密封件;15、顶针;20、电源组件;30、壳体;31、外壳;32、连接管;32a、出气通道;50、密封塞;100、气溶胶生成装置;100a、储液腔。
具体实施方式
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的技术特征可以相互组合,具体实施方式中的详细描述应理解为本申请宗旨的解释说明,不应视为对本申请的不当限制。
在本申请实施例的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“顶”、“底”、“左”、“右”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图2和附图3所示的方位或位置关系,这些方位术语仅是为了便于描述本申请实施例和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请实施例的限制。下面结合附图及具体实施例对本申请再作进一步详细的说明。
本申请实施例提供一种气溶胶生成装置,请参阅图1和图2,包括电源组件20以及本申请任意一项实施例提供的雾化座组件10,电源组件20与雾化座组件10的雾化芯12电连接。电源组件20用于为雾化芯12供电,并控制雾化芯12工作,以使得雾化芯12能够雾化气溶胶生成基质形成气溶胶。
气溶胶生成装置100用于对气溶胶生成基质进行雾化以产生气溶胶供用户吸食。
气溶胶生成基质包括但不限于药品、含尼古丁的材料或不含尼古丁的材料等。
本申请实施例提供一种雾化座组件,请参阅图2至图8,雾化座组件10包括雾化座11和雾化芯12,雾化座11设置有气流通道11a、进液通道11c以及贯穿进液通道11c的侧壁的开口11b;进液通道11c与气流通道11a通过开口11b连通,开口11b用于安装雾化芯12,气流通道11a与开口11b相对的侧壁局部凹陷并限定出凹陷区域11d;雾化芯12设置于开口11b,雾化芯12的雾化面12a朝向凹陷区域11d。
示例性地,气流通道11a的延伸方向与开口11b所在平面可以平行或者大致平行,即气流通道11a的延伸方向与雾化面12a平行或者大致平行,也就是说,外界的空气在气流通道11a内的流动方向与雾化面12a雾化气溶胶生成基质后释放气溶胶的释放方向互相垂直。
当然,气流通道11a的延伸方向与开口11b所在平面也可以不平行。
气流通道11a与开口11b相对的侧壁局部凹陷并限定出凹陷区域11d,即气流通道11a与雾化面12a相对的侧壁局部凹陷并限定出凹陷区域11d。
气溶胶生成装置100包括具有空腔和出气通道32a的壳体30,雾化座11的至少部分结构设置于空腔内,雾化座组件10的顶壁和空腔的侧壁限定出用于存储气溶胶产生基质的储液腔100a,进液通道11c用于将气溶胶生成基质导流至雾化芯12,气流通道11a和出气通道32a连通。
需要说明的是,雾化座组件10与壳体30可以是可拆卸连接,有利于对雾化座组件10进行维修、清洗或者更换,或者进行注液,其中,可拆卸地连接的方式包括但不限于为螺纹连接,磁吸连接等。
雾化座组件10至少有部分结构设置于空腔内指的是,可以是雾化座组件10的一部分结构设置于空腔内,也可以是雾化座组件10的全部结构设置于空腔内。
请参阅图2至图6,雾化座11设置有气流通道11a、进液通道11c以及贯穿进液通道11c的侧壁的开口11b,进液通道11c与气流通道11a通过开口11b连通。也就是说,储液腔100a内的气溶胶生成基质能够流向进液通道11c。
请参阅图2至图8,雾化芯12设置于开口11b,雾化面12a朝向气流通道11a,即进液通道11c用于将储液腔100a内的气溶胶生成基质导流至雾化芯12的雾化面12a。雾化芯12用于吸收气溶胶生成基质,雾化面12a对气溶胶生成基质进行加热雾化,并生成气溶胶。
雾化芯12阻断进液通道11c中的气溶胶生成基质的流动,也就是说,气溶胶生成基质不会直接流动至气流通道11a中。
雾化芯12的雾化面12a朝向气流通道11a,气溶胶生成基质在雾化面12a被加热雾化并朝向气流通道11a释放生成的气溶胶。
气流通道11a与开口11b相对的侧壁局部凹陷并限定出凹陷区域11d,而当雾化芯12安装于开口11b处时,相当于是气流通道11a与雾化面12a相对的侧壁局部凹陷并限定出凹陷区域11d,即凹陷区域11d形成在雾化面12a面向气流通道11a的侧壁上。凹陷区域11d用于改变空气在气流通道11a中的流动形态,例如可以使得空气在凹陷区域11d处产生旋流。
示例性地,请参阅图5和图6,气溶胶生成装置100包括顶针15,电源组件20通过顶针15与雾化芯12电连接。例如,顶针15与雾化芯12的雾化面12a上的加热膜电连接。
示例性地,请参阅图5至图8,雾化座组件10包括密封件14,密封件14夹设于开口11b的侧壁与雾化芯12之间,用于密封雾化芯12与开口11b的侧壁之间的安装间隙,在一定程度上能够避免气溶胶生成基质经雾化芯12与开口11b的侧壁之间的安装间隙流入气流通道11a。
本申请实施例提供的雾化座组件,雾化座组件10包括雾化座11和雾化芯12,雾化座11设置有气流通道11a、进液通道11c以及贯穿进液通道11c的侧壁的开口11b,进液通道11c与气流通道11a通过开口11b连通,开口11b用于安装雾化芯12,由此,可以使得雾化芯12的雾化面12a朝向气流通道11a,即进液通道11c可以将气溶胶生成基质导流至雾化芯12的雾化面12a,雾化面12a用于对气溶胶生成基质进行雾化以生成气溶胶,生成的气溶胶在气流通道11a内与进入气流通道11a的空气混合,并经溶胶生成装置的出气通道32a流出以供用户使用。本申请实施例的雾化座11,通过在气流通道11a与开口11b相对的侧壁局部凹陷并限定出凹陷区域11d以改变空气在气流通道11a中的流动形态,即用于使空气在凹陷区域11d处产生旋流,可以使得气溶胶与空气在气流通道11a内充分混合,降低出气通道32a的出气口处的气溶胶的温度,改善口感,进而改善用户使用体验感。
示例性地,请参阅图2和图5,凹陷区域11d对着开口11b,即凹陷区域11d对着雾化面12a,也就是说,通过在雾化面12a正对的气流通道11a的侧壁处凹陷以形成凹陷区域11d,可以使得雾化面12a与凹陷区域11d之间的距离大于气流通道11a相对两侧的侧壁之间的距离。如此,一方面,可以减少流经雾化面12a的空气,即部分空气可以经凹陷区域11d流过,在一定程度上可以避免空气降低雾化面12a附近区域的温度,能够提高雾化芯12对气溶胶生成基质的雾化效果,更有利于香气物质等的释放,进而改善气溶胶的口感。另一方面,通过在雾化面12a正对的气流通道11a的侧壁处形成凹陷区域11d,可以使得空气在雾化面12a正对的气流通道11a处产生旋流,有利于雾化面12a雾化气溶胶生成基质后释放的气溶胶与空气更充分地混合,从而可以降低出气通道32a的出气口处的气溶胶的温度,改善口感,进而改善用户使用体验感。
这里所述的凹陷区域11d对着开口11b可以是凹陷区域11d正对开口11b,或者是凹陷区域11d大致正对开口11b。
需要说明的是,气溶胶的口感和出气通道32a的出气口处气溶胶的温度是相关的。也就是说,可以通过控制出气通道32a的出气口处气溶胶的温度在一定范围内,以提高气溶胶口感。
示例性地,在与开口11b平行的投影面上,即在与雾化面12a平行的投影面上,开口11b的投影与凹陷区域11d的投影至少部分重叠,且开口11b的重叠区域在高度方向上的投影位于凹陷区域11d在高度方向上的投影范围内,即凹陷区域11d在高度方向上的投影可以覆盖雾化面12a在高度方向上的投影。也就是说,雾化面12a在高度方向上对应的区域均为凹陷区域11d,如此,可以进一步地避免空气降低雾化面12a附近区域的温度,以及进一步地促进气溶胶与空气充分混合。
需要说明的是,开口11b的投影与凹陷区域11d的投影至少部分重叠,且开口11b的重叠区域在高度方向上的投影位于凹陷区域11d在高度方向上的投影范围内,而开口11b在宽度方向上的投影可以不位于凹陷区域11d在宽度方向上的投影范围内。
示例性地,请参阅图2、图5和图7,凹陷区域11d的轮廓为曲率不为零的曲面,即凹陷区域11d的轮廓为弧面等。如此,在一定程度上可以保障气流在气流通道11a内流动的顺畅性,避免产生紊流。
示例性地,请参阅图2、图5和图7,凹陷区域11d的截面轮廓为椭圆的一部分。例如,凹陷区域11d的凹陷方向为第一方向,气流通道11a的延伸方向为第二方向,第一方向与第二方向互相垂直,在与第一方向以及第二方向均平行的平面上,凹陷区域11d的截面轮廓为椭圆的一部分。也就是说,凹陷区域11d的截面轮廓指沿与第一方向以及第二方向均平行的平面所截得的凹陷区域11d的截面轮廓。
通过将凹陷区域11d的截面轮廓设置为椭圆的一部分,具体地,凹陷区域11d的截面轮廓例如为椭圆位于长轴一侧的一部分。如此,能够在不影响气流正常通过的情况下,还可以改变气流在气流通道11a中的流动形态。
具体地,在与凹陷区域11d的凹陷方向以及气流通道11a的延伸方向均平行的平面上,凹陷区域11d的截面轮廓为椭圆的一部分。
示例性地,请参阅图2、图5和图7,凹陷区域11d的凹陷深度范围L为0.3mm-0.6mm。例如,0.3mm、0.35mm、0.4mm、0.45mm、0.5mm、0.55mm、0.6mm等。
当凹陷区域11d的凹陷深度大于0.6mm时,会影响气流在气流通道11a内的流动,且会存在死角,可能导致气溶胶汇集在凹陷区域11d内,且不利于空气与气溶胶的充分混合。
当凹陷区域11d的凹陷深度小于0.3mm时,减少流经雾化面12a的空气的效果有限,在一定程度上依然会降低雾化面12a附近区域的温度,从而不利于提高雾化效果。此外,空气在凹陷区域11d处产生旋流的效果也有限,从而不利于气溶胶与空气混合充分。
而凹陷区域11d的凹陷深度为0.3mm-0.6mm的范围内时,可以使得部分空气可以经凹陷区域11d流过,并在凹陷区域11d处产生旋流,且不会存在死角,也不会导致气溶胶汇集在凹陷区域11d内,在一定程度上可以避免空气降低雾化面12a附近区域的温度,能够提高雾化芯12对气溶胶生成基质的雾化效果,有利于雾化面12a雾化气溶胶生成基质后释放的气溶胶与空气更充分地混合,从而可以降低出气通道32a的出气口处的气溶胶的温度,改善口感,进而改善用户使用体验感。
示例性地,请参阅图3、图6和图7,凹陷区域11d的高度H范围为3mm-6mm。需要说明的是,凹陷区域11d的高度指的是凹陷区域11d沿顶底方向的尺寸、或者沿气流通道11a延伸方向的尺寸、或者沿气流在气流通道11a中流动方向的尺寸。例如,3mm、3.2mm、3.4mm、3.5mm、3.6mm、3.8mm、4mm、4.2mm、4.4mm、4.5mm、4.6mm、4.8mm、5mm、5.2mm、5.4mm、5.5mm、5.6mm、5.8mm、6mm等。
当凹陷区域11d的高度大于6mm时,不利于空气在凹陷区域11d处产生旋流,进而不利于空气与气溶胶的充分混合。
当凹陷区域11d的高度小于3mm时,若雾化面12a的高度尺寸大于3mm时,不利于实现凹陷区域11d的投影可以覆盖雾化面12a的投影,从而不利于减少流经雾化面12a的空气,且不利于在雾化面12a正对的气流通道11a处均产生旋流,从而不利于气溶胶与空气充分混合。
而凹陷区域11d的高度为3mm-6mm的范围内时,在保证雾化面12a的投影位于凹陷区域11d的投影范围内的同时,还可以避免因凹陷区域11d的高度过高而导致空气在凹陷区域11d处产生旋流的效果有限,从而不利于气溶胶与空气充分混合。
示例性地,凹陷区域11d的宽度与气流通道11a的宽度一致。也就是说,凹陷区域11d沿宽度方向的两侧延伸至气流通道11a的宽度的相对两端。
具体地,请参阅图3和图6,凹陷区域11d的宽度N范围为2mm-5mm。需要说明的是,凹陷区域11d的宽度指的是凹陷区域11d沿前后方向的尺寸、或者沿与凹陷区域11d的凹陷方向以及气流通道11a的延伸方向均垂直的方向的尺寸。凹陷区域11d的宽度范围例如为:2mm、2.2mm、2.4mm、2.5mm、2.6mm、2.8mm、3mm、3.2mm、3.4mm、3.5mm、3.6mm、3.8mm、4mm、4.2mm、4.4mm、4.5mm、4.6mm、4.8mm、5mm等。
当凹陷区域11d的宽度大于5mm时,气流通道11a的尺寸需要做的更大,且会导致过多外界的空气进入气流通道11a内,进而导致空气降低雾化面12a附近区域的温度,不利于雾化面12a在气流通道11a内加热雾化气溶胶生成基质,降低口感,此外,还会导致增加雾化座11的体积,降低用户体验感。
当凹陷区域11d的宽度小于2mm时,不利于减少流经雾化面12a的空气,且不利于在雾化面12a正对的气流通道11a处均产生旋流,从而不利于气溶胶与空气充分混合。
当凹陷区域11d的宽度为2mm-5mm的范围内时,在满足气流通道11a的尺寸需求的同时,还可以实现外界的空气在凹陷区域11d处产生旋流,有利于雾化面12a雾化气溶胶生成基质后释放的气溶胶与空气更充分地混合。
示例性地,一些实施例中,请参阅图2至图8,雾化座11包括雾化顶座111和雾化底座112,雾化底座112设置于雾化顶座111的底侧,且与雾化顶座111共同限定出气流通道11a。如此,便于雾化顶座111和雾化底座112的成型和制造。
当然,在其他实施例中,也可以是雾化顶座111和雾化底座112中的其中一个独自限定出气流通道11a。
请参阅图5和图8,雾化顶座111设置有进液通道11c和开口11b,雾化芯12设置在开口11b,用于隔离气流通道11a以及进液通道11c,避免气溶胶生成基质直接流入气流通道11a。
气流通道11a以及进液通道11c均沿雾化座11的高度方向延伸,即气流通道11a与进液通道11c并列排布,如此,可以充分利用雾化座11内的空间,使得雾化座11结构更加紧凑。
示例性地,请参阅图2和图5,雾化底座112的底壁形成有进气口11e,外界的空气经进气口11e进入气流通道11a,并携带气流通道11a内的气溶胶经出气通道32a流出以供公户使用,也就是说,当气流通道11a产生负压,外部环境中的空气在负压作用下经进气口11e补充进入气流通道11a,实现连续性吸食气溶胶。
示例性地,请参阅图2,壳体30包括外壳31以及设置于外壳31内的连接管32,外壳31的内壁和连接管32的侧壁限定出空腔,连接管32具有出气通道32a。
请参阅图5和图8,雾化顶座111形成有贯穿雾化顶座111的顶壁的连接口111a,连接口111a与气流通道11a连通。
示例性地,一些实施例中,请参阅图2和图5,连接管32的部分结构伸入连接口111a,以使出气通道32a与气流通道11a连通。也就是说,连接口111a用于使连接管32插入,以实现出气通道32a与气流通道11a之间的连通。
另一些实施例中,连接管32可以抵接于雾化座11的顶壁,以使出气通道32a通过连接口111a与气流通道11a连通。此时,气流通道11a与出气通道32a通过连接口111a连通,气流通道11a中的气溶胶依次流经连接口111a流入出气通道32a,并从出气通道32a的末端处排出以供用户吸食。
吸食时,出气通道32a产生负压,气流通道11a中的气溶胶在负压作用下经连接口111a被吸入出气通道32a,并从出气通道32a的末端处排出以供用户吸食,气流通道11a产生负压,外部环境中的空气在负压作用下补充进入气流通道11a,实现连续性吸食气溶胶。
示例性地,请参阅图2、图5和图/6,雾化座组件10包括套设于雾化座11的密封套13,密封套13形成有避让进液通道11c的进液口13a。
密封套13夹设于储液腔100a的侧壁与雾化座11之间,用于密封雾化座11与储液腔100a的侧壁之间的安装间隙,在一定程度上能够避免气溶胶生成基质经雾化座11与储液腔100a的侧壁之间的安装间隙流出。
密封套13大致呈盆状,罩设在雾化座11的顶部,密封套13的边缘环绕在雾化座11的周向外表面,密封件14的顶壁需要避开连接口111a等。
示例性地,请参阅图1至图3,气溶胶生成装置100包括密封塞50,在用户不使用气溶胶生成装置100的时候,可以将密封塞50塞入出气通道32a的出气口处,可以防止灰尘等杂物经出气通道32a进入气溶胶生成装置100而损坏气溶胶生成装置100,此外,还可以避免灰尘等杂物进入出气通道32a而影响口感。
在本申请的描述中,参考术语“一实施例中”、“在一些实施例中”、“另一些实施例中”、“又一些实施例中”、或“示例性”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请实施例的至少一个实施例或示例中。在本申请中,对上述术语的示意性表述不是必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本申请中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合。
以上所述仅为本申请的较佳实施例而已,并不用于限制本申请,对于本领域的技术人员来说,本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均包含在本申请的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种雾化座组件,其特征在于,包括:
雾化座,所述雾化座设置有气流通道、进液通道以及贯穿所述进液通道的侧壁的开口,所述进液通道与所述气流通道通过所述开口连通,所述气流通道与所述开口相对的侧壁局部凹陷并限定出凹陷区域;
雾化芯,所述雾化芯设置于所述开口,所述雾化芯的雾化面朝向所述凹陷区域。
2.根据权利要求1所述的雾化座组件,其特征在于,所述凹陷区域对着所述开口;和/或,所述气流通道的延伸方向与所述开口所在平面平行。
3.根据权利要求1所述的雾化座组件,其特征在于,在与所述开口平行的投影面上,所述开口的投影与所述凹陷区域的投影至少部分重叠,且所述开口的重叠区域在高度方向上的投影位于所述凹陷区域在高度方向上的投影范围内。
4.根据权利要求1所述的雾化座组件,其特征在于,所述凹陷区域的轮廓为曲率不为零的曲面;和/或,所述凹陷区域的截面轮廓为椭圆的一部分。
5.根据权利要求1所述的雾化座组件,其特征在于,所述凹陷区域的凹陷深度范围为0.3mm-0.6mm;和/或,所述凹陷区域的高度范围为3mm-6mm。
6.根据权利要求1所述的雾化座组件,其特征在于,所述凹陷区域的宽度范围为2mm-5mm;和/或,所述凹陷区域的宽度与所述气流通道的宽度一致。
7.根据权利要求1所述的雾化座组件,其特征在于,所述雾化座包括雾化顶座和雾化底座,所述雾化底座设置于所述雾化顶座的底侧,且与所述雾化顶座共同限定出所述气流通道,所述雾化顶座设置有所述进液通道和所述开口,所述气流通道以及所述进液通道均沿所述雾化座的高度方向延伸。
8.根据权利要求7所述的雾化座组件,其特征在于,所述雾化顶座形成有贯穿所述雾化顶座的顶壁的连接口,所述连接口与所述气流通道连通。
9.一种气溶胶生成装置,其特征在于,包括电源组件以及权利要求1-8任意一项所述的雾化座组件,所述电源组件与所述雾化芯电连接。
10.根据权利要求9所述的气溶胶生成装置,其特征在于,所述气溶胶生成装置包括具有空腔和出气通道的壳体,所述雾化座组件的至少部分结构设置于所述空腔内,所述雾化座组件的顶壁和所述空腔的侧壁限定出用于存储气溶胶产生基质的储液腔,所述进液通道用于将气溶胶生成基质导流至所述雾化芯,所述气流通道和所述出气通道连通。
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CN202321213041.XU CN220476921U (zh) | 2023-05-18 | 2023-05-18 | 一种雾化座组件及气溶胶生成装置 |
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2023
- 2023-05-18 CN CN202321213041.XU patent/CN220476921U/zh active Active
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GR01 | Patent grant | ||
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