CN220293678U - 用于咬合调整的牙科系统 - Google Patents

Abstract

本申请的实施方式提供一种用于咬合调整的牙科系统，包括N个逐渐分步实现矫治计划的矫治器械，所述N个矫治器械的每一个都具有矫治器械都具有容纳上颌牙列的上颌壳状本体和容纳下颌牙列的下颌壳状本体，N个所述上颌壳状本体均具有打开前牙咬合高度的调整部，N个所述下颌壳状本体具有对下颌牙齿施加压低力的几何结构，其中，N个所述下颌壳状本体用于实现下颌前牙区牙齿分步完成所述矫治计划中的压低移动，N个所述调整部使在矫治过程中前牙区上下颌牙齿在垂直方向的相对位置关系保持一致，N为大于等于2的自然数。

Description

用于咬合调整的牙科系统

技术领域

本申请实施例涉及口腔正畸技术领域，特别涉及一种用于咬合调整的牙科系统。

背景技术

口腔不良习惯是错颌畸形中最常见的病因之一，据北京医科大学统计，约占各类错颌畸形病因的1/4，前牙深覆颌是由于上下颌牙弓和/或上下颌骨中的任意一种或两种垂直向发育异常造成的错颌畸形，其表现是上前牙切缘盖过下前牙牙冠唇面长度三分之一以上，或下前牙切缘咬合于上前牙牙冠舌侧切三分之一以上，使得患者很容易咬伤牙龈，导致前牙的牙周炎疾病及面部关节等疾病。大多数错颌患者中，深覆颌的矫正可能是整个牙齿矫治过程的首要步骤，而打开咬合是纠正深覆颌的关键。

现有技术通常采用上颌活动矫治器来保持前牙牙槽骨的高度不变，着重升高后牙高度，从最后一个牙开始逐个调磨颌垫，以便使逐对牙伸长接触，待后牙增高后，再进行前牙舌向错位和后牙远中的纠正。还有在上颌前牙区的舌侧设置平导的方式，但是此种方式需要将金属和树脂制作的平导固定在上颌，对患者而言不仅佩戴之后会产生部分牙齿悬空的现象，还对于患者的咀嚼产生一定影响，患者的异物感较强。现有技术中还有采用隐形壳状矫治器增加平导结构进行深覆颌的矫治，但是无论是上颌活动矫治器还是隐形壳状矫治器都会使用平导结构与上颌前牙进行固定，从而实现利用平导结构完成对下颌前牙的压低，在利用平导结构进行压低时，现有技术通常会通过调整平导结构在垂直方向上的高度来调整压低力的大小，然后在矫治过程中，需要经常复诊观察当前牙齿的压低情况并对平导结构在高度来进行调整。这种方式，不仅最终的矫治结果无法得到保障，并且由于矫治过程中平导结构的高度一直在调整变化导致上下颌前牙区牙齿的垂直向咬合关系也一直在被动调整，也就是说，在矫治完成后，患者上下颌垂直向关系很难保证在正确位置处，后续还需要增加额外的矫治步骤，增长的矫治周期并且降低了矫治效率。

因此研究一种兼顾矫治精准性及矫治稳定性的牙科系统具有重要的意义。

实用新型内容

本申请实施方式的目的在于提供一种用于咬合调整的牙科系统，通过对一系列矫治器的结构改进，使矫治结果更加精准稳定。

为实现上述目的，本申请的实施方式提供一种用于咬合调整的牙科系统，包括一系列矫治器械，所述一系列矫治器械被设计为分步实现下颌前牙区牙齿的压低移动；所述一系列矫治器械包括对应第一阶段的第一矫治器械，所述第一矫治器械包括容纳上颌牙齿的第一上颌壳状本体和容纳下颌牙齿的第一下颌壳状本体，所述第一上颌壳状本体的前牙区舌侧设有调整上下颌前牙区牙齿垂直向距离的第一调整部，佩戴时，所述第一调整部与上颌前牙切端具有第一距离，所述第一下颌壳状本体用于容纳前牙区牙齿的部分牙齿收纳腔被设计为具有实现第一阶段对应所述前牙区牙齿压低移动量的几何结构；所述一系列矫治器械包括对应第二阶段的第二矫治器械，所述第二矫治器械包括容纳上颌牙齿的第二上颌壳状本体和容纳下颌牙齿的第二下颌壳状本体，所述第二上颌壳状本体的前牙区舌侧设有调整上下颌前牙区牙齿垂直向距离的第二调整部，佩戴时，所述第二调整部与上颌前牙切端具有第二距离，所述第二下颌壳状本体用于容纳前牙区牙齿的部分牙齿收纳腔被设计为具有实现第二阶段对应所述前牙区牙齿压低移动量的几何结构；其中所述第二阶段为所述第一阶段后续阶段中任一阶段，所述第一距离等于所述第二距离以使在矫治过程中上下颌前牙区牙齿始终保持在相同的咬合位置处。

作为优选，佩戴时，所述第一调整部在垂直方向上的最低点位于上颌前牙切端的龈侧，所述第二调整部在垂直方向上的最低点位于上颌前牙切端的龈侧。

作为优选，所述第一距离小于等于所述第一调整部对应位置处牙齿牙冠垂直长度的1/3；所述第二距离小于等于所述第二调整部对应位置处牙齿牙冠垂直长度的1/3。

作为优选，佩戴时，所述第一调整部在垂直方向上的最低点位于上颌前牙切端的对颌侧，所述第二调整部在垂直方向上的最低点位于上颌前牙切端的对颌侧。

作为优选，所述第一距离小于等于0.2mm和/或所述第二距离小于等于0.2mm。

作为优选，所述一系列矫治器械每个阶段中的矫治器械对应的下颌前牙区牙齿的单步压低量在0.1mm-0.2mm之间。

作为优选，所述一系列矫治器械还被设计为分步实现下颌后牙区牙齿的升高移动。

作为优选，所述一系列矫治器械整平下颌SPEE曲线的总移动量M为下颌前牙区牙齿的压低移动总移动量与下颌后牙区牙齿的升高移动总移动量之和。

作为优选，所述一系列矫治器械使下颌前牙区牙齿的压低移动总移动量为整平下颌SPEE曲线所需总移动量M的1/3-1/2。

作为优选，所述一系列矫治器械使下颌后牙区牙齿的升高移动总移动量为整平下颌SPEE曲线所需总移动量M的1/2-2/3。

作为优选，所述一系列矫治器械每个阶段中的矫治器械对应的下颌后牙区牙齿的单步升高量在0.1mm-0.2mm之间。

作为优选，所述第一下颌壳状本体和/或所述第二下颌壳状本体用于容纳前牙区牙齿的牙齿收纳腔在垂直方向上的高度小于其容纳牙齿牙冠在垂直方向上的高度。

作为优选，所述第一下颌壳状本体和/或所述第二下颌壳状本体用于容纳前牙区牙齿的牙齿收纳腔与其容纳牙齿牙冠在垂直方向上的高度差在0.1mm-0.2mm之间。

作为优选，所述一系列矫治器械还包括在邻近所述前牙区牙齿的尖牙或磨牙的表面设有压低附件，佩戴时，所述压低附件对所述第一下颌壳状本体和/或所述第二下颌壳状本体施加垂直向下的力以使所述第一下颌壳状本体和/或所述第二下颌壳状本体对所述前牙区牙齿施加压低力。

作为优选，所述压低附件邻近龈端的表面为向对颌方向凹入形成的内凹曲面。

作为优选，所述第一下颌壳状本体和/或所述第二下颌壳状本体对应所述压低附件的位置处具有与所述压低附件轮廓一致的压低容置腔体。

作为优选，佩戴时，所述内凹曲面对所述压低容置腔体施加垂直向下的力。

作为优选，所述第一下颌壳状本体和/或所述第二下颌壳状本体容纳后牙区牙齿的牙齿收纳腔具有对所述后牙区牙齿施加升高力的几何结构。

作为优选，所述一系列矫治器械还包括在所述后牙区牙齿的颊侧面设有的升高附件，所述升高附件在近远中方向的长度为其对应牙齿近远中方向上长度的1/2-2/3。

作为优选，所述第一下颌壳状本体和/或所述第二下颌壳状本体对应所述升高的位置处具有与所述升高附件轮廓一致的升高容置腔体，佩戴时，所述升高附件与所述升高容置腔体相互作用使得设有所述升高附件的牙齿受到升高力。

作为优选，所述第一下颌壳状本体和/或所述第二下颌壳状本体对应后牙区升高牙齿的牙齿收纳腔在靠近龈端具有向牙齿方向内凹形成的施力点。

作为优选，所述第一调整部包括由所述第一上颌壳状本体的前牙区的舌侧面先向对颌方向后向后牙区牙齿方向延伸形成的空腔结构；所述第二调整部包括由所述第二上颌壳状本体的前牙区的舌侧面先向对颌方向后向后牙区牙齿方向延伸形成的空腔结构。

作为优选，所述第一调整部包括由所述第一上颌壳状本体的前牙区的至少一个牙齿收纳腔舌侧面局部向远中方向凸起形成的空腔结构；所述第二调整部包括由所述第二上颌壳状本体的前牙区的至少一个牙齿收纳腔舌侧面局部向远中方向凸起形成的空腔结构。

作为优选，所述空腔结构邻近对颌的表面为平行于咬合面的平面。

作为优选，所述平面上具有定位下颌位置的咬痕结构，所述咬痕结构与对颌前牙区牙齿形状相同。

作为优选，所述空腔结构邻近对颌的表面为引导下颌向前移动的斜面。

作为优选，所述第一调整部的机械强度大于所述第一上颌壳状本体的机械强度和/或所述第二调整部的机械强度大于所述第二上颌壳状本体的机械强度。

作为优选，所述第一调整部和/或所述第二调整部还包括位于所述空腔结构内的填充件。

作为优选，所述空腔结构邻近对颌表面的舌侧端向上腭方向延伸形成抵抗咬合导致所述空腔结构变形的加强部113。

作为优选，佩戴时，至少部分所述加强部113贴合上腭并与上腭的弯曲弧度一致。

作为优选，所述一系列矫治器械包括对应第三阶段的第三矫治器械，所述第三矫治器械包括容纳上颌牙齿的第三上颌壳状本体和容纳下颌牙齿的第三下颌壳状本体，所述第三上颌壳状本体的前牙区舌侧设有调整上下颌前牙区牙齿垂直向距离的第三调整部，佩戴时，所述第三调整部与上颌前牙切端具有第三距离，所述第三阶段为所述第二阶段后续阶段中任一阶段，所述第三距离小于所述第二距离。

作为优选，所述一系列矫治器械包括对应第四阶段的第四矫治器械，所述第四矫治器械包括容纳上颌牙齿的第四上颌壳状本体和容纳下颌牙齿的第四下颌壳状本体，所述第四阶段为所述第二阶段的随后阶段，所述第四上颌壳状本体和第四下颌壳状本体具有使其包裹牙齿从上一阶段的牙列排布移动至目标牙列排布的几何结构；其中，所述目标牙列排布中上前牙切缘覆盖下前牙唇面不超过切1/3。

本申请的实施方式还提供另一种用于咬合调整的牙科系统，包括N个逐渐分步实现矫治计划的矫治器械，所述N个矫治器械的每一个都具有矫治器械都具有容纳上颌牙列的上颌壳状本体和容纳下颌牙列的下颌壳状本体，N个所述上颌壳状本体均具有打开前牙咬合高度的调整部，N个所述下颌壳状本体具有对下颌牙齿施加压低力的几何结构，其中，N个所述下颌壳状本体用于实现下颌前牙区牙齿分步完成所述矫治计划中的压低移动，N个所述调整部使在矫治过程中前牙区上下颌牙齿在垂直方向的相对位置关系保持一致，N为大于等于2的自然数。作为优选，所述N个逐渐分步实现矫治计划的矫治器械每个阶段中的矫治器械对应的下颌前牙区牙齿的单步压低量在0.1mm-0.2mm之间。

作为优选，所述N个矫治器械还被设计为分步实现下颌后牙区牙齿的升高移动。作为优选，所述N个矫治器械整平下颌SPEE曲线的总移动量M为下颌前牙区牙齿的压低移动总移动量与下颌后牙区牙齿的升高移动总移动量之和。

作为优选，所述N个矫治器械使下颌前牙区牙齿的压低移动总移动量为整平下颌SPEE曲线所需总移动量M的1/3-1/2。

作为优选，所述N个矫治器械使下颌后牙区牙齿的升高移动总移动量为整平下颌SPEE曲线所需总移动量M的1/2-2/3。

本实用新型提供的一种用于咬合调整的牙科系统，与现有技术相比至少具有以下有益效果：

本申请中用于咬合调整的牙科系统通过多个牙科器械按照矫治计划逐步实现对深覆颌病例的矫治，在矫治过程中，对每个步骤牙科器械中调整部进行设计，使得在分步实现下颌前牙区牙齿压低的过程中，上下颌前牙的垂直向咬合关系始终保持不变，从而保证在矫治结束后上下颌前牙的咬合关系也能持续保持在正确的位置处，此外，分步进行下颌前牙压低不仅仅可以对牙齿的移动量进行控制并且通过设计分步移动量还可以满足牙周膜适应改建的生理限度内，从而获得更好的牙齿移动效果。

本申请中多个牙科器械中设置的调整部不仅可以在矫治过程中使上下颌前牙区牙齿稳定保持在相同的垂直向咬合关系处，还可以对压低下颌前牙提供辅助压低力，并且还能增强下颌壳状本体的就位效果，提供下颌壳状本体的矫治表达率，提高矫治效果。

附图说明

一个或多个实施例通过与之对应的附图中的图片进行示例性说明，这些示例性说明并不构成对实施例的限定，附图中具有相同参考数字标号的元件表示为类似的元件，除非有特别申明，附图中的图不构成比例限制。

图1是本申请各实施例中用于咬合调整的牙科系统中的一副矫治器械佩戴前后的示意图；

图2是本申请一些实施例中第一矫治器械和第二矫治器械的结构示意图；

图3是本申请一些实施例中第一矫治器械和第二矫治器械的结构示意图；

图4是图3第一矫治器械和第二矫治器械沿A-A’的剖视图；

图5是本申请一些实施例中第一上颌壳状本体和第二上颌壳状本体的结构示意图；

图6是本申请一些实施例中第一下颌壳状本体的结构示意图；

图7是本申请一些实施例中第一下颌壳状本体的结构示意图；

图8是本申请一些实施例中第一下颌壳状本体的结构示意图；

图9是本申请一些实施例中第一下颌壳状本体的结构示意图；

图10是本申请一些实施例中第一下颌壳状本体的结构示意图；

图11是本申请一些实施例中第一下颌壳状本体的结构示意图；

图12是本申请一些实施例中第一下颌壳状本体的结构示意图；

图13是本申请一些实施例中第一上颌壳状本体的结构示意图；

图14是本申请一些实施例中第一上颌壳状本体的结构示意图；

图15是本申请一些实施例中第一上颌壳状本体的结构示意图；

图16是本申请一些实施例中第一上颌壳状本体的结构示意图；

图17是本申请一些实施例中第一上颌壳状本体的结构示意图；

图18是本申请一些实施例中第一上颌壳状本体的结构示意图；

图19是本申请一些实施例中一系列矫治器械的结构示意图；

图20是本申请一些实施例中一系列矫治器械的结构示意图；

图21是本申请一些实施例中用于咬合调整的牙科系统的生成方法流程图；

图22是本申请一个实施方式所提供的一种图形处理器的结构示意图。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本申请的各实施方式进行详细地阐述。然而，本领域的普通技术人员可以理解，在本申请各实施方式中，为了使读者更好地理解本申请而提出了许多技术细节。但是，即使没有这些技术细节和基于以下各实施方式的种种变化和修改，也可以实现本申请所要求保护的技术方案。以下各个实施例的划分是为了描述方便，不应对本申请的具体实现方式构成任何限定，各个实施例在不矛盾的前提下可以相互结合相互引用。

本申请中各个实施例中提及的“后牙区牙齿”是根据北京大学医学出版社出版的《口腔医学导论》第2版第36-38页中对于牙齿的分类进行定义，包括前磨牙以及磨牙，以FDI标记法显示为4-8的牙齿，前牙区FDI标记法显示为1-3的牙齿。前牙区的牙齿包括中切牙、侧切牙和尖牙。另外，对于处于乳牙期阶段的牙齿进行说明，“后牙区牙齿”根据北京大学医学出版社出版的《口腔医学导论》第2版第40-41页中对于乳牙齿的分类进行定义，包括乳切牙、乳尖牙和乳磨牙三类，其中，乳切牙包括乳中牙和乳侧切牙，乳磨牙包括第一乳磨牙和第二乳磨牙。

壳状本体设置有若干容纳多颗牙齿的空腔，并划分有舌面和唇面，近中面和远中面。其中，“舌面”根据北京大学医学出版社出版的《口腔医学导论》第2版第35-36页中对于牙冠各面的命名，其中唇面和颊面为前牙的牙冠接近口唇的一面成为唇面，后牙区牙齿的牙冠接近颊的一面成为颊面。舌面为前牙和后牙区牙齿的牙冠接近舌的一面统称舌面。近中面和远中面为牙冠与邻牙相邻接的两个面，总称邻面。离面部中线较近的一面称为近中面，离面部中线较远的一面称为远中面。

本申请中各实施例中的牙科系统包括一系列矫治器械针对深覆颌病例在始终在预设垂直向咬合关系下逐步实现下颌前牙的压低移动，使得矫治过程更加安全可靠，矫治结果更加精准可控。

为实现上述目的，本申请的实施方式提供另一种用于咬合调整的牙科系统，包括N个逐渐分步实现矫治计划的矫治器械，所述N个矫治器械的每一个都具有矫治器械都具有容纳上颌牙列的上颌壳状本体和容纳下颌牙列的下颌壳状本体，N个所述上颌壳状本体均具有打开前牙咬合高度的调整部，N个所述下颌壳状本体具有对下颌牙齿施加压低力的几何结构，其中，N个所述下颌壳状本体用于实现下颌前牙区牙齿分步完成所述矫治计划中的压低移动，N个所述调整部使在矫治过程中前牙区上下颌牙齿在垂直方向的相对位置关系保持一致，N为大于等于2的自然数。参考附图1所示为患者佩戴本申请各实施例中的矫治器械后前牙区垂直向关系的调整。

请参考图2至图4中所示的一系列矫治器械，一系列矫治器械至少包括对应两个阶段的矫治器械，具体包括对应第一阶段的第一矫治器械100，所述第一矫治器械100包括容纳上颌牙齿的第一上颌壳状本体11和容纳下颌牙齿的第一下颌壳状本体12，所述第一上颌壳状本体11的前牙区舌侧设有调整上下颌前牙区牙齿垂直向距离的第一调整部111，佩戴时，所述第一调整部111与上颌前牙切端具有第一距离，第一距离还能够使第一调整部111对下颌前牙区牙齿施加辅助压低力，所述第一下颌壳状本体12用于容纳前牙区牙齿的部分牙齿收纳腔被设计为具有实现第一阶段对应所述前牙区牙齿压低移动量的几何结构；所述一系列矫治器械包括对应第二阶段的第二矫治器械200，所述第二矫治器械200包括容纳上颌牙齿的第二上颌壳状本体21和容纳下颌牙齿的第二下颌壳状本体22，所述第二上颌壳状本体21的前牙区舌侧设有调整上下颌前牙区牙齿垂直向距离的第二调整部211，佩戴时，所述第二调整部211与上颌前牙切端具有第二距离，第二距离还能够使第二调整部211对下颌前牙区牙齿施加辅助压低力，所述第二下颌壳状本体22用于容纳前牙区牙齿的部分牙齿收纳腔被设计为具有实现第二阶段对应所述前牙区牙齿压低移动量的几何结构；其中所述第二阶段为所述第一阶段后续阶段中任一阶段，所述第一距离等于所述第二距离以使在矫治过程中上下颌前牙区牙齿始终保持在相同的咬合位置处。

在本申请各个实施例中，第一阶段对应第一矫治器械100以及第二阶段对应的第二矫治器械200可以采用相同的材料、厚度。但是，也可以根据矫治方案的需要采用不同材料或者不同厚度。例如，通常在需要更大矫治力来获得更大的移动量时，可以采用弹性模量/刚度更大的材料或者是厚度更大的材料。

在一些实施例中，第一矫治器械100和/或第二矫治器械200不仅可以用来解决深覆颌的问题，还可以设计牙齿的正畸排齐，具体的，上颌壳状本体和下颌壳状本体容纳上下颌所有牙列，上颌壳状本体和下颌壳状本体的牙齿收纳腔具有与当前牙列的错位的几何形状使得牙列可以从当前排布位置向目标位置移动。矫形矫治同步进行，大大缩短了矫治周期。

在一些实施例中，参考图4所示，佩戴时，第一矫治器械100和/或第二矫治器械200的牙齿收纳腔与收纳的牙齿基本贴合，第一调整部111在垂直方向上的最低点位于上颌前牙1切端的龈侧，第一距离X1为在垂直方向上第一调整部111最低点与上颌前牙1切端的距离，同样地，第二调整部211在垂直方向上的最低点位于上颌前牙1切端的龈侧，第二距离X2为在垂直方向上第二调整部211最低点与上颌前牙1切端的距离。具体的，第一距离小于等于第一调整部111对应位置处牙齿牙冠垂直长度的1/3；第二距离小于等于第二调整部211对应位置处牙齿牙冠垂直长度的1/3。从而确保在完成第一阶段和第二阶段对应的矫治步骤时，拆除矫治器械后患者的上下颌垂直向咬合关系保持佩戴时的垂直向咬合关系处。具体的设计参数为第一距离和第二距离与前牙切端距离在0.5mm-3mm之间，进一步优选的,第一距离和第二距离与前牙切端距离在1mm-2mm之间。

在一些实施例中，参考图5所示，当第一阶段和第二阶段对患者牙列采用过矫正时，针对过矫正病例，第一调整部111和第二调整部211的具体设计为佩戴时，第一调整部111在垂直方向上的最低点位于上颌前牙切端的对颌侧，第二调整部211在垂直方向上的最低点位于上颌前牙切端的对颌侧。第一距离X1为在垂直方向上第一调整部111最低点与上颌前牙切端的距离，第一距离小于等于0.2mm，第二距离X2为在垂直方向上第二调整部211最低点与上颌前牙切端的距离，第二距离同样的小于等于0.2mm。

在一些实施例中，本申请中的所述一系列矫治器械每个阶段中的矫治器械对应的下颌前牙区牙齿的单步压低量在0.1mm-0.2mm之间。即，每个阶段对应的下颌壳状本体对下颌前牙区牙齿的单步压低量在0.1mm-0.2mm，具体在一个阶段中可以是多颗牙齿同时进行压力移动，或者一颗牙齿单独进行移动，当然也可以是在不同阶段，牙齿进行交替压低运动。

在一些实施例中，第一下颌壳状本体12或者第二下颌壳状本体22具有实现前牙区牙齿压低的方式为：第一下颌壳状本体12或者第二下颌壳状本体22用于容纳至少部分前牙区牙齿的牙齿收纳腔在垂直方向上的高度小于其容纳牙齿牙冠在垂直方向上的高度。即前牙区需要被压低牙齿对应的牙齿收纳腔的在垂直方向上高度小于被压低牙齿牙冠在垂直方向上的高度。具体可以是，参考图6所示，用第一下颌壳状本体12进行举例，牙齿收纳腔的垂直方向上的整体高度Y1小于被压低牙齿牙冠高度Y2，第一下颌壳状本体12用于容纳至少部分前牙区牙齿的牙齿收纳腔与其容纳牙齿牙冠在垂直方向上的高度差在0.1mm-0.2mm之间。图7展示第一下颌壳状本体12佩戴前后的状态，在第一下颌壳状本体12被佩戴在患者下颌牙列上时，后牙区牙齿跟第二壳状本体的后牙区牙齿收纳腔完成就位后，后牙区牙齿为支抗牙，第一下颌壳状本体12前牙区的牙齿收纳腔与对应牙齿的牙冠高度的高度差使得包裹压低牙齿收纳腔发生弹性形变，对需要被压低的前牙在牙齿的切端施加向下的压低力，因此，在第一下颌壳状本体12佩戴的过程中，前牙区的部分牙齿一直受到向下压低力。

在另外一种实施方式，第一下颌壳状本体12或者第二下颌壳状本体22前牙区需要被压低牙齿对应的牙齿收纳腔的在垂直方向上的局部高度小于被压低牙齿牙冠对应处的高度，参考图8所示，继续用第一下颌壳状本体12进行举例，具体可以是，局部高度降低可以由对应牙齿收纳腔的切端处局部向下凹入形成(即向龈侧内凹形成)。局部高度降低的范围H1在0.1mm-0.2mm之间。

在另一些实施例中，第一矫治器械100或者第二矫治器械200还包括在邻近所述至少部分前牙区牙齿的尖牙或前磨牙的表面设有压低附件13，佩戴时，所述压低附件13对第一下颌壳状本体12或者第二下颌壳状本体22施加垂直向下的力以使第一下颌壳状本体12或者第二下颌壳状本体22对所述至少部分前牙区牙齿施加压低力。具体的是，参考图9示例的第一下颌壳状本体12，当第一下颌壳状本体12或者第二下颌壳状本体22需要对前牙所有牙齿进行压低时，即中切牙、侧切牙和尖牙需要被进行压低时，下颌两侧的前磨牙的牙齿唇侧表面上粘接有压低附件13，压低附件13邻近龈端的表面为向对颌方向凹入形成的内凹曲面13a。第一下颌壳状本体12或者第二下颌壳状本体22对应所述压低附件13的位置处具有与所述压低附件13轮廓一致的压低容置腔体123。佩戴时，所述内凹曲面13a对所述压低容置腔体123施加垂直向下的力。第一下颌壳状本体12或者第二下颌壳状本体22将向下的作用力作用在中切牙、侧切牙和尖牙上，从而实现中切牙、侧切牙和尖牙的压低。

在另外一些实施方式中，同样地，如果需要被压低的部分前牙区牙齿为中切牙和侧切牙，那么，在两侧尖牙的牙齿唇侧表面上粘接有压低附件13，与图9中的示例相同，压低附件13邻近龈端的表面为向对颌方向凹入形成的内凹曲面13a。第一下颌壳状本体12或者第二下颌壳状本体22对应所述压低附件13的位置处具有与所述压低附件13轮廓一致的压低容置腔体。佩戴时，所述内凹曲面对所述压低容置腔体施加垂直向下的力。第一下颌壳状本体12或者第二下颌壳状本体22将向下的反作用力作用在中切牙和侧切牙上，从而实现中切牙和侧切牙的压低。

在深覆颌病例中，患者下颌牙列往往伴随着深SPEE曲线的情况，一般来说，对于SPEE较深的患者需要对其下颌牙列的前牙区进行压低，后牙区牙齿进行升高，即整平下颌SPEE曲线。尤其是针对低角水平生长型患者，利用后牙伸长增加后牙区颌间高度，可以改善面型。因此，在一些实施例中，所述一系列矫治器械还被设计为分步实现下颌后牙区牙齿的升高移动。

在一些实施例中，所述一系列矫治器械整平下颌SPEE曲线的总移动量M为下颌前牙区牙齿的压低移动总移动量与下颌后牙区牙齿的升高移动总移动量之和。具体的，所述一系列矫治器械使下颌前牙区牙齿的压低移动总移动量为整平下颌SPEE曲线所需总移动量M的1/3-1/2。因此，所述一系列矫治器械使下颌后牙区牙齿的升高移动总移动量为整平下颌SPEE曲线所需总移动量M的1/2-2/3。一般情况下，后牙伸长总量设计1mm-1.5mm之间，所述一系列矫治器械每个阶段中的矫治器械对应的下颌后牙区牙齿的单步升高量在0.1mm-0.2mm之间。

在本申请的一些实施例中，由于第一调整部111和第二调整部211在垂直方向上的高度具有打开咬合的作用，因此，在第一矫治器械100或者第二矫治器械200佩戴后，患者的后牙区牙齿上下颌会出现一定的空隙给后牙区牙齿升高提供空间，第一下颌壳状本体12或者第二下颌壳状本体22可以分步对下颌后牙区牙齿进行升高移动。具体可以是，参考图10所示，用第一下颌壳状本体12进行举例，第一下颌壳状本体12容纳后牙区至少部分牙齿的牙齿收纳腔在颊舌两侧邻近龈端处设置施力点121，施力点121可由牙齿收纳腔本身向牙齿方向凹入形成，从而实现对所述后牙区至少部分牙齿施加升高力。或者是，参考图11所示，继续用第一下颌壳状本体12进行举例，在后牙区需要升高牙齿的颊侧面设有的升高附件14，升高附件14在近远中方向的长度为其对应牙齿近远中方向上长度的1/2-2/3。第一下颌壳状本体12对应所述升高的位置处具有与所述升高附件14轮廓一致的升高容置腔体124，佩戴时，升高附件14与所述升高容置腔体124相互作用使得设有所述升高附件14的牙齿受到升高力，一般情况下，在佩戴时，升高附件14邻近龈端的表面与升高容置腔体124对应的表面相互作用，通过升高容置腔体124弹性形变产生的力作用在升高附件14的邻近龈端的表面上，从而实现对于粘有升高附件14的牙齿施加升高力。

本申请另外一些实施例中的一系列矫治器械中，第一上颌壳状本体11或者第二上颌壳状本体21容纳后牙区至少部分牙齿的牙齿收纳腔也可以设计为对所述后牙区至少部分牙齿施加升高力。在治疗深覆颌病例时，下颌SPEE曲线已通过下颌壳状本体整平后，后牙区上下颌在调整部的作用下，依然在垂直方向上有需要一定的空间，因此为了实现更好的咬合效果。参考图12示例的第一上颌壳状本体11，第一上颌壳状本体11或者第二上颌壳状本体21容纳后牙区至少部分牙齿的牙齿收纳腔在颊舌两侧邻近龈端处设置施力点112，施力点112可由牙齿收纳腔本身向牙齿方向凹入形成，从而实现对上颌后牙区至少部分牙齿施加升高力。或者是，参考图13示例的第一上颌壳状本体11，在上颌后牙区需要升高牙齿的颊侧面设有的升高附件14，所述升高附件14在近远中方向的长度为其对应牙齿近远中方向上长度的1/2-2/3。第一上颌壳状本体11或者第二上颌壳状本体21对应所述升高的位置处具有与所述升高附件14轮廓一致的升高容置腔体114，佩戴时，所述升高附件14与所述升高容置腔体114相互作用使得设有所述升高附件14的牙齿受到升高力，一般情况下，在佩戴时，升高附件14邻近龈端的表面与升高容置腔体114对应的表面相互作用，通过升高容置腔体114弹性形变产生的力作用在升高附件14的邻近龈端的表面上，从而实现对于粘有升高附件14的牙齿施加升高力。

在本申请一些实施例中，参考图14所示，第一调整部111包括由第一上颌壳状本体11的前牙区的舌侧面先向对颌方向后向后牙方向延伸形成的空腔结构111a。具体可以是，第一调整部111包括由第一上颌壳状本体11前牙区舌侧一侧延伸弯曲形成有一空腔结构111a的侧壁，空腔结构111a至少容纳下颌前牙区牙齿的切缘或邻近切缘的一部分；以及包括至少部分抵消因咬合导致壳状本体产生之形变的加强部113，加强部113一端与侧壁远离第一壳状本体的一端相连。更具体地说，第一上颌壳状本体11前牙区舌侧一端向远离上颌前牙区牙齿的一侧弯曲延伸，弯曲延伸形成的空腔结构111a的侧壁可为光滑过渡的曲面，也可为由多边形围合成的延伸面，也就是说，空腔结构111a邻近上颌前牙区牙齿的一侧与第一上颌壳状本体11前牙区舌侧连接，而空腔结构111a远离上颌前牙区牙齿的一侧与加强部113连接。其中，空腔结构111a与第一上颌壳状本体11前牙区舌侧连接处的具体位置可以为第一上颌壳状本体11前牙区舌侧邻近龈缘处或第一上颌壳状本体11容纳前牙区牙齿邻近舌窝处，具体地说，连接处可以为从距离第上颌一壳状本体前牙区舌侧龈缘处为起始点，至容纳前牙区牙冠长度的1/4-1/2的地方作为连接起点，也即连接处不为壳状本体前牙区舌侧龈缘处，而是从第一上颌壳状本体11前牙区舌侧邻近龈缘处或第一上颌壳状本体11容纳前牙区牙齿邻近舌窝处为延伸起点，向远离上颌前牙区牙齿一侧延伸。加强部113由空腔结构111a邻近对颌表面的舌侧端向上腭方向延伸形成，加强部113可以部分或者全部贴合患者的上腭区域，并与上腭的弯曲弧度一致，从而抵消调整部在佩戴过程中的变形。又或者，参考图18所示，加强部113由空腔结构111a远端的表面向远离上颌前牙的方向凸起形成的凸点结构，从而增加空腔结构111a在垂直方向上的抗变形能力。

空腔结构111a至少容纳下颌前牙区牙齿的切缘或邻近切缘的一部分，更具体地说，“覆颌”是指上颌牙盖过下颌牙的垂直距离，一般是1-3mm。在前牙，如盖过的部分不超过切牙唇面切1/3者，成为正常覆颌。超过者成为深覆颌。其程度依下颌切牙切缘咬在上颌切牙舌面的部位而定，如咬在切1/3者，为正常覆颌；咬在中1/3以内者，称为I度深覆颌；咬在颈1/3以内者称为II度深覆颌；咬在颈1/3以上者，称为III度深覆颌。而空腔结构111a容纳下颌前牙区牙齿的切缘或邻近切缘的一部分，可包括如下情况：1)切缘为下颌前牙唇面的切1/3处；2)邻近切缘的一部分为下颌前牙唇面的临近1/3处，如1/4-1/3之间或1/3-1/2之间，更优的方式为1/4-1/3之间，此时上颌牙盖过下颌牙的垂直距离不超过下颌切牙唇面切1/3。

在一些实施例中，第一调整部111包括由第一上颌壳状本体11的前牙区的至少一个牙齿收纳腔舌侧面局部向远中方向凸起形成的空腔结构111a；第二调整部211包括由第二上颌壳状本体21的前牙区的至少一个牙齿收纳腔舌侧面局部向远中方向凸起形成的空腔结构111a。具体参考图15所示，以第一调整部111举例，第一上颌壳状本体11上具有多个从牙齿收纳腔局部舌侧面向远中方向延伸形成的空腔结构111a，空腔结构111a与牙齿收纳腔联通，这样设计的好处在于，第一调整部111与第一上颌壳状本体11一体成型，适合进行大规模的生产制造，此外，第一调整部111的设计不过多影响牙齿收纳腔对牙齿的包裹性。

在一些实施例中，参考图16中第一上颌壳状本体11沿矢状面的截面示意图，空腔结构111a邻近对颌的表面为平行于咬合面的平面。具体是，空腔结构111a邻近对颌的表面整体均为平面，或者面上具有定位下颌位置的咬痕结构111b，所述咬痕结构111b与对颌前牙区牙齿形状相同。这样设计的好处在于，可以通过咬痕结构111b更好的定位下颌位置，同样可以引导下颌矢状向上的移动，解决部分深覆盖或者反颌的病例。

又或者，在另一些实施例中，参考图17中第一上颌壳状本体11沿矢状面的截面示意图，所述空腔结构111a邻近对颌的表面为引导下颌向前移动的斜面。倾斜的表面可以带动下颌牙齿在咬合的过程中进行向前移动，从而实现引导下颌向前的作用，同时完成对深覆盖问题的矫治。

在一些实施例中，所述第一调整部111的机械强度大于所述第一上颌壳状本体11的机械强度。具体的，第一调整部111与第一上颌壳状本体11为同种材料，如为材料PETG、PC或TPU中的一种，还可以为能够用于口腔内使用的具有医疗器械使用安全的其它高分子材料，使得在佩戴安全的同时产生具有矫正牙齿的效果；在另一些实施例中，第一调整部111与第一上颌壳状本体11分别为不同种的单一材料或不同种的多层复合材料，更具体地说，当第一调整部111与第一上颌壳状本体11为不同种的单一材料时，可为PETG、PC或TPU中的任意两种组合；其中，第一调整部111与第一上颌壳状本体11在进行设计或制备时可选择不同的材料，如第一上颌壳状本体11的材料为TPU，第一调整部111的材料可为PETG，此时采用热压成型制备使用的膜片可以为局部不同材料制得，也可以在进行3D直接打印时就针对局部区域使用不同的材料制备。当所述第一调整部111为与第一上颌壳状本体11不同种的多层复合材料时，可为PETG、PC或TPU任意组合组成的多层复合材料，可为第一调整部111为多层复合材料，而第一上颌壳状本体11为单一材料；也可为第一调整部111为单一材料，而第一上颌壳状本体11为多层复合材料；还可以为第一调整部111和第一上颌壳状本体11均为多层复合材料；更具体地说，第一调整部111为与第一上颌壳状本体11不同的多层复合材料，如第一上颌壳状本体11为单层结构或为多层复合结构，而第一调整部111为多层复合材料，其中第一调整部111的多层结构中可以其中的一层与第一上颌壳状本体11相同，也可以不同，如第一调整部111为双层复合材料组成，具体地为PETG和TPU，第一上颌壳状本体11的材料为PETG；也如第一调整部111为双层复合材料组成，具体地为PETG和TPU，第一上颌壳状本体11为双层复合材料组成，具体地为PETG和PC。上述列举仅为部分较优的实施方式，对于能够实现本发明效果的各种材料组合均在本发明的保护范围内，在此不再赘述。

在另一些实施例中，参考图18中第一上颌壳状本体11沿矢状面的截面示意图，所述第一调整部111还包括位于所述空腔结构111a内的填充件15。填充件15可以采用符合口腔医学标准的玻璃树脂材料制成，当矫治初期时，佩戴本申请中的牙科器械，患者下颌牙齿会对第一调整部111具有较大的咬合力，第一调整部111的空腔结构111a很容易在使用过程中发生咬塌变形的可能，从而导致牙科器械丧失矫治功能无法在进行佩戴，因此，本申请中的填充件15可以很好地解决上述问题，实体填充件15可以有效地提高空腔结构111a的抗变形能力，使得矫治初期的牙科器械获得更加可靠稳定的矫治结果。

同样地，第二调整部211与第二上颌壳状本体21之间的设置方式可以是上述中任何一种实施方式，第一阶段的中第一上颌壳状本体11与第一调整部111的设置方式可以与第二阶段中第二上颌壳状本体21与第二调整部211的设置方式相同或不同，对于第二调整部211与第二上颌壳状本体21之间具有设置方式在此不过多赘述。

在一些实施例中，参考图19所示，本申请的一系列矫治器械还包括对应第三阶段的第三矫治器械300，第三矫治器械300包括容纳上颌牙齿的第三上颌壳状本体和容纳下颌牙齿的第三下颌壳状本体，第三上颌壳状本体的前牙区舌侧设有调整上下颌前牙区牙齿垂直向距离的第三调整部，佩戴时，第三调整部与上颌前牙切端具有第三距离，第三阶段为第二阶段后续阶段中任一阶段，第三距离可以与第二距离相等，在另一些实施例中第三阶段为第二阶段的随后阶段，第三距离小于第二距离。尤其是针对过矫正病例，第一阶段和第二阶段均为过矫正阶段，在过矫正阶段，调整部设置在牙齿切端的对颌侧，在第二阶段后需要将上下颌垂直向咬合关系逐步调整在正确的位置处，因此，在第三阶段需要利用第三矫治器械300将上下颌垂直向相对距离调整至小于佩戴第二矫治器械200时上下颌垂直向的相对距离，即第三距离小于第二距离。在第三阶段随后的阶段对应调整部设计对应的上下颌垂直向咬合相对距离相较于第三阶段更加接近正确的覆颌关系，从而实现从过矫正逐步实现至正确覆颌关系处。

在一些实施例中，参考图20所示，本申请的一系列矫治器械包括对应第四阶段的第四矫治器械400，所述第四矫治器械400包括容纳上颌牙齿的第四上颌壳状本体和容纳下颌牙齿的第四下颌壳状本体，所述第四阶段为所述第二阶段的随后阶段，所述第四上颌壳状本体和第四下颌壳状本体具有使其包裹牙齿从上一阶段的牙列排布移动至目标牙列排布的几何结构；其中，所述目标牙列排布中上前牙切缘覆盖下前牙唇面不超过切1/3。第四阶段对应解决压低移动后的牙齿排齐，从而在第四阶段完成实现上下颌正确的覆颌关系。

本申请的实施方式还提供一种用于咬合调整的牙科系统的生成方法，如图21所示，包括：

步骤101，获取当前患者牙列的初始SPEE曲线深度，并根据矫治计划获取矫治目标位处的目标SPEE曲线深度以及前牙区目标打开高度；

步骤102，确定一系列矫治器械对应的数字化牙颌模型；其中，所述一系列矫治器械包括对应第一阶段的第一矫治器械，所述第一矫治器械包括容纳上颌牙齿的第一上颌壳状本体和容纳下颌牙齿的第一下颌壳状本体，所述第一上颌壳状本体的前牙区舌侧设有调整上下颌前牙区牙齿垂直向距离的第一调整部，所述第一调整部对应的数字化模型在垂直向的高度根据所述前牙区目标打开高度设置，所述第一下颌壳状本体用于容纳前牙区牙齿的部分牙齿收纳腔被设计为具有实现第一阶段对应所述前牙区牙齿压低移动量的几何结构；所述一系列矫治器械包括对应第二阶段的第二矫治器械，所述第二矫治器械包括容纳上颌牙齿的第二上颌壳状本体和容纳下颌牙齿的第二下颌壳状本体，所述第二上颌壳状本体的前牙区舌侧设有调整上下颌前牙区牙齿垂直向距离的第二调整部，所述第二调整部对应的数字化模型在垂直向的高度根据所述前牙区目标打开高度设置，所述第二下颌壳状本体用于容纳前牙区牙齿的部分牙齿收纳腔被设计为具有实现第二阶段对应所述前牙区牙齿压低移动量的几何结构；其中所述第二阶段为所述第一阶段后续阶段中任一阶段；根据所述SPEE曲线深度和所述目标SPEE曲线深度设计每一阶段对应的容纳下颌牙齿的壳状本体的数字化牙颌模型中的前牙区的牙齿的压低量；

步骤103，制造牙科系统：根据一系列矫治器械对应的数字化牙颌模型分别制造一系列矫治器械。

在一些实施例中，制造牙科系统包括：采用增材制造的方式制造所述一系列矫治器械对应的数字化牙颌模型对应的实体模型，根据所述实体模型采用热压膜的方式制造所述一系列矫治器械。增材制造还可称为3D打印，融合计算机辅助设计、材料加工与成型技术、以数字模型文件为基础，通过软件与数控系统将专用的金属材料、非金属材料以及医用生物材料，按照挤压、烧结、熔融、光固化、喷射等方式逐层堆积，制造出实体物品的制造技术。

在另一些实施例中，所述制造牙科系统包括：根据所述一系列矫治器械对应的数字化牙颌模型生成所述一系列矫治器械的数字化模型，根据所述一系列矫治器械的数字化模型采用增材制造的方式制造所述一系列矫治器械。

值得一提的是，本实施方式中所涉及到的各模块均为逻辑模块，在实际应用中，一个逻辑单元可以是一个物理单元，也可以是一个物理单元的一部分，还可以以多个物理单元的组合实现。此外，为了突出本发明的创新部分，本实施方式中并没有将与解决本发明所提出的技术问题关系不太密切的单元引入，但这并不表明本实施方式中不存在其它的单元。

本发明的一个实施方式涉及一种电子设备，如图22所示，包括至少一个处理器401；以及，

与所述至少一个处理器401通信连接的存储器402；其中，

所述存储器402存储有可被所述至少一个处理器401执行的指令，所述指令被所述至少一个处理器401执行，以使所述至少一个处理器401能够执行壳状牙科器械的生成方法。

其中，存储器和处理器采用总线方式连接，总线可以包括任意数量的互联的总线和桥，总线将一个或多个处理器和存储器的各种电路连接在一起。总线还可以将诸如外围设备、稳压器和功率管理电路等之类的各种其他电路连接在一起，这些都是本领域所公知的，因此，本文不再对其进行进一步描述。总线接口在总线和收发机之间提供接口。收发机可以是一个元件，也可以是多个元件，比如多个接收器和发送器，提供用于在传输介质上与各种其他装置通信的单元。经处理器处理的数据通过天线在无线介质上进行传输，进一步，天线还接收数据并将数据传送给处理器。

处理器负责管理总线和通常的处理，还可以提供各种功能，包括定时，外围接口，电压调节、电源管理以及其他控制功能。而存储器可以被用于存储处理器在执行操作时所使用的数据。

本发明的一个实施方式涉及一种计算机可读存储介质，存储有计算机程序。计算机程序被处理器执行时实现上述方法实施例。

即，本领域技术人员可以理解，实现上述实施例方法中的全部或部分步骤是可以通过程序来指令相关的硬件来完成，该程序存储在一个存储介质中，包括若干指令用以使得一个设备(可以是单片机，芯片等)或处理器(processor)执行本发明各个实施例所述方法的全部或部分步骤。而前述的存储介质包括：U盘、移动硬盘、只读存储器(ROM，Read-OnlyMemory)、随机存取存储器(RAM，RandomAccessMemory)、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。

应当说明的是，以上实施例在不产生矛盾的情况下，均可根据需要进行自由组合以形成不同的新的实施方案，这种组合后形成的实施方案均为本发明的保护范围，为了节省申请文本的篇幅，在此不再赘述。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

同样地，以上所述仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (38)

1.一种用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，包括一系列矫治器械，所述一系列矫治器械被设计为分步实现下颌前牙区牙齿的压低移动；所述一系列矫治器械包括对应第一阶段的第一矫治器械，所述第一矫治器械包括容纳上颌牙齿的第一上颌壳状本体和容纳下颌牙齿的第一下颌壳状本体，所述第一上颌壳状本体的前牙区舌侧设有调整上下颌前牙区牙齿垂直向距离的第一调整部，佩戴时，所述第一调整部与上颌前牙切端具有第一距离，所述第一下颌壳状本体用于容纳前牙区牙齿的部分牙齿收纳腔被设计为具有实现第一阶段对应所述前牙区牙齿压低移动量的几何结构；所述一系列矫治器械包括对应第二阶段的第二矫治器械，所述第二矫治器械包括容纳上颌牙齿的第二上颌壳状本体和容纳下颌牙齿的第二下颌壳状本体，所述第二上颌壳状本体的前牙区舌侧设有调整上下颌前牙区牙齿垂直向距离的第二调整部，佩戴时，所述第二调整部与上颌前牙切端具有第二距离，所述第二下颌壳状本体用于容纳前牙区牙齿的部分牙齿收纳腔被设计为具有实现第二阶段对应所述前牙区牙齿压低移动量的几何结构；其中所述第二阶段为所述第一阶段后续阶段中任一阶段，所述第一距离等于所述第二距离以使在矫治过程中上下颌前牙区牙齿始终保持在相同的咬合位置处。

2.根据权利要求1所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，佩戴时，所述第一调整部在垂直方向上的最低点位于上颌前牙切端的龈侧，所述第二调整部在垂直方向上的最低点位于上颌前牙切端的龈侧。

3.根据权利要求2所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述第一距离小于等于所述第一调整部对应位置处牙齿牙冠垂直长度的1/3；所述第二距离小于等于所述第二调整部对应位置处牙齿牙冠垂直长度的1/3。

4.根据权利要求1所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，佩戴时，所述第一调整部在垂直方向上的最低点位于上颌前牙切端的对颌侧，所述第二调整部在垂直方向上的最低点位于上颌前牙切端的对颌侧。

5.根据权利要求4所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述第一距离小于等于0.2mm和/或所述第二距离小于等于0.2mm。

6.根据权利要求1所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述一系列矫治器械每个阶段中的矫治器械对应的下颌前牙区牙齿的单步压低量在0.1mm-0.2mm之间。

7.根据权利要求1所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述一系列矫治器械还被设计为分步实现下颌后牙区牙齿的升高移动。

8.根据权利要求7所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述一系列矫治器械整平下颌SPEE曲线的总移动量M为下颌前牙区牙齿的压低移动总移动量与下颌后牙区牙齿的升高移动总移动量之和。

9.根据权利要求8所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述一系列矫治器械使下颌前牙区牙齿的压低移动总移动量为整平下颌SPEE曲线所需总移动量M的1/3-1/2。

10.根据权利要求8所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述一系列矫治器械使下颌后牙区牙齿的升高移动总移动量为整平下颌SPEE曲线所需总移动量M的1/2-2/3。

11.根据权利要求10所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述一系列矫治器械每个阶段中的矫治器械对应的下颌后牙区牙齿的单步升高量在0.1mm-0.2mm之间。

12.根据权利要求1所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述第一下颌壳状本体和/或所述第二下颌壳状本体用于容纳前牙区牙齿的牙齿收纳腔在垂直方向上的高度小于其容纳牙齿牙冠在垂直方向上的高度。

13.根据权利要求12所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述第一下颌壳状本体和/或所述第二下颌壳状本体用于容纳前牙区牙齿的牙齿收纳腔与其容纳牙齿牙冠在垂直方向上的高度差在0.1mm-0.2mm之间。

14.根据权利要求1或12所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述一系列矫治器械还包括在邻近所述前牙区牙齿的尖牙或磨牙的表面设有压低附件，佩戴时，所述压低附件对所述第一下颌壳状本体和/或所述第二下颌壳状本体施加垂直向下的力以使所述第一下颌壳状本体和/或所述第二下颌壳状本体对所述前牙区牙齿施加压低力。

15.根据权利要求14所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述压低附件邻近龈端的表面为向对颌方向凹入形成的内凹曲面。

16.根据权利要求15所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述第一下颌壳状本体和/或所述第二下颌壳状本体对应所述压低附件的位置处具有与所述压低附件轮廓一致的压低容置腔体。

17.根据权利要求16所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，佩戴时，所述内凹曲面对所述压低容置腔体施加垂直向下的力。

18.根据权利要求7所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述第一下颌壳状本体和/或所述第二下颌壳状本体容纳后牙区牙齿的牙齿收纳腔具有对所述后牙区牙齿施加升高力的几何结构。

19.根据权利要求18所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述一系列矫治器械还包括在所述后牙区牙齿的颊侧面设有的升高附件，所述升高附件在近远中方向的长度为其对应牙齿近远中方向上长度的1/2-2/3。

20.根据权利要求19所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述第一下颌壳状本体和/或所述第二下颌壳状本体对应所述升高的位置处具有与所述升高附件轮廓一致的升高容置腔体，佩戴时，所述升高附件与所述升高容置腔体相互作用使得设有所述升高附件的牙齿受到升高力。

21.根据权利要求18所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述第一下颌壳状本体和/或所述第二下颌壳状本体对应后牙区升高牙齿的牙齿收纳腔在靠近龈端具有向牙齿方向内凹形成的施力点。

22.根据权利要求1所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述第一调整部包括由所述第一上颌壳状本体的前牙区的舌侧面先向对颌方向后向后牙区牙齿方向延伸形成的空腔结构；所述第二调整部包括由所述第二上颌壳状本体的前牙区的舌侧面先向对颌方向后向后牙区牙齿方向延伸形成的空腔结构。

23.根据权利要求1所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述第一调整部包括由所述第一上颌壳状本体的前牙区的至少一个牙齿收纳腔舌侧面局部向远中方向凸起形成的空腔结构；所述第二调整部包括由所述第二上颌壳状本体的前牙区的至少一个牙齿收纳腔舌侧面局部向远中方向凸起形成的空腔结构。

24.根据权利要求22或23所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述空腔结构邻近对颌的表面为平行于咬合面的平面。

25.根据权利要求24所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述平面上具有定位下颌位置的咬痕结构，所述咬痕结构与对颌前牙区牙齿形状相同。

26.根据权利要求22或23所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述空腔结构邻近对颌的表面为引导下颌向前移动的斜面。

27.根据权利要求1所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述第一调整部的机械强度大于所述第一上颌壳状本体的机械强度和/或所述第二调整部的机械强度大于所述第二上颌壳状本体的机械强度。

28.根据权利要求22或23所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述第一调整部和/或所述第二调整部还包括位于所述空腔结构内的填充件。

29.根据权利要求22所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述空腔结构邻近对颌表面的舌侧端向上腭方向延伸形成抵抗咬合导致所述空腔结构变形的加强部。

30.根据权利要求29所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，佩戴时，至少部分所述加强部贴合上腭并与上腭的弯曲弧度一致。

31.根据权利要求1或4所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述一系列矫治器械包括对应第三阶段的第三矫治器械，所述第三矫治器械包括容纳上颌牙齿的第三上颌壳状本体和容纳下颌牙齿的第三下颌壳状本体，所述第三上颌壳状本体的前牙区舌侧设有调整上下颌前牙区牙齿垂直向距离的第三调整部，佩戴时，所述第三调整部与上颌前牙切端具有第三距离，所述第三阶段为所述第二阶段后续阶段中任一阶段，所述第三距离小于所述第二距离。

32.根据权利要求1所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述一系列矫治器械包括对应第四阶段的第四矫治器械，所述第四矫治器械包括容纳上颌牙齿的第四上颌壳状本体和容纳下颌牙齿的第四下颌壳状本体，所述第四阶段为所述第二阶段的随后阶段，所述第四上颌壳状本体和第四下颌壳状本体具有使其包裹牙齿从上一阶段的牙列排布移动至目标牙列排布的几何结构；其中，所述目标牙列排布中上前牙切缘覆盖下前牙唇面不超过切1/3。

33.一种用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，包括N个逐渐分步实现矫治计划的矫治器械，所述N个矫治器械的每一个都具有容纳上颌牙列的上颌壳状本体和容纳下颌牙列的下颌壳状本体，N个所述上颌壳状本体均具有打开前牙咬合高度的调整部，N个所述下颌壳状本体具有对下颌牙齿施加压低力的几何结构，其中，N个所述下颌壳状本体用于实现下颌前牙区牙齿分步完成所述矫治计划中的压低移动，N个所述调整部使在矫治过程中前牙区上下颌牙齿在垂直方向的相对位置关系保持一致，N为大于等于2的自然数。

34.根据权利要求33所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述N个逐渐分步实现矫治计划的矫治器械每个阶段中的矫治器械对应的下颌前牙区牙齿的单步压低量在0.1mm-0.2mm之间。

35.根据权利要求33所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述N个矫治器械还被设计为分步实现下颌后牙区牙齿的升高移动。

36.根据权利要求35所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述N个矫治器械整平下颌SPEE曲线的总移动量M为下颌前牙区牙齿的压低移动总移动量与下颌后牙区牙齿的升高移动总移动量之和。

37.根据权利要求36所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述N个矫治器械使下颌前牙区牙齿的压低移动总移动量为整平下颌SPEE曲线所需总移动量M的1/3-1/2。

38.根据权利要求36所述用于咬合调整的牙科系统，其特征在于，所述N个矫治器械使下颌后牙区牙齿的升高移动总移动量为整平下颌SPEE曲线所需总移动量M的1/2-2/3。