CN219641376U - 光学检验机用晶圆表面清洁结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种光学检验机用晶圆表面清洁结构，包括晶圆平台和检测装置。晶圆平台用于放置晶圆。检测装置其一端设有吹气组件，另一端设有吸气组件。晶圆平台能够沿检测装置的一端移至另一端，使吹气组件能够将晶圆上的灰尘吹起并经吸气组件将灰尘吸除，以实现晶圆表面的清洁。该光学检验机用晶圆表面清洁结构，在进行晶圆检验的同时，可对晶圆表面的灰尘等杂物进行及时的清洁处理，提升晶圆良品率。避免二次污染，也避免了因人员手持气枪吹拭造成的晶圆损伤的情况。

Description

光学检验机用晶圆表面清洁结构

技术领域

本实用新型是涉及晶圆检测领域，特别是关于一种光学检验机用晶圆表面清洁结构。

背景技术

在现有技术中，在对晶圆进行检测之前，需要手持式气枪将晶圆表面的杂物清除掉或者通过清洗机进行晶圆的清洗。使用手持式气枪进行清洁时，很容易对晶圆表面造成划痕，而使用清洁机进行晶圆清洗增加了一道工序，这样会使得晶圆的生产周期变长，间接的增加了晶圆的生产成本。

公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本实用新型的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种光学检验机用晶圆表面清洁结构，其能够有效缓解晶圆表面清洁不便的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种光学检验机用晶圆表面清洁结构，包括晶圆平台和检测装置。所述晶圆平台用于放置晶圆。所述检测装置其一端设有吹气组件，另一端设有吸气组件。其中，所述晶圆平台能够沿所述检测装置的一端移至另一端，使所述吹气组件能够将所述晶圆上的灰尘吹起并经所述吸气组件将灰尘吸除，以实现晶圆表面的清洁。

在一个或多个实施方式中，所述吹气组件包括吹气头及控制所述吹气头通断的电磁阀，所述吹气头与所述电磁阀连接，所述电磁阀连接有气泵。

在一个或多个实施方式中，所述吹气头的输出端设置为多个出气孔。

在一个或多个实施方式中，所述电磁阀与所述吹气头之间连接有流量控制阀。

在一个或多个实施方式中，所述吸气组件及所述吹气组件高于所述晶圆平台设置。

在一个或多个实施方式中，所述吸气组件包括吸气头，所述吸气头的吸气端为敞口结构，所述吸气头连接有负压泵。

在一个或多个实施方式中，所述晶圆平台连接于驱动装置上，所述驱动装置驱动所述晶圆平台在所述检测装置的一端至另一端之间往复运动。

与现有技术相比，根据本实用新型的光学检验机用晶圆表面清洁结构，具有以下优点：

在进行晶圆检验的同时，可对晶圆表面的灰尘等杂物进行及时的清洁处理，提升晶圆良品率。避免二次污染，也避免了因人员手持气枪吹拭造成的晶圆损伤的情况。

吸气组件与吹气组件同步运行进行杂物的移除和吸除，避免掉落在机器内，从而避免了机器内部环境的污染。

流量控制阀的设置，可以根据需求来调节不同的吹气量，可满足多种晶圆的检测清洁处理。

吹气组件和吹气组件安装于检测装置上，占用空间小，从而节约了设备成本以及设备占用的空间成本。

附图说明

图1是根据本实用新型一实施方式的光学检验机用晶圆表面清洁结构的主体结构示意图；

图2是根据本实用新型一实施方式的光学检验机用晶圆表面清洁结构的吹气组件的结构示意图；

图3是根据本实用新型一实施方式的光学检验机用晶圆表面清洁结构的吸气组件的结构示意图。

主要附图标记说明：

1、晶圆平台；2、检测装置；3、吹气头；31、出气孔；4、吸气头；41、敞口结构；5、电磁阀；6、流量控制阀。

具体实施方式

下面结合附图，对本实用新型的具体实施方式进行详细描述，但应当理解本实用新型的保护范围并不受具体实施方式的限制。

除非另有其它明确表示，否则在整个说明书和权利要求书中，术语“包括”或其变换如“包含”或“包括有”等等将被理解为包括所陈述的元件或组成部分，而并未排除其它元件或其它组成部分。

在现有技术中，在对晶圆进行检测之前，需要手持式气枪将晶圆表面的杂物清除掉或者通过清洗机进行晶圆的清洗。使用手持式气枪进行清洁时，很容易对晶圆表面造成划痕，而使用清洁机进行晶圆清洗增加了一道工序，这样会使得晶圆的生产周期变长，间接的增加了生产成本。而本实用新型是通过在检测装置2的两端加装一组吹气组件和吸气组件来对晶圆上的灰尘进行吹起和吸除。相较于现有技术，本实用新型大大提高了的晶圆生产的良品率以及晶圆生产的效率。

如图1至图3所示，根据本实用新型一实施方式的一种光学检验机用晶圆表面清洁结构，包括晶圆平台1和检测装置2。晶圆平台1用于放置晶圆。检测装置2其一端设有吹气组件，另一端设有吸气组件。其中，晶圆平台1能够沿检测装置2的一端移至另一端，使吹气组件能够将晶圆上的灰尘吹起并经吸气组件将灰尘吸除，以实现晶圆表面的清洁。

具体而言，为了将晶圆表面的灰尘等杂质吹气，吹气组件包括吹气头3及控制吹气头3通断的电磁阀5，吹气头3与电磁阀5通过气管连接，电磁阀5通过气管连接有气泵，气泵为吹气头3提供吹拭灰尘所需的气体，并通过电磁阀5来控制吹气头3吹气或停止吹气。在一实施方式中，吹气头3的输出端设置为多个出气孔31，多个出气孔31的设置，使得吹气头3的输出端气流受挤压而变得流速加快，从而提高吹气头3吹灰尘的效率。为了满足不同型号晶圆表面的灰尘处理，在电磁阀5与吹气头3之间连接了流量控制阀6，可根据实际需求来通过流量控制阀6来调整吹气头3的吹气速度，优选的，流量控制阀6内设有用于过滤气体的滤芯。

在一实施方式中，吸气组件及吹气组件高于晶圆平台1设置，以便于对晶圆平台1表面进行吹气以及吸气处理。

在一实施方式中，吸气组件包括吸气头4，吸气头4的吸气端为敞口结构41，敞口结构41的设置，便于吸气头4一次吸入大量的由吹气组件吹过来的气体，便于将吹起的含有杂质的气体快速有效的吸除。吸气头4连接有负压泵，为吸气头4源源不断的提供负压，以使吸气头4源源不断进行吸气处理。

在一实施方式中，该检测装置2固定在外部的设备上。检测时，该检测装置8对晶圆进行检测。为了对晶圆上灰尘进行有效的吹拭，在晶圆平台1上连接了驱动装置(该驱动装置为常规的水平移动机构，只要满足驱动晶圆平台1水平平稳移动即可，在本实用新型中不再做过多的赘述)。具体的，通过驱动装置驱动晶圆平台1在检测装置2的一端至另一端之间往复运动，从而来完成晶圆平台1上晶圆表面的清洁处理。

本实用新型的光学检验机用晶圆表面清洁结构，其工作过程如下：

在工学检验机清洁作业时进行工作时，首先启动吹气组件和吸气组件运行，然后驱动装置运行带动晶圆平台1及平台上的晶圆自检测装置2的一端至另一端运行，在此过程中，吹气头3不断对晶圆表面的进行吹拭，被吹起的灰尘等杂物会被吸气头4及时吸除，不会造成二次污染。其中，电磁阀5可随时控制吹气组件的开与关，流量控制阀6也可以根据需求来调节不同的吹气量。

与现有技术相比，根据本实用新型的光学检验机用晶圆表面清洁结构，具有以下优点：

在进行晶圆检验的同时，可对晶圆表面的灰尘等杂物进行及时的清洁处理，提升晶圆良品率。避免二次污染，也避免了因人员手持气枪吹拭造成的晶圆损伤的情况。

吸气组件与吹气组件同步运行进行杂物的移除和吸除，避免掉落在机器内，从而避免了机器内部环境的污染。

流量控制阀6的设置，可以根据需求来调节吹气头3不同的吹气量，可满足多种晶圆的检测清洁处理。

吹气组件和吸气组件结构简单，采购成本低，且吹气组件和吸气组件安装在检测装置上，占用空间小，从而节约了设备成本以及设备占用的空间成本。

前述对本实用新型的具体示例性实施方案的描述是为了说明和例证的目的。这些描述并非想将本实用新型限定为所公开的精确形式，并且很显然，根据上述教导，可以进行很多改变和变化。对示例性实施例进行选择和描述的目的在于解释本实用新型的特定原理及其实际应用，从而使得本领域的技术人员能够实现并利用本实用新型的各种不同的示例性实施方案以及各种不同的选择和改变。本实用新型的范围意在由权利要求书及其等同形式所限定。

Claims (6)

1.一种光学检验机用晶圆表面清洁结构，其特征在于，包括：

晶圆平台(1)，用于放置晶圆；

检测装置(2)，其一端设有吹气组件，另一端设有吸气组件；以及

驱动装置，所述晶圆平台(1)连接于所述驱动装置上，所述驱动装置驱动所述晶圆平台(1)在所述检测装置(2)的一端至另一端之间做水平移动的往复运动；

其中，所述晶圆平台(1)能够沿所述检测装置(2)的一端水平移至另一端，使所述吹气组件能够将所述晶圆上的灰尘吹起并经所述吸气组件将灰尘吸除，以实现晶圆表面的清洁。

2.如权利要求1所述的光学检验机用晶圆表面清洁结构，其特征在于，所述吹气组件包括吹气头(3)及控制所述吹气头(3)通断的电磁阀(5)，所述吹气头(3)与所述电磁阀(5)连接，所述电磁阀(5)连接有气泵。

3.如权利要求2所述的光学检验机用晶圆表面清洁结构，其特征在于，所述吹气头(3)的输出端设置为多个出气孔(31)。

4.如权利要求2所述的光学检验机用晶圆表面清洁结构，其特征在于，所述电磁阀(5)与所述吹气头(3)之间连接有流量控制阀(6)。

5.如权利要求1所述的光学检验机用晶圆表面清洁结构，其特征在于，所述吸气组件及所述吹气组件高于所述晶圆平台(1)设置。

6.如权利要求1所述的光学检验机用晶圆表面清洁结构，其特征在于，所述吸气组件包括吸气头(4)，所述吸气头(4)的吸气端为敞口结构(41)，所述吸气头(4)连接有负压泵。