CN220233087U - 一种可调节枪筒高度的等离子表面处理设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及等离子处理技术领域，特别涉及一种可调节枪筒高度的等离子表面处理设备，包括控制箱，控制箱表面设置有控制面板，还包括位于控制箱底部的机架，机架与控制箱之间设有传输带，机架内位于传输带上方沿传输带宽度方向布设有水平滑动装置，水平滑动装置顶部设有可沿其水平往复运动的竖直滑动装置，竖直滑动装置的一侧上连接有枪筒，枪筒可沿竖直滑动装置进行竖直运动，本实用新型的有益效果为：通过机架与控制箱之间设有传输带，以及水平滑动装置和竖直滑动装置的设置，从而实现枪筒可自动往复移动对产品进行等离子表面处理，且具有可手动调节枪筒高度的功能。

Description

一种可调节枪筒高度的等离子表面处理设备

技术领域

本实用新型涉及等离子处理技术领域，具体涉及一种可调节枪筒高度的等离子表面处理设备。

背景技术

离子表面处理，用一定能量的离子轰击固体表面，使固体近表面层物理、化学性质发生变化的工艺技术，包括离子注入、离子束混合、离子溅射、离子刻蚀等技术。

公开号为“CN 114256051A”的扁喷嘴等离子表面处理设备包括包括控制箱，所述控制箱表面设置有控制面板，控制箱内安装有稳压器，控制箱上表面安装有工作箱，工作箱底部安装有放置板，放置板上方设置有喷枪体，喷枪体内部底部安装有高压电离单元，喷枪体内部上方设置有气流均流单元，喷枪体底部安装有扁喷嘴，扁喷嘴上表面安装有气流束形单元，工作箱底部位于放置板一侧设置有滑槽，工作箱前后部安装有固定板，固定板转动连接有丝杆，丝杆一端贯穿固定板，丝杆贯穿固定板一端和微型电机输出端相连接，丝杆表面套接有螺纹套，螺纹套下表面固定连接有滑块，滑块滑动连接于滑槽内部，螺纹套上表面固定连接有支撑杆，支撑杆一侧安装有电动推杆，电动推杆远离电动推杆一端固定有支撑板，支撑板下表面两侧固定连接有连接杆，连接杆底部和喷枪体上表面固定连接，通过调节螺纹套在丝杆上的位置和调节电动推杆的长度，实现喷枪体可以移动到各个位置，移动方便，便于对物件表面进行处理。

但是该文件中需将待加工的物件放在放置板上，然后调节伸缩杆的长度对物件进行夹持，通过调节螺纹套在丝杆上的位置和调节电动推杆的长度，实现喷枪体可以移动到各个位置，操作较为繁琐，自动化程度较低，降低了加工效率。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题在于针对上述现有技术的不足，提供枪筒可自动往复移动对产品进行等离子表面处理，且可手动调节枪筒高度的一种可调节枪筒高度的等离子表面处理设备。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：一种可调节枪筒高度的等离子表面处理设备，包括控制箱，所述控制箱表面设置有控制面板，其特征在于：还包括位于控制箱底部的机架，所述机架与控制箱之间设有传输带，所述机架内位于传输带上方沿传输带宽度方向布设有水平滑动装置，所述水平滑动装置顶部设有可沿其水平往复运动的竖直滑动装置，所述竖直滑动装置的一侧上连接有枪筒，所述枪筒可沿竖直滑动装置进行竖直运动。

采用上述技术方案：在使用过程中，工作人员只需将待加工的产品置于传输带上，通过控制面板，使其启动，水平滑动装置即可带动枪筒沿其往复运动，传输带速度与枪筒沿水平滑动装置运动速度相匹配，实现从传输带宽度方向往复对产品进行等离子表面处理，提高自动化程度，同时提高加工效率；竖直滑动装置的设置，使工作人员可根据不同的产品进行对枪筒高度的调节，从而适配更多的产品，提高通用性。

本实用新型进一步的设置是：所述水平滑动装置包括分别位于传输带两侧的支撑板、连接两支撑板的横梁、与横梁顶部固定连接的水平导轨、以及位于水平导轨远离控制面板一侧的电机，所述水平导轨内设有第一空腔，所述第一空腔内设有通过与电机中的输出轴连接进行转动的辅助带，所述辅助带可供竖直滑动装置沿水平导轨进行往复运动。

采用上述技术方案：通过水平导轨内与电机输出轴连接的辅助带，当电机启动时，输出轴转动带动辅助带进行转动，从而使竖直滑动装置可沿水平导轨进行往复运动，进而带动枪筒实现从传输带宽度方向往复对产品进行等离子表面处理。

本实用新型进一步的设置是：所述竖直滑动装置包括与辅助带进行配合的滑动块、以及位于滑动块一侧上设有供枪筒进行竖直运动的竖直导轨，所述竖直导轨上设有第一固定块，所述枪筒固定连接在第一固定块远离竖直导轨的一侧上。

采用上述技术方案：在使用过程中，辅助带与滑动块进行配合，辅助带通过电机进行转动时，带动滑动块沿其进行往复运动，同时通过设置竖直导轨，并且将枪筒与竖直导轨上的第一固定块连接，实现可根据不同的产品，进行对枪筒高度的调节，从而适配不同的产品，提高其通用性。

本实用新型进一步的设置是：所述滑动块包括底部的滑动凸块、与滑动凸块顶部固定连接的连接块、以及与连接块顶部连接的第二固定块，所述滑动凸块的凸起部开设有供位于底部的辅助带穿过的第一凹槽，所述滑动凸块与连接块之间设有供位于上部的辅助带穿过的第二凹槽，所述滑动凸块位于第二凹槽内相对设有使辅助带与滑动凸块贴合的压紧块。

采用上述技术方案：上下部分的辅助带分别穿过第一、第二凹槽，同时在第二凹槽内设有使辅助带与滑动凸块贴合的压紧块，保证辅助带可以良好的带动滑动块进行往复运动，保证辅助带的运行效果，提高稳定性。

本实用新型进一步的设置是：所述水平导轨顶部设有上盖，所述上盖穿过第二凹槽。

采用上述技术方案：上盖穿过第二凹槽的设置，使上盖不会阻碍到滑动块沿水平导轨进行往复运动，保证其运行，同时上盖的设置也起到一定的防尘保护作用。

本实用新型进一步的设置是：所述第一固定块与竖直导轨连接的一侧上设有第三凹槽，所述第三凹槽内设有滑块，所述滑块上通过设有第一穿设孔，穿设有丝杆，所述丝杆的顶部设有螺帽。

采用上述技术方案：采用丝杆传动结构，当需要对不同产品进行等离子表面处理时，只需转动螺帽，调节至适合的高度即可适配不同产品的高度需求。

本实用新型进一步的设置是：所述竖直导轨顶部设有供螺帽插设的第二穿设孔，所述竖直导轨设有与第三凹槽卡合的安装槽，所述安装槽内对应丝杆处设有第四凹槽。

采用上述技术方案：通过在竖直导轨顶部设有供螺帽插设的第二穿设孔，以及容纳丝杆的第四凹槽，将竖直导轨通过安装槽与第三凹槽进行卡合安装，装配操作简单，调节枪筒高度的方式简单快捷。

本实用新型进一步的设置是：所述控制箱顶部设有散热风扇。

采用上述技术方案：通过散热风扇的设置，在对产品进行等离子表面处理时，可以进行散热，从而避免由于热量过大导致设备出现问题。

本实用新型的有益效果为：通过机架与控制箱之间设有传输带，以及水平滑动装置和竖直滑动装置的设置，从而实现枪筒可自动往复移动对产品进行等离子表面处理，且具有可手动调节枪筒高度的功能。

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步详细说明。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图。

图2为本实用新型的内部结构示意图。

图3为本实用新型的水平滑动装置结构示意图。

图4为本实用新型的水平滑动装置无上盖结构示意图。

图5为本实用新型图4中的A处放大图。

图6为本实用新型的水平滑动装置不同视角的结构示意图。

图7为本实用新型的枪筒与竖直导轨结构示意图。

图8为本实用新型的枪筒与竖直导轨不同视角的结构示意图。

标号说明：控制箱1、控制面板11、散热风扇12、机架2、传输带3、水平滑动装置4、支撑板41、横梁42、水平导轨43、第一空腔431、辅助带432、上盖433、电机44、竖直滑动装置5、滑动块51、滑动凸块511、第一凹槽5111、第二凹槽5112、压紧块5113、连接块512、第二固定块513、竖直导轨52、第一固定块521、第三凹槽5211、滑块5212、第一穿设孔52121、丝杆5213、螺帽5214、第二穿设孔522、安装槽523、第四凹槽5231、枪筒6。

实施方式

如图1-8所示的一种可调节枪筒6高度的等离子表面处理设备，包括控制箱1，控制箱1表面设置有控制面板11，控制箱1顶部设有散热风扇12，还包括位于控制箱1底部的机架2，机架2与控制箱1之间设有传输带3，机架2内位于传输带3上方沿传输带宽度方向布设有水平滑动装置4，水平滑动装置4顶部设有可沿其水平往复运动的竖直滑动装置5，竖直滑动装置5的一侧上连接有枪筒6，枪筒6可沿竖直滑动装置5进行竖直运动。

如图2-6所示的水平滑动装置4包括分别位于传输带3两侧的支撑板41、连接两支撑板41的横梁42、与横梁42顶部固定连接的水平导轨43、以及位于水平导轨43远离控制面板11一侧的电机44，所述水平导轨43内设有第一空腔431，所述第一空腔431内设有通过与电机44中的输出轴连接进行转动的辅助带432，所述辅助带432可供竖直滑动装置5沿水平导轨43进行往复运动。

如图3-8所示的竖直滑动装置5包括与辅助带432进行配合的滑动块51、以及位于滑动块51一侧上设有供枪筒6进行竖直运动的竖直导轨52，竖直导轨52上设有第一固定块521，枪筒6固定连接在第一固定块521远离竖直导轨52的一侧上，第一固定块521与竖直导轨52连接的一侧上设有第三凹槽5211，第三凹槽5211内设有滑块5212，滑块5212上通过设有第一穿设孔52121，穿设有丝杆5213，丝杆5213的顶部设有螺帽5214，竖直导轨52顶部设有供螺帽5214插设的第二穿设孔522，竖直导轨52设有与第三凹槽5211卡合的安装槽523，安装槽523内对应丝杆5213处设有第四凹槽5231。

如图3、5所示的滑动块51包括底部的滑动凸块511、与滑动凸块511顶部固定连接的连接块512、以及与连接块512顶部连接的第二固定块513，滑动凸块511的凸起部开设有供位于底部的辅助带432穿过的第一凹槽5111，滑动凸块511与连接块512之间设有供位于上部的辅助带432穿过的第二凹槽5112，滑动凸块511位于第二凹槽5112内相对设有使辅助带432与滑动凸块511贴合的压紧块5113，水平导轨43顶部设有上盖433，上盖433穿过第二凹槽5112。

本实用新型在使用过程中，在使用过程中，工作人员只需将待加工的产品置于传输带3上，通过控制面板11，使其启动，同时当电机44启动时，输出轴转动带动辅助带432进行转动，从而使竖直滑动装置5可沿水平导轨43进行往复运动，进而带动枪筒6实现从传输带3宽度方向往复对产品进行等离子表面处理；通过在第一固定块521和竖直滑轨之间设有丝杆5213传动结构，只需转动与丝杆5213连接的螺帽5214，将第一固定块521带动枪筒6调节至适合的高度即可适配不同产品的高度需求。

Claims (8)

1.一种可调节枪筒高度的等离子表面处理设备，包括控制箱，所述控制箱表面设置有控制面板，其特征在于：还包括位于控制箱底部的机架，所述机架与控制箱之间设有传输带，所述机架内位于传输带上方沿传输带宽度方向布设有水平滑动装置，所述水平滑动装置顶部设有可沿其水平往复运动的竖直滑动装置，所述竖直滑动装置的一侧上连接有枪筒，所述枪筒可沿竖直滑动装置进行竖直运动。

2.根据权利要求1所述的一种可调节枪筒高度的等离子表面处理设备，其特征在于：所述水平滑动装置包括分别位于传输带两侧的支撑板、连接两支撑板的横梁、与横梁顶部固定连接的水平导轨、以及位于水平导轨远离控制面板一侧的电机，所述水平导轨内设有第一空腔，所述第一空腔内设有通过与电机中的输出轴连接进行转动的辅助带，所述辅助带可供竖直滑动装置沿水平导轨进行往复运动。

3.根据权利要求2所述的一种可调节枪筒高度的等离子表面处理设备，其特征在于：所述竖直滑动装置包括与辅助带进行配合的滑动块、以及位于滑动块一侧上设有供枪筒进行竖直运动的竖直导轨，所述竖直导轨上设有第一固定块，所述枪筒固定连接在第一固定块远离竖直导轨的一侧上。

4.根据权利要求3所述的一种可调节枪筒高度的等离子表面处理设备，其特征在于：所述滑动块包括底部的滑动凸块、与滑动凸块顶部固定连接的连接块、以及与连接块顶部连接的第二固定块，所述滑动凸块的凸起部开设有供位于底部的辅助带穿过的第一凹槽，所述滑动凸块与连接块之间设有供位于上部的辅助带穿过的第二凹槽，所述滑动凸块位于第二凹槽内相对设有使辅助带与滑动凸块贴合的压紧块。

5.根据权利要求4所述的一种可调节枪筒高度的等离子表面处理设备，其特征在于：所述水平导轨顶部设有上盖，所述上盖穿过第二凹槽。

6.根据权利要求3所述的一种可调节枪筒高度的等离子表面处理设备，其特征在于：所述第一固定块与竖直导轨连接的一侧上设有第三凹槽，所述第三凹槽内设有滑块，所述滑块上通过设有第一穿设孔，穿设有丝杆，所述丝杆的顶部设有螺帽。

7.根据权利要求6所述的一种可调节枪筒高度的等离子表面处理设备，其特征在于：所述竖直导轨顶部设有供螺帽插设的第二穿设孔，所述竖直导轨设有与第三凹槽卡合的安装槽，所述安装槽内对应丝杆处设有第四凹槽。

8.根据权利要求1所述的一种可调节枪筒高度的等离子表面处理设备，其特征在于：所述控制箱顶部设有散热风扇。