CN219811464U - 一种脱胶清洗架 - Google Patents
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Abstract
本申请实施例提供一种脱胶清洗架,涉及光伏电池制造设备领域。脱胶清洗架包括两块竖直且相对设置的端板,两块端板的底部之间连接有一对下挡杆,每根下挡杆均能相对端板上下运动;两块端板的顶部之间还连接有一对上挡杆,成对的上挡杆位于同一水平位置且距离可调,且成对的上挡杆之间的最小距离大于成对的下挡杆之间的最小距离;端板和挡杆围设形成用于固定硅片的脱胶清洗架。本申请实施例提供的脱胶清洗架能沿多个方向调节尺寸,能很好地满足不同尺寸的硅片需求。
Description
技术领域
本申请涉及光伏电池制造设备领域,具体而言,涉及一种脱胶清洗架。
背景技术
在硅片生产技术中,需要使用胶水将切割成片的晶棒粘结在晶托上形成硅片,然后再经过脱胶和清洗后才能使用。硅片在脱胶时,通常都是使用脱胶清洗架进行固定,然后再将硅片放置于清洗液中进行脱胶。
现有的脱胶清洗架一般只能对应特定尺寸的硅片,若要承载固定不同尺寸的硅片,需要更换脱胶清洗架,这会导致设备维护成本的增加。目前虽然也有能够调整尺寸的脱胶清洗架,但是其只能沿着一个方向进行调整,调整的规格有限,也不能很好地满足不同尺寸的硅片的需求。
实用新型内容
本申请实施例提供一种脱胶清洗架,能沿多个方向调节尺寸,能很好地满足不同尺寸的硅片需求。
本申请实施例提供的脱胶清洗架包括两块竖直且相对设置的端板,两块端板的底部之间连接有一对下挡杆,每根下挡杆均能相对端板上下运动;两块端板的顶部之间还连接有一对上挡杆,成对的上挡杆位于同一水平位置且距离可调,且成对的上挡杆之间的最小距离大于成对的下挡杆之间的最小距离;端板和挡杆围设形成用于固定硅片的脱胶清洗架。
在上述实现过程中,在脱胶清洗架的底部的成对的下挡杆起到承载硅片的作用,在脱胶清洗架的顶部的成对的上挡杆起到夹持硅片的作用,成对设置的下挡杆、上挡杆和端板一起,能使得脱胶清洗架起到固定硅片的作用;而且为了方便放置硅片,一般成对设置的下挡杆之间的距离要小于成对设置的上挡杆之间的距离。
在本申请实施例中,下挡杆能相对端板上下运动,上挡板能相对端板沿水平方向运动,这样脱胶清洗架在高度和宽度两个方向的尺寸都能进行调控,这样就很好地对不同尺寸的硅片进行固定。
在一种可能的实现方式中,成对设置的下挡杆和/或成对设置的上挡杆之间的距离为100~230mm。
在上述实现过程中,将上挡杆之间的距离和下挡杆之间的距离固定在上述的范围内,能满足现有的绝大部分的硅片。
在一种可能的实现方式中,每个端板上设置有两个与下挡杆对应的滑槽,每根下挡杆的两端通过对应的滑槽与端板连接,且每根下挡杆能沿着滑槽相对端板上下运动。
在上述实现过程中,下挡杆能沿着滑槽上下运动,这样方便调控下挡杆与上挡杆之间的距离,从而调控脱胶清洗架的尺寸,以适应不同尺寸的硅片。
在一种可能的实现方式中,成对设置的下挡杆之间设置有丝杆,丝杆与两个下挡杆连接且能控制两根下挡杆相对端板同时上下运动。
在一种可能的实现方式中,每根下挡杆的端部还设置有用于固定下挡杆的螺帽。
在一种可能的实现方式中,端板上还设置有与滑槽对应的第一刻度尺,第一刻度尺相对于滑槽平行设置,且第一刻度尺的两端与滑槽齐平。
在上述实现过程中,在端板上设置与滑槽对应的第一刻度尺有利于对下挡板进行定位,从而精确调整下挡板与上挡板之间的距离。
在一种可能的实现方式中,每个端板上设置有两个与上挡杆对应的移动条,每个移动条位于对应的上挡杆的下方,且每个移动条上设置有用于卡接对应的上挡杆的端部的卡接槽,每根上挡杆通过对应的卡接槽与端板连接;每个移动条能相对端板沿水平方向运动;且每个端板上,两个移动条之间的最小距离大于下挡杆之间的最小距离。
在上述实现过程中,移动条中的卡接槽能容纳上挡杆的端部,保证上挡杆与端板连接,而且移动条可以相对端板沿水平方向运动,因此上挡杆也能随着移动条的移动而移动,这样成对的上挡杆之间的距离就可以进行调控,以夹持不同尺寸的硅片。
在一种可能的实现方式中,每个移动条的下方沿水平方向设置有滑轨,移动条与滑轨啮合,且每个移动条上还设置有用于固定移动条的螺栓。
在上述实现过程中,移动条下方的滑轨能限制移动条的移动范围,保证成对的上挡杆之间的距离合适;移动条和滑轨啮合,而且移动条上还设置有螺栓,有利于固定移动条和上挡杆。
在一种可能的实现方式中,每个滑轨的下方设置有用于检测长度的第二刻度尺,第二刻度尺与滑轨平行,且第二刻度尺的两端与滑轨齐平。
在上述实现过程中,第二刻度尺有利于上挡杆之间精确定位。
在一种可能的实现方式中,每根上挡杆和/或下挡杆的外部还套设有用于保护硅片的保护套。
在上述实现过程中,挡杆外部的保护套能起到保护硅片的作用,保证脱胶清洗架在固定硅片时,不容易对硅片造成损害。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对本申请实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本申请实施例提供的一种脱胶清洗架的结构示意图;
图2为图1中的脱胶清洗架的俯视图;
图3为图1中的脱胶清洗架的侧视图。
图标:001-脱胶清洗架;100-端板;200-下挡杆;210-滑槽;220-第一刻度尺;230-丝杆;240-螺帽;300-上挡杆;310-移动条;311-卡接槽;312-螺栓;320-第二刻度尺;330-滑轨。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行描述。
为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
因此,以下对在附图中提供的本申请实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围,而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
在本申请的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”、等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
此外,术语“水平”、“竖直”、“悬垂”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂,而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平,并不是表示该结构一定要完全水平,而是可以稍微倾斜。
在本申请的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
第一实施例
请参看图1~图3,本实施例提供的一种脱胶清洗架001,其由端板100和端板100之间的若干根挡杆围设形成,端板100数量为两个,两个端板100竖直且面对面相对设置,每根挡杆的端部分别与两个端板100连接。端板100的最底部的挡杆成对设置,被称为下挡杆,下挡杆能相对端板100上下运动;端板100的最顶端的挡杆成对设置,被称为上挡杆,成对设置的上挡杆300之间的距离在水平方向上能够增大或减小。
在本申请实施例中,下挡杆能够起到承托硅片的作用,上挡杆300能够起到夹持硅片的作用,通过端板100、上底板、端板100的作用,整个脱胶清洗架001就能起到固定硅片的作用。由于下挡杆200能相对端板100上下运动时,因此下挡杆与上挡杆300之间的距离是可以增大或减小的,而且由于上挡杆300之间的距离也是能够进行增大或减小的调整,因此在本申请实施例中,相当于脱胶清洗架001在高度和宽度两个方向的尺寸都能进行调控,这样就很好地对不同尺寸的硅片进行固定。另外,在本申请实施例中,无论上挡杆300、下挡杆如何运动,成对设置的上挡杆300之间的距离都是要大于成对设置的下挡杆200之间的距离的,这样硅片才能顺利地插入到脱胶清洗架001内。在本实施例中,成对设置的下挡杆200之间的距离为100~230mm,成对设置的上挡杆300之间的距离为100~230mm。作为示例性的,本实施例中,成对设置的下挡杆之间的距离是100mm,成对设置的上挡杆300之间的距离是230mm。
需要说明的是,本实施例中,两对成对设置的挡杆(即四根挡杆)并不能理解为对于本申请的限定,在其它一些实施例中,也可以在上挡杆300和下挡杆200之间设置一些挡杆,以更好地夹持硅片。
本实施例中,为了实现下挡杆200能相对端板100上下运动的效果,在每个端板100上都设置有与两根下挡杆相对应的滑槽210,每根下挡杆的两端分别通过对应的滑槽210与端板100连接并能沿着滑槽210相对端板100上下运动。而且为了保证下挡杆能在滑槽210内移动和固定,在每根下挡杆的端部还设置有螺帽240。当要固定下挡杆时,拧紧螺帽240;当要移动下挡杆200时,拧松螺帽240然后移动下挡杆。而且在本实施例中,每个滑槽210的旁边都对应设置有第一刻度尺220,第一刻度尺220与对应的滑槽210间隔且平行设置,而且第一刻度尺220的两端与滑槽210齐平,这样就能直接观测到下挡杆调整的具体距离,以适应已知规格的硅片。
而且作为示例性的,本实施例中,成对的下挡杆之间设置有丝杆230,丝杆230与两根下挡杆连接,能同时控制两根下挡杆沿着滑槽210上下移动,通过丝杆230控制下挡杆移动,能更好地控制位移精度;更具体的,本实施例中的丝杆230数量为两个,两个丝杆230分别在两个端板100上,而且每个丝杆230都是与下挡杆200的端部连接的,这样在脱胶清洗架001的外部就可以对下挡杆200进行调控。
本实施例中,上挡杆300之间沿水平方向上的距离可调可以通过沿水平方向移动上挡杆300的方式实现,而且既可以是仅有一个上挡杆300能沿水平方向移动,也可以是两个上挡杆300都能沿水平方向移动。
作为示例性地,本实施例中的两个上挡杆300都是能沿着水平方向移动的。具体地,在本实施例中,每个端板100上都设置有两个与上挡杆300对应的移动条310,每个移动条310位于对应的上挡杆300的下方,且每个移动条310上设置有用于卡接对应的上挡杆300的端部的卡接槽311,每根上挡杆300的端部能卡设在卡接槽311中从而和端板100连接,而且每个移动条310都能相对端板100沿水平方向运动,这样就能带动对应的上挡杆300沿着水平方向运动,从而调整上挡杆300之间的距离,以夹持不同尺寸的硅片;同样地,在每个端板100上,两个移动条310之间的最小距离大于下挡杆200之间的距离。而且在本实施例中,每个移动条310的下方沿水平方向设置有滑轨330,而且滑轨330是和移动条310啮合的,且每个移动条310上还设置有螺栓312。滑轨330能起到限制移动条310的移动范围的效果,保证成对的上挡杆300之间的距离合适;而且移动条310和滑轨330啮合,移动条310上还设置有螺栓312,这样有利于固定移动条310和上挡杆300。另外,在本实施例中,每个滑轨330的下方都设置有用于检测长度的第二刻度尺320,第二刻度尺320与滑轨330平行,且第二刻度尺320的两端与滑轨330齐平,当对上挡杆300之间的距离进行调整时,第二刻度尺320有利于将上挡杆300之间的距离精确定位。
此外,在本实施例中,每根挡杆的外部还套设有用于保护硅片的保护套(图中未画出),保证脱胶清洗架001在固定硅片时,不容易对硅片造成损害。
本实施例中的脱胶清洗架001的具体工作过程如下:
当要对硅片进行清洗时,先使用移动条310对上挡杆300之间的距离进行调整,调整过程中可以通过第二刻度尺320对上挡杆300之间的距离进行监控,直到上挡杆300之间的距离允许硅片插入。
之后再使用丝杆230对下挡杆到上挡杆300的距离进行调整,调整过程很正宗可以通过第一刻度尺220对下挡杆到上挡杆300的距离进行监控,以使得下挡杆能够承托住硅片。
随后将硅片放入到脱胶清洗架001中,在放入之后,还能缩小上挡杆300之间的距离,以充分固定硅片。
本实施例中的脱胶清洗架001,能根据硅片的航渡和宽度在两个方向上调整规格,作业员可根据作业产品实际尺寸进行有效的调整,满足不同尺寸的硅片的需求。相比于现有的特定规格的硅片匹配特定规定的脱胶清洗架的方式,本实施例中的托架清洗架可以降低设备库存,节约成本。
以上仅为本申请的实施例而已,并不用于限制本申请的保护范围,对于本领域的技术人员来说,本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种脱胶清洗架,其特征在于,其包括两块竖直且相对设置的端板,两块所述端板的底部之间连接有一对下挡杆,每根所述下挡杆均能相对所述端板上下运动;两块所述端板的顶部之间还连接有一对上挡杆,成对的所述上挡杆位于同一水平位置且距离可调,且成对的所述上挡杆之间的最小距离大于成对的所述下挡杆之间的最小距离;所述端板和所述挡杆围设形成用于固定硅片的所述脱胶清洗架;
每个所述端板上设置有两个与所述下挡杆对应的滑槽,每根所述下挡杆的两端通过对应的所述滑槽与所述端板连接,且每根所述下挡杆能沿着所述滑槽相对所述端板上下运动;
成对设置的所述下挡杆之间设置有丝杆,所述丝杆与两个所述下挡杆连接且能控制两根所述下挡杆相对所述端板同时上下运动;所述丝杆数量为两个,两个所述丝杆分别在两个所述端板上,而且每个所述丝杆都是与所述下挡杆的端部连接。
2.根据权利要求1所述的脱胶清洗架,其特征在于,成对设置的所述下挡杆和/或成对设置的所述上挡杆之间的距离为100~230mm。
3.根据权利要求1所述的脱胶清洗架,其特征在于,每根所述下挡杆的端部还设置有用于固定所述下挡杆的螺帽。
4.根据权利要求1所述的脱胶清洗架,其特征在于,所述端板上还设置有与所述滑槽对应的第一刻度尺,所述第一刻度尺相对于所述滑槽平行设置,且所述第一刻度尺的两端与所述滑槽齐平。
5.根据权利要求1所述的脱胶清洗架,其特征在于,每个所述端板上设置有两个与所述上挡杆对应的移动条,每个所述移动条位于对应的所述上挡杆的下方,且每个所述移动条上设置有用于卡接对应的所述上挡杆的端部的卡接槽,每根所述上挡杆通过对应的所述卡接槽与所述端板连接,每个所述移动条能相对所述端板沿水平方向运动;且每个所述端板上,两个所述移动条之间的最小距离大于所述下挡杆之间的最小距离。
6.根据权利要求5所述的脱胶清洗架,其特征在于,每个所述移动条的下方沿水平方向设置有滑轨,所述移动条与所述滑轨啮合,且每个所述移动条上还设置有用于固定所述移动条的螺栓。
7.根据权利要求6所述的脱胶清洗架,其特征在于,每个所述滑轨的下方设置有用于检测长度的第二刻度尺,所述第二刻度尺与所述滑轨平行,且所述第二刻度尺的两端与所述滑轨齐平。
8.根据权利要求1所述的脱胶清洗架,其特征在于,每根所述上挡杆和/或所述下挡杆的外部还套设有用于保护硅片的保护套。
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