CN208712411U - 掩膜板清洁装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种掩膜板清洁装置，包括第一清洁结构，用于对掩膜板的第一表面进行清洁；第二清洁结构，用于对掩膜板的第二表面进行清洁，其中，所述第一表面与所述第二表面相对设置，在对掩膜板进行清洁时，所述第一清洁结构和所述第二清洁结构分别位于掩膜板相对的两侧。通过第一清洁结构和第二清洁结构的设置，可以对掩膜板的第一表面进行清洁，也可以对掩膜板的第二表面进行清洁，提升掩膜板的清洁效果，保证产品良率。

Description

掩膜板清洁装置

技术领域

本实用新型涉及显示产品制作技术领域，尤其涉及一种掩膜板清洁装置。

背景技术

精细金属掩膜(FMM Mask)模式，是通过蒸镀方式将OLED(有机发光二极管，Organic Light-Emitting Diode)材料按照预定程序蒸镀到LTPS(Low Temperature Poly-silicon)背板上，利用掩膜板上的图形，蒸镀红绿蓝有机物到规定位置上。而Defect(缺陷)检测主要是对掩膜板刻蚀不良以及量产使用过程中监控掩膜板缺陷，包括Particle(灰尘)以及监控掩膜板清洁的清洗效果，在量产当中起着非常重要的作用；而处理不掉的灰尘会带来很多不良，造成良率下降，目前掩膜板清洁方式中，仅对掩膜板正面进行清洁，而检测过程当中发现经常有灰尘附着于掩膜板背面，背面的灰尘也会遮挡像素，从而造成不良。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种掩膜板清洁装置，可以同时对掩膜板的相对的第一表面和第二表面进行清洁，提高掩模板清洁效果。

为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种掩膜板清洁装置，包括：

第一清洁结构，用于对掩膜板的第一表面进行清洁；

第二清洁结构，用于对掩膜板的第二表面进行清洁，其中，所述第一表面与所述第二表面相对设置，在对掩膜板进行清洁时，所述第一清洁结构和所述第二清洁结构分别位于掩膜板相对的两侧。

进一步的，所述第一清洁结构包括：

第一吹气部，用于向掩膜板的第一表面吹气；

第一吸气部，用于对掩膜板的第一表面提供吸力，以吸走所述第一清洁部吹起的异物。

进一步的，所述第一吹气部包括第一吹气口，所述第一清洁结构还包括第一角度调节部，所述第一角度调节结构用于调节所述第一吹气口与掩膜板第一表面之间的角度。

进一步的，所述第一吸气部包括第一吸气口，所述第一吸气口为喇叭状结构，所述第一清洁结构还包括第二角度调节部，所述第二角度调节结构用于调节所述第一吸气口与掩膜板的第一表面之间的角度。

进一步的，所述第一清洁结构还包括用于对掩膜板的第一表面提供离子风的第一离子风部，所述第一离子风部与所述第一吹气部同步运动。

进一步的，所述第二清洁结构包括第二吸气部，用于对掩膜板的第二表面提供吸力，以吸走掩膜板的第二表面的异物。

进一步的，所述第二吸气部与所述第一吹气部正对，以使得所述第二吸气部吸走所述第一吹气部吹向掩膜板的第二表面的异物。

进一步的，所述第二吸气部包括第二吸气口，所述第二吸气口呈喇叭状结构，所述第二清洁结构包括第三角度调节结构，所述第三角度调节结构用于调节所述第二吸气口与掩膜板的第二表面之间的角度。

进一步的，所述第二清洁结构还包括第二吹气部，用于向掩膜板的第二表面吹气，所述第二吸气部还用于吸走所述第二吹气部吹起的异物。

进一步的，所述第二吹气部包括第二吹气口，所述第二清洁结构还包括第四角度调节结构，所述第四角度调节结构用于调节所述第二吹气口与掩膜板第二表面之间的角度。

进一步的，所述第二清洁结构还包括用于对掩膜板的第二表面提供离子风的第二离子风部，所述第二离子风部与所述第二吹气部同步运动。

本实用新型的有益效果是：通过第一清洁结构和第二清洁结构的设置，可以对掩膜板的第一表面进行清洁，也可以对掩膜板的第二表面进行清洁，提升掩膜板的清洁效果，保证产品良率。

附图说明

图1表示本实用新型实施例中掩膜板清洁装置结构示意图一；

图2表示本实用新型实施例中掩膜板清洁装置结构示意图二；

图3表示本实用新型实施例中掩膜板清洁装置结构示意图二；

图4表示本实用新型实施例中第一吹气部、第一吸气部角度状态示意图；

图5表示本实用新型实施例中第一吹气部与第二吸气部配合状态示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的特征和原理进行详细说明，所举实施例仅用于解释本实用新型，并非以此限定本实用新型的保护范围。

如图1-图5所示，本实施例提供一种掩膜板清洁装置，包括：

第一清洁结构，用于对掩膜板10的第一表面进行清洁；

第二清洁结构，用于对掩膜板10的第二表面进行清洁，其中，所述第一表面与所述第二表面相对设置，在对掩膜板10进行清洁时，所述第一清洁结构和所述第二清洁结构分别位于掩膜板10相对的两侧。

使用时，所述第一清洁结构对掩膜板10的第一表面进行清洁，所述第二清洁结构对掩膜板10的第二表面进行清洁，从而实现掩模板的两个表面的清洁，提升了掩模板的清洁效果，有效的提升产品良率。

所述第一清洁结构的具体结构形式可以有多种，只要实现对掩膜板10的第一表面的清洁即可，本实施例中，所述第一清洁结构包括：

第一吹气部1，用于向掩膜板10的第一表面吹气；

第一吸气部2，用于对掩膜板10的第一表面提供吸力，以吸走所述第一清洁部吹起的异物。

对掩膜板10的第一表面进行清洁时，所述第一吹气部1向掩膜板10的第一表面吹气以吹起掩膜板10的第一表面上的异物，在所述第一吸气部2的吸力的作用下，将所述第一吹气部1吹气的异物吸走、避免所述第一吹气部1吹起的异物会再次落到掩膜板10上。

为了便于控制、简化工序，本实施例中，所述第一吹气部1与所述第一吸气部2采用同步运动的运动方式进行清洁动作，但并不以此为限。

所述第一吹气部1的具体结构形式可以有多种，本实施例中，所述第一吹气部1包括第一吹气口，所述第一清洁结构还包括第一角度调节部，所述第一角度调节结构用于调节所述第一吹气口与掩膜板10第一表面之间的角度。

不同角度向掩膜板10的第一表面吹气，掩膜板10的第一表面上的异物受力不同，通过调整所述第一吹气口与掩膜板10的第一表面之间的角度可以有效的清洁挂到像素孔(掩膜板10上的通孔)或者难以处理的粘性灰尘(掩膜板10上的异物包括灰尘)，保证掩膜板10的清洁度。

本实施例中，所述第一吹气部1包括细小的管状结构，所述第一吹气口为所述管状结构的出口，细小的管状结构的设置使得掩模板上的异物受力面积小，从而增大受力，利于掩模板上的异物的清洁。

本实施例中，所述第一吸气部2包括第一吸气口，所述第一吸气口为喇叭状结构，所述第一清洁结构还包括第二角度调节部，所述第二角度调节结构用于调节所述第一吸气口与掩膜板10的第一表面之间的角度。

所述第一吸气口为喇叭状结构，增加收集面积，避免吹掉的异物移动至掩模板的其他位置，提升掩膜板10的清洁效果。

所述第二角度调节结构的设置使得所述第一吸气口与所述第一吹气口相配合，可以更有效的清洁掩膜板10上的异物。

本实施例中，所述第一吸气口与真空泵连接，通过真空吸附的方式对掩膜板10的第一表面提供吸力，但并不以此为限。

本实施例中，所述第一清洁结构还包括用于对掩膜板10的第一表面提供离子风的第一离子风部51，所述第一离子风部51与所述第一吹气部1同步运动。

有些异物附着在掩膜板10表面主要是静电引起的，故在处理异物的同时设置离子风部，消除静电，这样就可以将由于静电吸附到掩膜板10表面的异物进行有效的清理。

所述离子风部的具体结构形式以及设置方式均可以有多种，本实施例中，所述第一离子风部51包括离子风机，所述离子风机与所述第一吹气部1同轴设置，与所述第一吹气部1同步运动，有目标的去除静电，提高清洁效率。

所述第二清洁结构的具体结构形式可以有多种，本实施例中，所述第二清洁结构包括第二吸气部3，用于对掩膜板10的第二表面提供吸力，以吸走掩膜板10的第二表面的异物。

本实施例的一实施方式中，所述第二吸气部3与所述第一吹气部1正对，以使得所述第二吸气部3吸走所述第一吹气部1吹向掩膜板10的第二表面的异物。

所述第一吹气部1与所述第二吸气部3正对的设置方式，提高了对掩膜板10的第二表面的异物的清洁力度，且可以对掩膜板10通孔内的异物进行有效的清洁。

在此实施方式中，为了提高清洁效率，所述第一吹气部1与所述第二吸气部3可以同步运动，但并不以此为限。

图5表示所述第一吹气部1与所述第二吸气部3配合的状态示意图，其中虚线表示所述第一吹气部1通过第一角度调节结构调节后的几个位置的状态示意图。

本实施例中，所述第二吸气部3包括第二吸气口，所述第二吸气口呈喇叭状结构，所述第二清洁结构包括第三角度调节结构，所述第三角度调节结构用于调节所述第二吸气口与掩膜板10的第二表面之间的角度。

所述第二吸气口为喇叭状结构，增加收集面积，避免吹掉的异物移动至掩模板的其他位置，提升掩膜板10的清洁效果。

所述第三角度调节结构的设置使得所述第二吸气口与所述第一吹气口相配合，可以更有效的清洁掩膜板10上的异物。

本实施例中，所述第一吸气口与真空泵连接，通过真空吸附的方式对掩膜板10的第一表面提供吸力，但并不以此为限。

为了进一步的提高清洁力度，以保证清洁效果，本实施例中，所述第二清洁结构还包括第二吹气部4，用于向掩膜板10的第二表面吹气，所述第二吸气部3还用于吸走所述第二吹气部4吹起的异物。

所述第二吹气部4和所述第二吸气部3相配合，更有效的清洁掩膜板10的第二表面。

本实施例中，所述第二吹气部4包括第二吹气口，所述第二清洁结构还包括第四角度调节结构，所述第四角度调节结构用于调节所述第二吹气口与掩膜板10第二表面之间的角度。

不同角度向掩膜板10的第二表面吹气，掩膜板10的第二表面上的异物受力不同，通过调整所述第二吹气口与掩膜板10的第二表面之间的角度可以有效的清洁挂到掩膜板10上的通孔或者难以处理的粘性灰尘(掩膜板10上的异物包括灰尘)，保证掩膜板10的清洁度。

本实施例中，所述第二吹气部4包括细小的管状结构，所述第二吹气口为所述管状结构的出口，细小的管状结构的设置使得掩模板上的异物受力面积小，从而增大受力，利于掩模板上的异物的清洁。

本实施例中，所述第二清洁结构还包括用于对掩膜板10的第二表面提供离子风的第二离子风部52，所述第二离子风部52与所述第二吹气部4同步运动。

有些异物附着在掩膜板10表面主要是静电引起的，故在处理异物的同时设置离子风部，消除静电，这样就可以将由于静电吸附到掩膜板10表面的异物进行有效的清理。

所述离子风部的具体结构形式以及设置方式均可以有多种，本实施例中，所述第二离子风部52包括离子风机，所述离子风机与所述第二吹气部4同轴设置，与所述第二吹气部4同步运动，有目标的去除静电，提高清洁效率。

本实施例中，所述掩膜板清洁装置包括控制所述第一清洁结构和所述第二清洁结构移动的移动结构，所述移动结构的具体结构形式可以与多种，例如，所述移动结构包括相向设置的第一导轨和第二导轨，所述第一吹气部和所述第一吸气部成对设置在所述第一导轨上，所述第一吹气部和所述第一吸气部可以沿着所述第一导轨移动、以对掩膜板的第一表面进行清洁。所述第二吹气部和所述第二吸气部成对设置在所述第二导轨上，所述第二吹气部和所述第二吸气部可沿着所述第二导轨移动、以对掩膜板的第二表面进行清洁。(第一导轨和第二导轨图中未示)。

本实施例中，所述掩膜板清洁装置还包括用于检测掩膜板异物的检测结构(图中未示)，所述检测结构的具体结构形式有多种，例如，所述检测结构包括：

图像采集部，用于实时采集掩膜板第一表面和第二表面的图像信息；

处理部，用于分析处理所述图像信息以获得掩膜板上异物信息，所述异物信息包括异物数量、异物大小和异物的位置；

控制部，用于根据所述异物信息控制所述第一清洁结构和所述第二清洁结构的工作状态以对掩膜板的第一表面和第二表面进行清洁。

以上所述为本实用新型的较佳实施例，需要说明的是，对于本领域普通技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型保护范围。

Claims (9)

1.一种掩膜板清洁装置，其特征在于，包括：

第一清洁结构，用于对掩膜板的第一表面进行清洁；

第二清洁结构，用于对掩膜板的第二表面进行清洁，其中，所述第一表面与所述第二表面相对设置，在对掩膜板进行清洁时，所述第一清洁结构和所述第二清洁结构分别位于掩膜板相对的两侧；

所述第一清洁结构包括：

第一吹气部，用于向掩膜板的第一表面吹气；

第一吸气部，用于对掩膜板的第一表面提供吸力，以吸走所述第一清洁部吹起的异物；

所述第二清洁结构包括第二吸气部，用于对掩膜板的第二表面提供吸力，以吸走掩膜板的第二表面的异物。

2.根据权利要求1所述的掩膜板清洁装置，其特征在于，所述第一吹气部包括第一吹气口，所述第一清洁结构还包括第一角度调节部，所述第一角度调节结构用于调节所述第一吹气口与掩膜板第一表面之间的角度。

3.根据权利要求1所述的掩膜板清洁装置，其特征在于，所述第一吸气部包括第一吸气口，所述第一吸气口为喇叭状结构，所述第一清洁结构还包括第二角度调节部，所述第二角度调节结构用于调节所述第一吸气口与掩膜板的第一表面之间的角度。

4.根据权利要求1所述的掩膜板清洁装置，其特征在于，所述第一清洁结构还包括用于对掩膜板的第一表面提供离子风的第一离子风部，所述第一离子风部与所述第一吹气部同步运动。

5.根据权利要求1所述的掩膜板清洁装置，其特征在于，所述第二吸气部与所述第一吹气部正对，以使得所述第二吸气部吸走所述第一吹气部吹向掩膜板的第二表面的异物。

6.根据权利要求1所述的掩膜板清洁装置，其特征在于，所述第二吸气部包括第二吸气口，所述第二吸气口呈喇叭状结构，所述第二清洁结构包括第三角度调节结构，所述第三角度调节结构用于调节所述第二吸气口与掩膜板的第二表面之间的角度。

7.根据权利要求1所述的掩膜板清洁装置，其特征在于，所述第二清洁结构还包括第二吹气部，用于向掩膜板的第二表面吹气，所述第二吸气部还用于吸走所述第二吹气部吹起的异物。

8.根据权利要求7所述的掩膜板清洁装置，其特征在于，所述第二吹气部包括第二吹气口，所述第二清洁结构还包括第四角度调节结构，所述第四角度调节结构用于调节所述第二吹气口与掩膜板第二表面之间的角度。

9.根据权利要求7所述的掩膜板清洁装置，其特征在于，所述第二清洁结构还包括用于对掩膜板的第二表面提供离子风的第二离子风部，所述第二离子风部与所述第二吹气部同步运动。