CN220012802U - 用于镀膜腔体的升降装置和升降系统 - Google Patents
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- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 29
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 29
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims description 45
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 15
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 25
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 22
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 abstract description 11
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 9
- 239000007888 film coating Substances 0.000 abstract description 2
- 238000009501 film coating Methods 0.000 abstract description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 3
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010862 gear shaping Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
本实用新型公开了用于镀膜腔体的升降装置和升降系统,升降装置包括:固定部,固定部包括本体部和端部,本体部具有沿本体部的高度方向贯穿本体部的第一通孔,端部具有沿端部的高度方向贯穿端部的第二通孔,本体部的外侧面设有第一螺纹,端部远离本体部的一端设有凹槽,且第二通孔沿凹槽的高度方向贯穿凹槽;卡环,卡环设置在凹槽内,卡环具有第三通孔,第三通孔沿卡环的高度方向贯穿卡环;升降部,升降部依次穿过第一通孔、第二通孔和第三通孔设置。该升降装置具有结构简单、使用方便、成本低廉、维护保养简单等优点,且升降装置在升降过程中的波动较小,在升降过程中对卡环和固定部的磨损较小。
Description
技术领域
本实用新型涉及升降系统技术领域,具体而言,本实用新型涉及一种用于镀膜腔体的升降装置和升降系统。
背景技术
随着经济的发展,环保问题也油然而生,人们对新能源领域的重视程度也越来越高,工业4.0的持续推进,机械智能化的发展与完善将工业生产引向革命新时代,通过智能制造、智能控制系统,真正能达到工业生产从而减轻劳动强度、提高劳动效率,使得工业生产水平迈向了一个新台阶。太阳能异质结光伏电池片目前已采用自动流水线的形式进行作业,在非晶硅的PECVD工序生产过程中,硅片需要通过镀膜设备进行真空镀膜。现有市场上的镀膜设备载板传输方式大多主要为皮带及滚轮传输,该种传输方式具有许多优点,但对于已有需要通过升降载板来完成传输的PECVD镀膜设备来说,现有升降装置的结构复杂、故障率高且维护保养困难(需要大量的时间才能完成)。对于现有升降设备来说,要想升级兼容皮带滚轮传输较为困难,因为传输结构及空间布局已严重受限,且改造成本高昂,所以急需一种结构简单、成本低廉、维护保养简单、耐腐蚀耐高温且变形量小精度高的载板升降装置。
实用新型内容
本实用新型旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本实用新型的目的在于提出一种用于镀膜腔体的升降装置和升降系统。该升降装置具有结构简单、使用方便、成本低廉、维护保养简单等优点,且升降装置在升降过程中的波动较小,升降装置在升降过程中对卡环和固定部的磨损较小。
在本实用新型的第一个方面,提出了一种用于镀膜腔体的升降装置。根据本实用新型的实施例,所述用于镀膜腔体的升降装置包括:
固定部,所述固定部包括本体部和端部,所述端部设置在所述本体部沿高度方向的一端,所述本体部具有沿所述本体部的高度方向贯穿所述本体部的第一通孔,所述端部具有沿所述端部的高度方向贯穿所述端部的第二通孔,所述本体部的外侧面设有第一螺纹,所述端部远离所述本体部的一端设有凹槽,所述凹槽朝远离所述本体部的方向开口,且所述第二通孔沿所述凹槽的高度方向贯穿所述凹槽;
卡环,所述卡环设置在所述凹槽内,所述卡环具有第三通孔,所述第三通孔沿所述卡环的高度方向贯穿所述卡环;
升降部,所述升降部依次穿过所述第一通孔、所述第二通孔和所述第三通孔设置,且所述升降部能够在所述第一通孔、所述第二通孔和所述第三通孔中移动。
根据本实用新型上述实施例的用于镀膜腔体的升降装置,通过控制可使该升降装置通过反应气盒底壁上的固定孔在反应气盒中上下移动,从而能够达到将反应气盒中的载板从底壁上托起或者放下的目的。同时,该升降装置具有结构简单、使用方便、成本低廉、维护保养简单等优点,且升降装置在升降过程中的波动较小,升降装置在升降过程中对卡环和固定部的磨损较小。
另外,根据本实用新型上述实施例的用于镀膜腔体的升降装置还可以具有如下附加的技术特征:
在本实用新型的一些实施例中,升降装置还包括:基座,所述升降部设置在所述基座上,且所述升降部远离所述卡环的一端与所述基座相连。
在本实用新型的一些实施例中,所述升降部远离所述基座的一端设有限位部,所述限位部的直径大于所述第三通孔的直径。
在本实用新型的一些实施例中,所述本体部、所述端部、所述凹槽、所述卡环和所述升降部各自独立地为圆柱形;和/或,所述第一通孔、所述第二通孔和所述第三通孔各自独立地为圆柱形。
在本实用新型的一些实施例中,所述卡环的内径大于所述升降部的直径,且所述卡环的内径与所述升降部直径之间的差值为0.08-0.12mm;和/或,所述凹槽的内径大于所述卡环的外径,且所述凹槽的内径与所述卡环的外径之间的差值为0.08-0.12mm。
在本实用新型的一些实施例中,所述本体部的直径大于所述端部的直径;和/或,所述第一通孔的直径大于所述第二通孔的直径,且所述第一通孔的直径大于所述第三通孔的直径。
在本实用新型的一些实施例中,所述凹槽沿高度方向的尺寸小于所述端部沿高度方向的尺寸。
在本实用新型的一些实施例中,所述卡环和所述升降部的材料各自独立地为陶瓷材料。
在本实用新型的第二个方面,提出了一种用于镀膜腔体的升降系统。根据本实用新型的实施例,所述升降系统具有以上实施例所述的用于镀膜腔体的升降装置。由此,通过伺服传动装置可控制升降装置在反应气盒内的升降,从而能够实现载板在反应气盒内上下位置的切换。同时,该升降系统具有结构简单、使用方便、成本低廉、维护保养简单等优点,且升降装置在升降过程中的波动较小,升降装置在升降过程中对卡环和固定部的磨损较小。
另外,根据本实用新型上述实施例的用于镀膜腔体的升降系统还可以具有如下附加的技术特征:
在本实用新型的一些实施例中,升降系统还包括:固定孔,所述固定孔设置在反应气盒的底壁上,所述固定孔贯穿所述反应气盒的底壁,且所述固定孔的外边缘设有第二螺纹,所述第二螺纹与所述第一螺纹相匹配,以使所述固定部能够固定在所述反应气盒的底壁上;支撑架,所述升降装置设置在所述支撑架上;升降杆,所述升降杆与所述支撑架相固定;伺服传动装置,所述伺服传动装置用于控制所述升降杆的升降。
本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到。
附图说明
本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1是根据本实用新型实施例的用于镀膜腔体的升降装置的结构图;
图2是根据本实用新型实施例的固定部的结构图;
图3是根据本实用新型实施例的固定部的上视图;
图4是图3的A-A方向的剖视图;
图5是根据本实用新型实施例的升降部和基座的结构图;
图6是根据本实用新型实施例的卡环的结构图;
图7是根据本实用新型实施例的用于镀膜腔体的升降系统的结构图。
附图标记:
100-升降装置,110-卡环,111-第三通孔,120-固定部,121-端部,121-1-凹槽,121-2-第二通孔,122-本体部,122-1-第一螺纹,122-2-第一通孔,130-升降部,131-1-限位部,140-基座,200-反应气盒,210-固定孔,300-支撑架。
具体实施方式
下面详细描述本实用新型的实施例,实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本实用新型的第一个方面,提出了一种用于镀膜腔体的升降装置100,参考附图1-6,用于镀膜腔体的升降装置100包括:固定部120,固定部120包括本体部122和端部121,端部121设置在本体部122沿高度方向的一端,本体部122具有沿本体部122的高度方向贯穿本体部122的第一通孔122-2,端部121具有沿端部121的高度方向贯穿端部121的第二通孔121-2,本体部122的外侧面设有第一螺纹122-1,端部121远离本体部122的一端设有凹槽121-1,凹槽121-1朝远离本体部122的方向开口,且第二通孔121-2沿凹槽121-1的高度方向贯穿凹槽121-1;卡环110,卡环110设置在凹槽121-1内,卡环110具有第三通孔111,第三通孔111沿卡环110的高度方向贯穿卡环110;升降部130,升降部130依次穿过第一通孔122-2、第二通孔121-2和第三通孔111设置,且升降部130能够在第一通孔122-2、第二通孔121-2和第三通孔111中移动。由此,通过控制可使该升降装置100通过反应气盒200底壁上的固定孔在反应气盒200中上下移动,从而能够达到将反应气盒200中的载板从底壁上托起或者放下的目的。同时,该升降装置100具有结构简单、使用方便、成本低廉、维护保养简单等优点,且升降装置100在升降过程中的波动较小,升降装置100在升降过程中对卡环110和固定部120的磨损较小。
下面对本实用新型提出的用于镀膜腔体的升降装置100能够实现上述有益效果的原理进行详细说明:
太阳能异质结光伏电池片的制备需要经过很多个工序,当硅片在镀膜腔室中镀膜完成后,需要采用机械手将盛放有硅片的载板从当前工艺腔中转移到下一个工序的腔室中。此时就需要升降装置将反应气盒200底壁上的载板托起,使载板与反应气盒200的底壁之间存在一定的空间,以便机械手的插齿壁能够插入载板的下方,从而将盛放有硅片的载板转移到下一个工序的腔室中。同样地,当将盛放有硅片的载板放入反应气盒200时,也需要升降装置能够将载板托住,再缓慢地下降从而将盛放有硅片的载板放置在反应气盒200的底壁上。现有升降装置的结构复杂、故障率高且维护保养困难(需要大量的时间才能完成)。需要说明的是,反应气盒200设置在镀膜腔室中,硅片在反应气盒200中进行镀膜。
为了解决上述问题,本实用新型提出了一种新型的升降装置100。该升降装置100包括固定部120、卡环110和升降部130,在使用时只需将该升降装置100安装在反应气盒200底壁的固定孔上,配合腔体内的升降传动装置便可以实现腔体内部对载板升降动作、升降高度及位置的控制。具体地,该升降装置100的本体部122的外侧面设有第一螺纹122-1,刚好能够与反应气盒200底壁上设置的固定孔外边缘的第二螺纹相匹配,以使固定部120能够固定在反应气盒200的底壁上。且升降部130能够在第一通孔122-2、第二通孔121-2和第三通孔111中移动,即能够控制升降部130穿过固定部120和卡环110上下移动,因此可控制升降部130通过反应气盒200底壁上的固定孔进入反应气盒200中或者退出反应气盒200中,从而能够达到将反应气盒200中的载板从底壁上托起或者放下的目的,解决了PECVD板式镀膜设备中载板的升降传输问题。即通过第一螺纹122-1与反应气盒200进行固定连接后,通过反应腔体内的伺服传动装置控制升降部130进行上下运动,从而实现载板在反应气盒200内的上下位置的切换。
其中,升降部130在载板的升降过程中起到支撑载板及升降传动的作用。固定部120为该升降装置100与反应气盒200的固定连接装置,通过第一螺纹122-1与反应气盒200的固定孔进行装卸配合。卡环110在升降装置100的升降过程中起到连接紧固升降部130与固定部120的作用以及减震的作用,具体来说,如果不设置卡环110,会导致升降部130在升降过程中在固定部120中沿左右方向有较大的波动,通过设置卡环110使升降部130在升降过程中在固定部120中的波动减小,起到紧固作用;另外,卡环110在固定部120的凹槽121-1内是可活动的,当升降部130在升降过程中沿左右方向有可控的波动时,卡环110可随升降部130左右波动,起到了减震的作用,降低了升降部130对卡环110和固定部120的磨损。另外,该升降装置100使用方便,提高了整线生产效率;可靠性高,故障率低,进一步提升了设备的正常运行时间;结构简单,易于拆装更换,易于批量生产;成本低廉,维护保养简单,维护保养所需时间短。
根据本实用新型的一些具体实施例,参考附图1和5,该升降装置100还包括:基座140,升降部130设置在基座140上,且升降部130远离卡环110的一端与基座140相连。基座140起到支撑整个升降装置100的作用。升降装置100在载板的升降过程中,基座140设置在支撑架上,支撑架与升降杆相固定,伺服传动装置通过控制升降杆的升降从而带动支撑架和升降装置100进行升降。
根据本实用新型的再一些具体实施例,参考附图1,升降部130远离基座140的一端设有限位部131,限位部131的直径大于第三通孔111的直径,由此,当升降装置100完成下降动作时,可保证升降部130的限位部131卡在卡环110上,避免了升降部130从卡环110中脱落的问题。限位部131的直径与第三通孔111的直径之间的差值并不受特别限定,作为一些具体示例,限位部131的直径与第三通孔111的直径之间的差值为0.1mm-0.3mm。
在本实用新型的实施例中,参考附图2和4,凹槽121-1沿高度方向的尺寸小于端部121沿高度方向的尺寸,由此,可在凹槽121-1的下方形成一个台阶,卡环110刚好设置在该台阶上。
根据本实用新型的又一些具体实施例,卡环110和升降部130的材料各自独立地为陶瓷材料,由此,陶瓷材料制成的卡环110和升降部130均具有耐腐蚀和高温不易变形的优点,适合用于反应气盒200内高温且存在腐蚀气体的环境中,由于高温不易变形,进一步使得该升降装置100的伺服控制精度高。
优选地,参考附图1-6,本体部122、端部121、凹槽121-1、卡环110和升降部130各自独立地为圆柱形;和/或,第一通孔122-2、第二通孔121-2和第三通孔111各自独立地为圆柱形,由此,进一步有利于各部件之间的相互配合。
进一步地,卡环110的内径大于升降部130的直径,且卡环110的内径与升降部130直径之间的差值为0.08-0.12mm,由此,通过将卡环110的内径与升降部130直径之间的差值限定在上述范围内,进一步有利于升降部130能够顺利通过卡环110,完成升降过程,既避免了升降部130在卡环110中的波动过大,又避免了升降部130与卡环110之间的磨损严重。
进一步地,凹槽121-1的内径大于卡环110的外径,且凹槽121-1的内径与卡环110的外径之间的差值为0.08-0.12mm,由此,通过将凹槽121-1的内径与卡环110的外径之间的差值限定在上述范围内,既能使卡环110可随升降部130在合理范围内左右波动,起到减震的作用,降低升降部130对卡环110和固定部120的磨损,又能避免卡环110随升降部130的波动过大的问题。
进一步地,参考附图1-4,本体部122的直径大于端部121的直径;和/或,第一通孔122-2的直径大于第二通孔121-2的直径,且第一通孔122-2的直径大于第三通孔111的直径。
在本实用新型的第二个方面,提出了一种用于镀膜腔体的升降系统。根据本实用新型的实施例,参考附图7,升降系统具有以上实施例的用于镀膜腔体的升降装置100。由此,通过伺服传动装置可控制升降装置100在反应气盒200内的升降,从而能够实现载板在反应气盒200内上下位置的切换。同时,该升降系统具有结构简单、使用方便、成本低廉、维护保养简单等优点,且升降装置100在升降过程中的波动较小,升降装置100在升降过程中对卡环110和固定部120的磨损较小。
根据本实用新型的一些具体实施例,参考附图7,该升降系统还包括固定孔210,固定孔210设置在反应气盒200的底壁上,固定孔210贯穿反应气盒200的底壁,且固定孔210的外边缘设有第二螺纹(在图中未示出),第二螺纹与第一螺纹122-1相匹配,以使固定部120能够固定在反应气盒200的底壁上;支撑架300,升降装置100设置在支撑架300上;升降杆(在图中未示出),升降杆与支撑架300相固定;伺服传动装置(在图中未示出),伺服传动装置用于控制升降杆的升降。具体地,升降装置100通过基座140固定在支撑架300上;升降杆垂直固定在支撑架300的下方,通过控制升降杆的升降从而带动支撑架300进行升降,从而带动升降部130进行升降。优选地,该升降杆采用可上下升降的丝杆。
采用该升降系统实现载板在反应气盒200内上下位置的切换的具体过程为:将升降装置100上的第一螺纹122-1和反应气盒200底壁上的固定孔210外边缘上的第二螺纹进行装卸配合,从而将升降装置100的固定部120固定在反应气盒200的底壁上,然后通过伺服传动装置控制升降杆的升降,带动支撑架300进行升降,从而带动升降部130进行升降,通过升降部130在反应气盒200内的升降实现了载板在反应气盒200内的上下位置的切换。
在本实用新型的实施例中,上述升降系统可包括多个支撑架300,多个支撑架300间隔均匀布置,每个支撑架300上对应设置多个升降装置100,由此,进一步方便将反应气盒200内各部分的载板同时上升或者下降,进一步方便控制载板在反应气盒200内的上下位置的切换。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本实用新型的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本实用新型的限制,本领域的普通技术人员在本实用新型的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (10)
1.一种用于镀膜腔体的升降装置,其特征在于,包括:
固定部,所述固定部包括本体部和端部,所述端部设置在所述本体部沿高度方向的一端,所述本体部具有沿所述本体部的高度方向贯穿所述本体部的第一通孔,所述端部具有沿所述端部的高度方向贯穿所述端部的第二通孔,所述本体部的外侧面设有第一螺纹,所述端部远离所述本体部的一端设有凹槽,所述凹槽朝远离所述本体部的方向开口,且所述第二通孔沿所述凹槽的高度方向贯穿所述凹槽;
卡环,所述卡环设置在所述凹槽内,所述卡环具有第三通孔,所述第三通孔沿所述卡环的高度方向贯穿所述卡环;
升降部,所述升降部依次穿过所述第一通孔、所述第二通孔和所述第三通孔设置,且所述升降部能够在所述第一通孔、所述第二通孔和所述第三通孔中移动。
2.根据权利要求1所述的用于镀膜腔体的升降装置,其特征在于,还包括:基座,所述升降部设置在所述基座上,且所述升降部远离所述卡环的一端与所述基座相连。
3.根据权利要求2所述的用于镀膜腔体的升降装置,其特征在于,所述升降部远离所述基座的一端设有限位部,所述限位部的直径大于所述第三通孔的直径。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的用于镀膜腔体的升降装置,其特征在于,所述本体部、所述端部、所述凹槽、所述卡环和所述升降部各自独立地为圆柱形;
和/或,所述第一通孔、所述第二通孔和所述第三通孔各自独立地为圆柱形。
5.根据权利要求4所述的用于镀膜腔体的升降装置,其特征在于,所述卡环的内径大于所述升降部的直径,且所述卡环的内径与所述升降部直径之间的差值为0.08-0.12mm;
和/或,所述凹槽的内径大于所述卡环的外径,且所述凹槽的内径与所述卡环的外径之间的差值为0.08-0.12mm。
6.根据权利要求4所述的用于镀膜腔体的升降装置,其特征在于,所述本体部的直径大于所述端部的直径;
和/或,所述第一通孔的直径大于所述第二通孔的直径,且所述第一通孔的直径大于所述第三通孔的直径。
7.根据权利要求1-3中任一项所述的用于镀膜腔体的升降装置,其特征在于,所述凹槽沿高度方向的尺寸小于所述端部沿高度方向的尺寸。
8.根据权利要求1-3中任一项所述的用于镀膜腔体的升降装置,其特征在于,所述卡环和所述升降部的材料各自独立地为陶瓷材料。
9.一种用于镀膜腔体的升降系统,其特征在于,具有权利要求1-8中任一项所述的用于镀膜腔体的升降装置。
10.根据权利要求9所述的用于镀膜腔体的升降系统,其特征在于,还包括:
固定孔,所述固定孔设置在反应气盒的底壁上,所述固定孔贯穿所述反应气盒的底壁,且所述固定孔的外边缘设有第二螺纹,所述第二螺纹与所述第一螺纹相匹配,以使所述固定部能够固定在所述反应气盒的底壁上;
支撑架,所述升降装置设置在所述支撑架上;
升降杆,所述升降杆与所述支撑架相固定;
伺服传动装置,所述伺服传动装置用于控制所述升降杆的升降。
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Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN220012802U (zh) |
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