CN219962638U - 一种煎烤机 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及烹饪器具领域，具体涉及一种煎烤机。它包括下盖、活动设置在下盖上的上盖，上盖相对下盖可转动以使上盖具有打开位置、闭合位置，上盖上设有上烤盘，下盖上设有下烤盘，上盖处于闭合位置时上烤盘与下烤盘之间形成烹饪腔，上烤盘的内表面中间部位的高度大于边缘部位的高度，以使上烤盘的内表面形成上凸的曲面，上盖处于闭合位置时上烤盘与下烤盘之间的间距大于下烤盘的深度。本实用新型对上烤盘的结构进行改进设计，将上烤盘的内表面做上凸处理，增加烹饪腔的空间，提高烤盘的实际深度，在闭合状态下适配更大、厚度的食材，而且不会整机结构简单，不会导致尺寸更大。此外，上凸结构使得烹饪腔内的水蒸气不易流失，更能锁住水分。

Description

一种煎烤机

技术领域

本实用新型涉及烹饪器具领域，具体涉及一种煎烤机。

背景技术

类似电烤盘、煎烤机等煎烤设备，其基本结构通常包括底座、上盖，上盖相对底座可转动以使上盖具有打开位置、闭合位置，上盖上设有上烤盘，底座上设有下烤盘，上盖处于闭合位置时上烤盘与下烤盘之间形成烹饪腔，食材放入烹饪腔中并由上烤盘和下烤盘夹住进行双面煎烤。

由于上烤盘的内表面常表现为下凸结构，比如中国专利授权公告号CN209031974U、名称为“煎烤机及其烤盘组件”；中国专利授权公告号CN216020576U、名称为“一种煎烤机”；中国专利授权公告号CN209032006U、名称为“煎烤机及烹饪组件”；中国专利授权公告号CN214284607U、名称为“上盖组件和煎烤机”等专利中均公开了类似机构的上烤盘，但是此类煎烤机闭合后实际的烤盘深度小于下烤盘深度，从而无法煎烤较大、较厚的食材。通常以加深下烤盘深度为主，以解决闭合后烤盘深度过浅的问题，但也增加了整机的尺寸，增加了烤盘、外壳的用料成本。

鉴于烹饪腔的空间有限，无法煎烤较大、较厚的食材，一些专利中也从其他方面对烹饪腔的空间做了改进，如中国专利授权公告号CN215383298U、名称为“一种烹饪空间可调的煎烤机”的专利中，它公开了一种煎烤机，利用升降机构和弹性件配合来调整烹饪腔的空间，又如中国专利申请公开号CN114680662U、名称为“煎烤机”的专利中，它公开了一种煎烤机，在上盖上设置了多层视窗与透光隔热腔，而且上盖上没有设置上烤盘。

但以上改进使得煎烤机的整机结构更复杂，尺寸更大，难以有效地解决烹饪腔的空间有限的不足。

实用新型内容

针对现有煎烤机为了提高烤盘深度导致整机结构更复杂，尺寸更大的不足，本实用新型的目的在于提供一种煎烤机，对上烤盘的结构进行改进设计，将上烤盘的内表面做上凸处理，增加烹饪腔的空间，提高烤盘的实际深度，在闭合状态下适配更大、厚度的食材，而且不会整机结构简单，不会导致尺寸更大。此外，上凸结构使得烹饪腔内的水蒸气不易流失，更能锁住水分。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：一种煎烤机，包括下盖、活动设置在下盖上的上盖，上盖相对下盖可转动以使上盖具有打开位置、闭合位置，上盖上设有上烤盘，下盖上设有下烤盘，上盖处于闭合位置时上烤盘与下烤盘之间形成烹饪腔，所述上烤盘的内表面中间部位的高度大于边缘部位的高度，以使上烤盘的内表面形成上凸的曲面，上盖处于闭合位置时上烤盘与下烤盘之间的间距大于下烤盘的深度。

本技术方案中，将上烤盘的内表面做上凸处理，这样在上烤盘的内侧形成凹腔，上盖闭合后，凹腔作为烹饪腔的一部分增加了烹饪腔的空间，增加了上烤盘与下烤盘之间的间距，使其大于下烤盘的深度，上盖闭合后烤盘的实际深度增加而不是减小，从而能煎烤厚度更大、体积更大的食材，此外上凸结构使得上烤盘的边缘部位起到挡水筋的作用，烹饪腔内的水蒸气上升后不能直接向外流失，而是需要进行向下折返，路径变长，从而起到一定的锁水作用，保证食材的口感。

本实用新型还进一步设置为：所述上烤盘的内表面在中间部位为平面，上烤盘的内表面在边缘部位向下延伸。通过本设置，上烤盘中间部位为横向延伸的平面，边缘部位为竖向延伸的环形面，这样平面作为上烤盘的煎烤区域，相当于抬高了上烤盘煎烤区域的高度，从而加深整个烤盘的深度。

本实用新型还进一步设置为：所述上烤盘的内表面为从中间部位到边缘部位高度逐渐减小的光滑曲面。通过本设置，上烤盘的内表面设计为平滑的曲面，而非平面，而且中间高，边缘低，在增加烤盘实际深度的同时，这使得煎烤过程中上烤盘上的冷凝水在重力的作用下能顺着弧面向上烤盘的边缘排走，防止直接向下滴落在食材上，进而影响口感。

本实用新型还进一步设置为：所述下烤盘的深度大于上烤盘的深度。通过本设置，下烤盘是烹饪腔的主体部分，上烤盘的凹腔起到辅助增加烹饪腔空间的作用，因此上烤盘的深度不宜过深，过深的上烤盘会削减上盖的强度，而且不方便对食材进行翻面等操作。

本实用新型还进一步设置为：所述下烤盘的深度为15mm至50mm，上烤盘的深度为1mm到30mm。通过本设置，下烤盘深度优选20mm至35mm，上烤盘深度优选5mm至10mm，在此范围内，可保证下烤盘的深度大于上烤盘的深度，而且适用于市面上大多数食材的煎烤，也便于食材进行翻面等操作。

本实用新型还进一步设置为：所述上烤盘边缘部位的下端面不高于下烤盘的上端面。通过本设置，水蒸气沿着上烤盘内表面流动时，首先经过边缘部位的向下折返，又向上折返从下烤盘的上端逸散出去，进一步增加流动路径，提高锁水效果和食材口感。

本实用新型还进一步设置为：所述下烤盘的侧壁由下至上竖向延伸或所述下烤盘的侧壁由下至上逐渐向外倾斜。通过本设置，下烤盘的侧壁为直壁或者斜壁，实际设计时，以斜壁为最佳，这样可以避免上盖开合时，上烤盘与下烤盘产生干涉的几率，同时斜壁对水蒸气具有导向作用，方便水蒸气的排出。

本实用新型还进一步设置为：所述上盖的一端设有转轴，下盖上设有轴孔，转轴转动设置在轴孔中。通过本设置，转轴和轴孔配合实现上盖的转动动作，从而实现上盖的转动打开或转动闭合。

本实用新型还进一步设置为：所述上盖的一端设有转轴，下盖上设有竖向延伸的条形孔，转轴转动设置在条形孔中且转轴可在条形孔中上下移动。通过本设置，煎烤机需要适配不同厚度的食材，因此需要通过上烤盘的悬浮结构来达到此效果，具体为上烤盘的转轴在条形孔中留有向上抬升的余量，使上烤盘能在垂直方向上小范围移动，烤盘的深度随之变化，而适配不同厚度的食材。

本实用新型的优点是：1)上烤盘的内表面做上凸处理，以在上烤盘的内侧形成凹腔，上盖闭合后，凹腔作为烹饪腔的一部分增加了烹饪腔的空间，增加了上烤盘与下烤盘之间的间距，使其大于下烤盘的深度，从而能煎烤厚度更大、体积更大的食材。2)上凸结构使得上烤盘的边缘部位起到挡水筋的作用，烹饪腔内的水蒸气上升后不能直接向外流失，而是需要进行向下折返，路径变长，从而起到一定的锁水作用，保证食材的口感。

附图说明

图1为本实用新型一个实施例中煎烤机的结构示意图；

图2为本实用新型一个实施例中煎烤机的剖视图；

图3为本实用新型一个实施例中煎烤机的剖视图；

图4为本实用新型一个实施例中煎烤机的剖视图；

图5为本实用新型一个实施例中煎烤机的剖视图；

图6为图5中A处的放大图。

附图标记：下盖100、下烤盘101、斜壁102、条形孔103、上盖200、上烤盘201、平面202、环形面203、曲面204、凸筋205、转轴206、烹饪腔300、凹腔301。

具体实施方式

在本实施例的描述中，需要说明的是，如出现术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”、“前”、“后”等，其所指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此，不能理解为对本实用新型的限制。此外，如出现术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

下面结合说明书附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明。

参照图1至图5，在本实用新型的一个实施例中的煎烤机，包括下盖100、活动设置在下盖100上的上盖200，上盖200相对下盖100可转动以使上盖200具有打开位置、闭合位置，上盖200上设有上烤盘201，下盖100上设有下烤盘101，上盖200上设有上加热管对上烤盘201进行加热，下盖100上设有下加热管对下烤盘101进行加热，上盖200处于闭合位置时上烤盘201与下烤盘101之间形成烹饪腔300，上盖200、上烤盘201、上加热管组成上烤盘组件，下盖100、下烤盘101、下加热管组成下烤盘组件。

本实施例中，上烤盘201的内表面中间部位的高度大于边缘部位的高度，以使上烤盘201的内表面形成上凸的曲面，上盖200处于闭合位置时上烤盘201与下烤盘101之间的间距大于下烤盘101的深度。上烤盘201的内表面做上凸处理，这样在上烤盘201的内侧形成凹腔301，上盖200闭合后，凹腔301作为烹饪腔300的一部分增加了烹饪腔300的空间，增加了上烤盘201与下烤盘101之间的间距，使其大于下烤盘101的深度，上盖200闭合后烤盘的实际深度增加而不是减小，从而能煎烤厚度更大、体积更大的食材，此外上凸结构使得上烤盘201的边缘部位起到挡水筋的作用，烹饪腔300内的水蒸气上升后不能直接向外流失，而是需要进行向下折返，路径变长，如图2中虚线所示为水蒸气的流动路径，从而起到一定的锁水作用，保证食材的口感。

参照图1，在本实用新型的一个实施例中，在上烤盘201中间部位为横向延伸的平面202，边缘部位为竖向延伸的环形面203，这样平面202作为上烤盘201的煎烤区域，相当于抬高了上烤盘201煎烤区域的高度，从而加深整个烤盘的深度。

参照图4，在本实用新型的一个实施例中，上烤盘201内表面的高度从中间部位到边缘部位逐渐减小以使上烤盘201的内表面形成光滑的曲面204。上烤盘201的内表面设计为平滑的曲面204，整体呈弧形，中间高，边缘低，在增加烤盘实际深度的同时，这使得煎烤过程中上烤盘201上的冷凝水在重力的作用下能顺着弧面向上烤盘201的边缘排走，如图4中虚线所示为冷凝水的流动路径，防止在中间聚集而直接向下滴落在食材上，进而影响口感。

参照图2、图4，下烤盘101的深度为H1，上烤盘201的深度为H2，下烤盘101的深度大于上烤盘201的深度，即H1>H2。下烤盘101的深度满足15mm＜H1＜50mm，优选20mm＜H1＜35mm，上烤盘201的深度满足1mm＜H2＜30mm，优选5mm＜H2＜10mm。下烤盘101是烹饪腔300的主体部分，上烤盘201的凹腔301起到辅助增加烹饪腔300空间的作用，因此上烤盘201的深度不宜过深，过深的上烤盘201会削减上盖200的强度，而且不方便对食材进行翻面等操作。H1、H2的优选尺寸范围可保证下烤盘101的深度大于上烤盘201的深度，而且适用于市面上大多数食材的煎烤，也便于食材进行翻面等操作。

为了进一步增加烹饪腔300的锁水效果，上烤盘201边缘部位的下端面不高于下烤盘101的上端面。水蒸气沿着上烤盘201内表面流动时，首先经过边缘部位的向下折返，又向上折返从下烤盘101的上端逸散出去，进一步增加流动路径，提高锁水效果和食材口感。

下烤盘101的侧壁可以是竖向延伸的直壁，下烤盘101的侧壁也可以是由下至上逐渐向远离下烤盘101中心方向倾斜的斜壁102，实际应用时，以斜壁102为最佳，这样可以避免上盖200转动开合时，上烤盘201与下烤盘101产生干涉，同时斜壁102对水蒸气具有导向作用，方便水蒸气的排出。

为实现上盖200的转动开合动作，上盖200的一端设有转轴206，下盖100上设有轴孔，转轴206转动设置在轴孔中，通过转轴206和轴孔配合实现上盖200的转动开合动作，从而实现上盖200的转动打开或转动闭合。

在其他的实施例中，煎烤机需要适配不同厚度的食材，因此需要通过上烤盘201的悬浮结构来达到此效果，上盖200的一端设有转轴206，下盖100上设有竖向延伸的条形孔103，转轴206转动设置在条形孔103中且转轴206可在条形孔103中上下移动，上烤盘201的转轴206在条形孔103中留有向上抬升的余量，使上烤盘201能在垂直方向上小范围移动，烤盘的深度随之变化，而适配不同厚度的食材。

参照图5、图6，在本实用新型的一个实施例中的煎烤机，包括下盖100、活动设置在下盖100上的上盖200，上盖200相对下盖100可转动以使上盖200具有打开位置、闭合位置，上盖200处于闭合位置时上盖200相对下盖100可抬升，上盖200上设有上烤盘201，下盖100上设有下烤盘101，上盖200处于闭合位置时上烤盘201与下烤盘101之间形成烹饪腔300，上烤盘201的边缘设有向内侧延伸的凸筋205，上盖200处于闭合位置时，凸筋205向下伸入烹饪腔300中以贴近下烤盘101，凸筋205的高度D1大于上烤盘201的抬升行程D2。

本实施例中，在上烤盘201的内侧设置凸筋205，这样上盖200闭合后，上烤盘201向上抬升的过程中，由于凸筋205的高度大于上烤盘201的抬升行程，即使上烤盘201向上抬升至最大行程，凸筋205和下烤盘101依然能够维持较为贴近的状态，使得上烤盘201与下烤盘101始终保持相对密闭的状态，不会出现较大的缝隙，防止烤盘内部热量、水分流失过多，保障食材的烹饪效果。此外凸筋205还能起到辅助煎烤的作用，必要时可以对食材的侧面进行煎熬，而不只是上下面的煎烤，保证食材的受热均匀。

参照图5，为实现上盖200的可抬升，以一种可抬升结构为例，上盖200的一端设有转轴206，下盖100上设有竖向延伸的条形孔103，转轴206转动设置在条形孔103中且转轴206可在条形孔103中上下移动。转轴206在条形孔103中具有上极限位置、下极限位置，凸筋205的高度大于上极限位置与下极限位置之间的间距。上烤盘201的转轴206在条形孔103中留有向上抬升的余量，使上烤盘201能在垂直方向上小范围移动，烤盘的深度随之变化，而适配不同厚度的食材。转轴206抵至条形孔103的下端时是下极限位置，转轴206抵至条形孔103的上端时是上极限位置，上极限位置与下极限位置之间的间距即为上烤盘201的抬升行程，设计时凸筋205的高度只需大于该间距即可。

凸筋205和上烤盘201为一体成型结构，一体成型结构可以保证凸筋205的强度，同时上烤盘201加热时热量同样传导至凸筋205，使得凸筋205具有辅助加热效果。凸筋205呈环形分布在上烤盘201煎烤区域的周围，不会因为凸筋205的存在影响上烤盘201对食材的煎烤，而且凸筋205也能起到挡水筋的作用，烹饪腔300内的水蒸气上升后不能直接向外流失，而是需要进行向下折返，路径变长，从而起到一定的锁水作用，保证食材的口感。

上盖200处于闭合位置时，在上烤盘201的最低位置，上烤盘201与下烤盘101保持贴合接触的密封状态，此时上烤盘201与下烤盘101之间的接触面与凸筋205的根部，也是凸筋205的上端平齐，凸筋205位于该接触面以下的深度就是凸筋205的高度，当食材较厚顶起上烤盘201时，上烤盘201和下烤盘101分离，但是凸筋205的伸出端，也是凸筋205的下端依然和下烤盘101保持着较为贴近的状态，从而使得整个烤盘能够保持相对密闭的状态。

上盖200处于闭合位置时，凸筋205的下端与下烤盘101之间具有间隙。上盖200闭合后在最低位置到最高位置的任一位置均是上盖200的闭合位置，此时凸筋205虽然贴近下烤盘101，但依然和下烤盘101保持着一定的间隙，其一是防止凸筋205在抬升的过程中与下烤盘101发生干涉，其二是便于烹饪腔300内的水蒸气排出，防止烹饪腔300内压力过大。

上盖200处于闭合位置时，凸筋205的下延长线经过下烤盘101的侧壁。凸筋205在水平面的投影位于下烤盘101的底壁之外，与下烤盘101的侧壁相交，不会影响食材的煎烤，而且上烤盘201在抬升的过程中，有时不仅仅是上下方向的位移，还可能带有一定角度的旋转，因此凸筋205与下烤盘101的密闭位置是下烤盘101的侧壁，这样上烤盘201抬升时，凸筋205能够与下烤盘101的侧壁保持贴近状态。

参照图5、图6，本实施例中，下烤盘101的侧壁由下至上逐渐向外倾斜形成斜壁102，这样可以避免上盖200开合或者上烤盘201抬升时，上烤盘201与下烤盘101产生干涉，同时斜壁102对水蒸气具有导向作用，方便水蒸气的排出。其他实施例中，下烤盘101的侧壁也可以是竖向延伸的直壁。

上述实施例对本实用新型的具体描述，只用于对本实用新型进行进一步说明，不能理解为对本实用新型保护范围的限定，本领域的技术工程师根据上述实用新型的内容对本实用新型作出一些非本质的改进和调整均落入本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种煎烤机，包括下盖、活动设置在下盖上的上盖，上盖相对下盖可转动以使上盖具有打开位置、闭合位置，上盖上设有上烤盘，下盖上设有下烤盘，上盖处于闭合位置时上烤盘与下烤盘之间形成烹饪腔，其特征在于：所述上烤盘的内表面中间部位的高度大于边缘部位的高度，以使上烤盘的内表面形成上凸的曲面，上盖处于闭合位置时上烤盘与下烤盘之间的间距大于下烤盘的深度。

2.根据权利要求1所述的一种煎烤机，其特征在于：所述上烤盘的内表面在中间部位为平面，上烤盘的内表面在边缘部位向下延伸。

3.根据权利要求1所述的一种煎烤机，其特征在于：所述上烤盘的内表面为从中间部位到边缘部位高度逐渐减小的光滑曲面。

4.根据权利要求1或2或3所述的一种煎烤机，其特征在于：所述下烤盘的深度大于上烤盘的深度。

5.根据权利要求4所述的一种煎烤机，其特征在于：所述下烤盘的深度为15mm至50mm，上烤盘的深度为1mm到30mm。

6.根据权利要求2或3所述的一种煎烤机，其特征在于：所述上烤盘的边缘部位的下端面不高于下烤盘的上端面。

7.根据权利要求1或2或3所述的一种煎烤机，其特征在于：所述下烤盘的侧壁由下至上竖向延伸。

8.根据权利要求1或2或3所述的一种煎烤机，其特征在于：所述下烤盘的侧壁由下至上逐渐向外倾斜。

9.根据权利要求1或2或3所述的一种煎烤机，其特征在于：所述上盖的一端设有转轴，下盖上设有轴孔，转轴转动设置在轴孔中。

10.根据权利要求1或2或3所述的一种煎烤机，其特征在于：所述上盖的一端设有转轴，下盖上设有竖向延伸的条形孔，转轴转动设置在条形孔中且转轴可在条形孔中上下移动。