CN219925663U - 抛光设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种抛光设备，抛光设备包括：基板；抛光盘；液体供给装置，液体供给装置选择性地向抛光盘上表面供给液体；回收环，回收环可活动地环绕设置于抛光盘外周，回收环内设置有回收槽，回收槽与抛光盘的上表面相连通，液体供给装置与回收槽相连通。由此，通过将回收环可活动地设置于抛光盘外周，在抛光盘进行抛光，回收环可以将抛光盘上的抛光液回收至回收槽，且通过回收槽重新进入液体供给装置中，在液体供给装置对抛光盘进行清洗时，回收环可以活动至避让抛光盘上方，可以避免回收环回收清洁液，防止清洁液与抛光液混合，回收的抛光液的抛光去除效率降低，这样可以提升回收的抛光液的有效性。

Description

抛光设备

技术领域

本实用新型涉及抛光技术领域，尤其是涉及一种抛光设备。

背景技术

SiC（碳化硅）是优秀的第三代半导体材料，主要应用在大功率应用上，具有高硬度，难腐蚀，易碎的特点。CMP（化学机械抛光）是SiC衬底加工最后的工序，用于获得无缺陷的表面。

目前SiC应用的核心的问题是成本很高，高成本阻碍了SiC的普及应用，迫切需要降低其生产成本。CMP是SiC加工工序中成本最高的工序，其大约占加工总成本的50%。而在CMP的成本中，抛光液的成本占据约70%。回收利用抛光液是一个降低CMP成本的有效办法。

在现有技术中，CMP抛光设备采用在排水口收集抛光液的进行回收，但是抛光过程中的清洗液、去离子水、研磨下来的碎屑以及碎片，都会混入排泄下来的抛光液中，使得利用回收的抛光液进行抛光时存在抛光速率降低，容易产生划痕等问题，CMP抛光设备回收的抛光液的有效性较差。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型的一个目的在于提出一种抛光设备，该抛光设备回收的抛光液的有效性较好。

为了实现上述目的，根据本实用新型的实施例提出了一种抛光设备，包括：基板；抛光盘，所述抛光盘设置于所述基板上；液体供给装置，所述液体供给装置设置于所述基板，所述液体供给装置选择性地向所述抛光盘上表面供给液体；回收环，所述回收环可活动地环绕设置于所述抛光盘外周，所述回收环内设置有回收槽，所述回收槽与所述抛光盘的上表面相连通，所述液体供给装置与所述回收槽相连通。

由此，通过将回收环可活动地设置于抛光盘外周，在抛光盘进行抛光，回收环可以将抛光盘上的抛光液回收至回收槽，且通过回收槽重新进入液体供给装置中，在液体供给装置对抛光盘进行清洗时，回收环可以活动至避让抛光盘上方，可以避免回收环回收清洁液，防止清洁液与抛光液混合，回收的抛光液的抛光去除效率降低，这样可以提升回收的抛光液的有效性。

根据本实用新型的一些实施例，所述抛光设备还包括回收驱动件，所述回收驱动件设置于所述基板且与所述回收环传动连接，所述回收环具有回收位置和避让位置，当所述回收环处于所述回收位置时，所述回收环环绕设置于所述抛光盘外周，所述回收环上表面不凸出于所述抛光盘上表面，当所述回收环处于避让位置时，所述回收环的下表面高于所述抛光盘的上表面，所述驱动件选择性地驱动所述回收环在所述回收位置和所述避让位置之间升降移动。

根据本实用新型的一些实施例，所述回收驱动件为气缸，所述气缸位于所述回收环的径向一侧下方，所述回收环的径向一侧设置有固定块，所述固定块与所述气缸传动连接，

根据本实用新型的一些实施例，所述回收槽位于所述回收环的内周壁和所述回收环的外周壁之间，所述回收环的内周壁可活动地与所述抛光盘外周壁相贴合，当所述回收环处于所述回收位置时，所述回收环的内周壁在上下方向上不凸出于所述抛光盘的上表面。

根据本实用新型的一些实施例，当所述回收环处于所述回收位置时，所述回收环的内周壁在上下方向上与所述抛光盘的上表面相互平齐。

根据本实用新型的一些实施例，当所述回收环处于所述回收位置时，所述回收环的外周壁在上下方向上凸出于所述抛光盘的上表面。

根据本实用新型的一些实施例，所述液体供给装置包括储液件和出液臂，所述储液件设置于所述基板且内部存储有抛光液和清洁液，所述出液臂的一端与所述储液件相连通，另一端位于所述抛光盘的上侧，以选择性地向所述抛光盘的上表面供给抛光液或清洁液。

根据本实用新型的一些实施例，所述抛光设备还包括输液管，所述输液管的一端与所述回收槽相连通，另一端与所述储液件相连通。

根据本实用新型的一些实施例，所述输液管为输液软管，所述储液件与所述回收环在上下方向上间隔设置，当所述回收环环绕设置于所述抛光盘外周时，所述回收环和所述储液件上下方向的距离小于所述输液软管的长度。

根据本实用新型的一些实施例，所述抛光盘设置于所述基板的上侧，所述储液件设置于所述基板的下侧，所述基板上开设有避让孔，所述输液软管穿设所述避让孔且连通在所述回收槽和所述储液件之间。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是根据本实用新型实施例的抛光设备在所述回收环处于回收状态下的示意图。

图2是根据本实用新型实施例的抛光设备在所述回收环处于避让状态下的示意图。

图3是根据本实用新型实施例的抛光设备在所述回收环处于回收状态下的剖视图。

图4是根据本实用新型实施例的抛光设备在所述回收环处于避让状态下的剖视图。

图5是根据本实用新型实施例的回收环的示意图。

图6是根据本实用新型实施例的回收环的剖视图。

附图标记：

100、抛光设备；

10、基板；11、避让孔；20、抛光盘；

30、液体供给装置；31、储液件；32、出液臂；

40、回收环；41、回收槽；42、回收驱动件；43、固定块；44、回收环的内周壁；45、回收环的外周壁；

50、输液管。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，参考附图描述的实施例是示例性的，下面详细描述本实用新型的实施例。

下面参考图1-图6描述根据本实用新型实施例的抛光设备100。

结合图1-图6所示，根据本实用新型实施例的抛光设备100可以主要包括：基板10、抛光盘20、液体供给装置30和回收环40，其中，抛光盘20设置于基板10上，液体供给装置30设置于基板10，液体供给装置30选择性地向抛光盘20上表面供给液体，回收环40可活动地环绕设置于抛光盘20外周，回收环40内设置有回收槽41，回收槽41与抛光盘20的上表面相连通，液体供给装置30与回收槽41相连通。

具体地，通过将抛光盘20设置于基板10上，抛光盘20可以通过转动对半导体芯片进行抛光处理，在抛光盘20对芯片进行抛光的同时，液体供给装置30可以向抛光盘20的上表面提供抛光液，从而保证抛光盘20对芯片抛光的稳定性，将回收环40可活动地设置于抛光盘20的外周，抛光盘20转动产生的离心力可以将上表面的抛光液甩至回收槽41中，并且通过回收槽41重新进入液体供给装置30中，这样可以提升抛光液的利用率，从而可以在保证抛光设备100的抛光稳定可靠的前提下，降低抛光设备100抛光的成本。

进一步地，在抛光盘20对芯片的抛光结束后，液体供给装置30停止向抛光盘20供给抛光液，抛光盘20的表面需要进行清洗，以便下次的继续抛光，液体供给装置30可以向抛光盘20的上表面提供清洁液，在抛光盘20的表面进行清洗时，由于回收环40为可活动地环绕设置于抛光盘20外周，可以控制回收环40活动至避让位置，使回收槽41能够避让抛光盘20上表面的清洁液。

这样可以防止在对抛光盘20清洗的过程中，抛光盘20中的清洁液进入回收槽41，并且通过回收槽41进入液体供给装置30中，污染液体供给装置30中的抛光液，降低抛光液的抛光去除效率，并且由于清洁液中可能会存在抛光盘20上研磨下来的碎屑以及碎片，如果进入液体供给装置30，则可能会造成抛光盘20的抛光产生划痕，降低抛光设备100的结构可靠性，这样可以在保证抛光液的回收效率的前提下，提升回收的抛光液的浓度和洁净度，保证抛光稳定性和可靠性。

由此，通过将回收环40可活动地设置于抛光盘20外周，在抛光盘20进行抛光，回收环40可以将抛光盘20上的抛光液回收至回收槽41，且通过回收槽41重新进入液体供给装置30中，在液体供给装置30对抛光盘进行清洗时，回收环40可以活动至避让抛光盘20上方，可以避免回收环40回收清洁液，防止清洁液与抛光液混合，回收的抛光液的抛光去除效率降低，这样可以提升回收的抛光液的有效性。

结合图1-图4所示，抛光设备100还可以主要包括回收驱动件42，回收驱动件42设置于基板10，并且回收驱动件42与回收环40传动连接，回收环40具有回收位置和避让位置，当回收环40处于回收位置时，回收环40环绕设置于抛光盘20外周，回收环40上表面不凸出于抛光盘20上表面，当回收环40处于避让位置时，回收环40的下表面高于抛光盘20的上表面，回收驱动件42选择性地驱动回收环40在回收位置和避让位置之间升降移动。

具体地，通过将回收驱动件42与回收环40传动连接，回收环40具有回收位置和避让位置，当抛光盘20进行抛光，并且液体供给装置30向抛光盘20提供液体时，回收驱动件42驱动回收环40处于回收位置，处于回收位置的回收环40环绕设置于抛光盘20外周，回收环40上表面不凸出于抛光盘20上表面，抛光盘20上的抛光液可以进入回收环40的回收槽41中，当抛光结束，需要对抛光盘20进行清洗，回收驱动件42可以驱动回收环40向上移动至避让位置，回收环40的下表面高于抛光盘20的上表面，从而可以防止抛光盘20上的清洁液在离心力的作用下被甩至回收槽41中，这样不仅可以进一步地提升回收环40对抛光液的回收可靠性，而且还可以简化回收环40的活动，从而可以简化抛光设备100的结构设计。

进一步地，回收驱动件42为气缸，气缸位于回收环40的径向一侧下方，回收环40的径向一侧设置有固定块43，固定块43与气缸传动连接。具体地，将回收驱动件42设置成气缸，将气缸设置于回收环40径向一侧的下方，通过在回收环40的径向一侧设置固定块43，并且使固定块43与气缸传动连接，气缸中的活塞可以进行上下移动，将固定块43与活塞相连，可以使气缸带动固定块43稳定地上下升降，这样不仅可以优化抛光设备100的结构布局，可以防止回收驱动件42和回收环40的传动配合影响其他部件的设置以及正常工作，而且还可以提升回收驱动件42对回收环40的驱动效率，从而可以提升抛光设备100的结构可靠性。

结合图3-图6所示，回收槽41位于回收环40的内周壁44和回收环40的外周壁45之间，回收环40的内周壁44可活动地与抛光盘20外周壁相贴合，当回收环40处于回收位置时，回收环40的内周壁44在上下方向上不凸出于抛光盘20的上表面。具体地，回收槽41设置于回收环40的内周壁44和回收环40的外周壁45之间，当回收环40处于回收位置时，回收环40的内周壁44与抛光盘20外周壁相贴合，并且使回收环40的内周壁44在上下方向上不凸出于抛光盘20的上表面，在抛光盘20上的抛光液在离心力的作用下向外飞溅时，回收环40的内周壁44将不会对抛光液产生径向的阻挡作用，可以使抛光液顺畅稳定地流入回收槽41中，可以提升回收环40的结构可靠性。

进一步地，由于回收环40的内周壁44与抛光盘20的外周边相贴合，可以避免抛光液从抛光盘20和回收环40之间落下，造成抛光液的浪费，降低回收环40回收抛光液的回收效率，从而可以进一步地提升抛光设备100的结构可靠性。

结合图3所示，当回收环40处于回收位置时，回收环40的内周壁44在上下方向上与抛光盘20的上表面相互平齐。具体地，通过将回收环40的内周壁44在上下方向上设置地与抛光盘20的上表面相互平齐，这样不仅可以保证回收环40不会对抛光液产生径向的阻挡作用，而且还可以使抛光液直接进入回收槽41，防止抛光液残留在回收环40的内周壁44的上端，这样可以进一步地提升回收环40的结构可靠性。

结合图3所示，当回收环40处于回收位置时，回收环40的外周壁45在上下方向上凸出于抛光盘20的上表面。具体地，将回收环40的外周壁45在上下方向上设置地凸出于抛光盘20的上表面，这样可以使回收环的外周壁45对抛光液产生径向的阻挡作用，不仅可以将在离心力作用下的抛光液阻挡并且导向回收槽41中，而且还可以防止回收槽41中的抛光液通过回收环的外周壁45一侧泄漏，这样可以进一步地提升回收槽41的结构可靠性，可以优化回收槽41的结构设计。

结合图1和图2所示，液体供给装置30可以主要包括储液件31和出液臂32，储液件31设置于基板10，并且储液件31内部存储有抛光液和清洁液，出液臂32的一端与储液件31相连通，另一端位于抛光盘20的上侧，以选择性地向抛光盘20的上表面供给抛光液或清洁液。

具体地，将储液件31设置于基板10，并且将抛光液和清洁液存储在储液件31内，将出液臂32的一端与储液件31相连通，并且出液臂32的另一端位于抛光盘20的上侧，在抛光盘20进行抛光时，储液件31中的抛光液可以通过出液臂32供给至抛光盘20的上表面，回收环40可以回收抛光液至回收槽41，并且将抛光液通过回收槽41重新传输至储液件31中，这样不仅可以保证回收抛光液的稳定性，而且还可以防止回收环40回收抛光液影响出液臂32的出液，这样可以进一步地提升抛光设备100的结构稳定性和可靠性。

进一步地，在抛光盘20抛光结束后，需要对抛光盘20的上表面进行清洁，此时出液臂32停止向抛光盘20供给抛光液，出液臂32开始向抛光盘20的上表面供给清洁液，通过清洁液对抛光盘20的上表面进行清洁，以保证抛光盘20下次抛光时上表面的洁净，可以提升抛光设备100抛光的可靠性。

结合图1和图2所示，抛光设备100还可以主要包括输液管50，输液管50的一端与回收槽41相连通，另一端与储液件31相连通。具体地，通过将输液管50连通在回收槽41和储液件31之间，回收槽41中的抛光液可以通过输液管50持续地向储液件31传输，这样不仅可以保证回收槽41和储液件31连通的稳定性和可靠性，而且还可以方便抛光设备100部件的布局和设置，从而可以进一步地优化抛光设备100的结构设计。

进一步地，输液管50为输液软管，储液件31与回收环40在上下方向上间隔设置，当回收环40环绕设置于抛光盘20外周时，回收环40和储液件31上下方向的距离小于输液软管的长度。具体地，将输液管50设置成输液软管，并且当回收环40环绕设置于抛光盘20外周时，输液软管弯折设置，使回收环40和储液件31上下方向的距离小于输液软管的长度，这样可以防止回收环40的上下移动影响输液管50将回收槽41和储液件31相连通的稳定性和可靠性。

结合图1和图2所示，抛光盘20设置于基板10的上侧，储液件31设置于基板10的下侧，基板10上开设有避让孔11，输液软管穿过避让孔11，并且输液软管连通在回收槽41和储液件31之间。具体地，将抛光盘20设置于基板10的上侧，并且将储液件31设置于基板10的下侧，这样可以使抛光设备100的结构布局更加合理，可以充分利用基板10上下侧的空间，提升空间利用率。

进一步地，直接通过在基板10上开设避让孔11，将输液软管穿设避让孔11，并且使输液软管连通在回收槽41和储液件31之间，这样可以方便输液管50的设置，可以防止输液管50绕过基板10连通在回收槽41和储液件31之间，导致输油管不必要的长度增大，这样可以进一步地提升抛光设备100的结构可靠性。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (10)

1.一种抛光设备，其特征在于，包括：

基板（10）；

抛光盘（20），所述抛光盘（20）设置于所述基板（10）上；

液体供给装置（30），所述液体供给装置（30）设置于所述基板（10），所述液体供给装置（30）选择性地向所述抛光盘（20）上表面供给液体；

回收环（40），所述回收环（40）可活动地环绕设置于所述抛光盘（20）外周，所述回收环（40）内设置有回收槽（41），所述回收槽（41）与所述抛光盘（20）的上表面相连通，所述液体供给装置（30）与所述回收槽（41）相连通。

2.根据权利要求1所述的抛光设备，其特征在于，还包括回收驱动件（42），所述回收驱动件（42）设置于所述基板（10）且与所述回收环（40）传动连接，所述回收环（40）具有回收位置和避让位置，当所述回收环（40）处于所述回收位置时，所述回收环（40）环绕设置于所述抛光盘（20）外周，所述回收环（40）上表面不凸出于所述抛光盘（20）上表面，当所述回收环（40）处于避让位置时，所述回收环（40）的下表面高于所述抛光盘（20）的上表面，所述回收驱动件（42）选择性地驱动所述回收环（40）在所述回收位置和所述避让位置之间升降移动。

3.根据权利要求2所述的抛光设备，其特征在于，所述回收驱动件（42）为气缸，所述气缸位于所述回收环（40）的径向一侧下方，所述回收环（40）的径向一侧设置有固定块（43），所述固定块（43）与所述气缸传动连接。

4.根据权利要求2所述的抛光设备，其特征在于，所述回收槽（41）位于所述回收环的内周壁（44）和所述回收环的外周壁（45）之间，所述回收环的内周壁（44）可活动地与所述抛光盘（20）外周壁相贴合，当所述回收环（40）处于所述回收位置时，所述回收环的内周壁（44）在上下方向上不凸出于所述抛光盘（20）的上表面。

5.根据权利要求4所述的抛光设备，其特征在于，当所述回收环（40）处于所述回收位置时，所述回收环的内周壁（44）在上下方向上与所述抛光盘（20）的上表面相互平齐。

6.根据权利要求4所述的抛光设备，其特征在于，当所述回收环（40）处于所述回收位置时，所述回收环的外周壁（45）在上下方向上凸出于所述抛光盘（20）的上表面。

7.根据权利要求1所述的抛光设备，其特征在于，所述液体供给装置（30）包括储液件（31）和出液臂（32），所述储液件（31）设置于所述基板（10）且内部存储有抛光液和清洁液，所述出液臂（32）的一端与所述储液件（31）相连通，另一端位于所述抛光盘（20）的上侧，以选择性地向所述抛光盘（20）的上表面供给抛光液或清洁液。

8.根据权利要求7所述的抛光设备，其特征在于，还包括输液管（50），所述输液管（50）的一端与所述回收槽（41）相连通，另一端与所述储液件（31）相连通。

9.根据权利要求8所述的抛光设备，其特征在于，所述输液管（50）为输液软管，所述储液件（31）与所述回收环（40）在上下方向上间隔设置，当所述回收环（40）环绕设置于所述抛光盘（20）外周时，所述回收环（40）和所述储液件（31）上下方向的距离小于所述输液软管的长度。

10.根据权利要求9所述的抛光设备，其特征在于，所述抛光盘（20）设置于所述基板（10）的上侧，所述储液件（31）设置于所述基板（10）的下侧，所述基板（10）上开设有避让孔（11），所述输液软管穿设所述避让孔（11）且连通在所述回收槽（41）和所述储液件（31）之间。