CN219350157U - 一种晶圆加工去胶装置 - Google Patents

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倪裕林
徐新志
尹旺
尹康
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Abstract

本实用新型属于晶圆加工技术领域,具体的说是一种晶圆加工去胶装置,包括支撑柱;所述支撑柱的顶部固接有工作台,所述工作台顶部设置有活动组件,所述活动组件固接在工作台的顶部,所述活动组件包括固定座,所述固定座底部固接在工作台的顶部,所述固定座的顶部设置有风机和伸缩杆,所述伸缩杆和风机的底部均固接在固定座的顶部,所述伸缩杆的一端固接有斜板,所述固定座的内部设置有两个加热板,且两个所述加热板的侧壁固接在固定座的内部,所述工作台的顶部滑动连接有连接板,所述连接板的顶部设置有晶圆片,所述晶圆片的底部嵌入在连接板的内部,这种装置使晶圆的去胶更简便,避免晶圆去胶时出现损坏的情况。

Description

一种晶圆加工去胶装置
技术领域
本实用新型涉及晶圆加工技术领域,具体是一种晶圆加工去胶装置。
背景技术
晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片,将圆柱形的单晶硅进行固定,通过对硅晶棒进行研磨、抛光、切片等流程后,使硅晶棒切割成硅晶圆片。
现有的晶圆去胶设备由夹板、斜板和加热板,通过将晶圆固定在夹板的顶部,利用加热板使晶圆表面的胶液进行软化工作,通过斜板对晶圆表面进行均匀的清洁工作;
现有的晶圆去胶设备在使用时,通过加热板对晶圆的加热不够全面,导致斜板无法对晶圆表面进行整体去除工作,造成晶圆表面出现损坏的情况,因此,针对上述问题提出一种晶圆加工去胶装置。
实用新型内容
为了弥补现有技术的不足,通过加热板对晶圆的加热不够全面,导致斜板无法对晶圆表面进行整体去除工作的问题,本实用新型提出一种晶圆加工去胶装置。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:本实用新型所述的一种晶圆加工去胶装置,包括支撑柱;所述支撑柱的顶部固接有工作台,所述工作台顶部设置有活动组件,所述活动组件固接在工作台的顶部,所述活动组件包括固定座,所述固定座底部固接在工作台的顶部,所述固定座的顶部设置有风机和伸缩杆,所述伸缩杆和风机的底部均固接在固定座的顶部,所述伸缩杆的一端固接有斜板,所述固定座的内部设置有两个加热板,且两个所述加热板的侧壁固接在固定座的内部,所述工作台的顶部滑动连接有连接板,所述连接板的顶部设置有晶圆片,所述晶圆片的底部嵌入在连接板的内部。
优选的,所述工作台的侧壁设置有丝杆和连杆,所述丝杆的两端转动连接在工作台的侧壁,所述连杆两端固接在工作台的侧壁,所述连接板的内部滑动连接在丝杆和连杆的外部,所述连接板的顶部固接有支撑板,所述晶圆片通过支撑板嵌入在连接板的内部。
优选的,所述工作台的侧壁设置有把手,所述把手的一端贯穿工作台转动连接丝杆的一端。
优选的,所述固定座顶部固接有水箱,所述固定座的内部设置有水管,所述水管的一端嵌入在水箱的内部。
优选的,所述固定座的底部固接有喷头,所述水管的另一端嵌入在喷头的顶部,所述固定座底部嵌入有密封条。
优选的,所述连接板的顶部设置有毛刷和销钉,所述销钉设置有两组,且两个所述销钉一端贯穿毛刷转动连接在连接板的顶部。
优选的,所述固定座的侧壁设置有两个挡板,且两个所述挡板的侧壁转动连接在固定座的侧壁。
优选的,所述支撑柱的底部设置有垫板,所述垫板设置有若干组,且所述垫板的顶部对称固接在支撑柱的底部。
本实用新型的有益之处在于:
1.本实用新型通过风机的转动,使风机将空气吹入到固定座的内部,同时风机的外设设置有过滤设备,避免灰尘通过风机进入到固定座的内部,通过固定座内部的加热板,使加热板散出的热量传递到空气中,通过空气内携带的热量实现对晶圆片的烘吹工作,通过烘吹实现对晶圆片全面加热工作,利用把手的转动,控制晶圆片的烘吹工作,通过斜板的移动工作,实现对晶圆片的去胶工作,利用加热板对晶圆片进行预加热的工作,避免晶圆片去胶时出现损坏的情况;
2.本实用新型通过转动把手,使连接板反向移动,通过连接板的移动使晶圆片移动到喷头的底部,通过固定座顶部的水箱使水流经过水管流入到喷头的内部,实现对晶圆片的清洗工作,清洗完成的晶圆片,通过连接板的移动,再次进行到固定座的内部,通过风机和加热板的配合使用,使连接板顶部的晶圆片进行加热工作,避免清洗后的晶圆表面携带水渍,造成晶圆无法使用的情况。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为本实用新型支撑柱的结构示意图;
图2为本实用新型工作台剖视的结构示意图;
图3为本实用新型固定座剖视的结构示意图;
图4为本实用新型连接板的结构示意图;
图5为本实用新型垫板的结构示意图。
图中:1、支撑柱;2、工作台;31、固定座;32、伸缩杆;33、风机;34、连接板;35、晶圆片;36、斜板;37、加热板;4、水箱;5、丝杆;6、挡板;7、把手;8、毛刷;9、支撑板;10、连杆;11、密封条;12、喷头;13、水管;14、销钉;15、垫板。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-图5所示,一种晶圆加工去胶装置,包括支撑柱1;所述支撑柱1的顶部固接有工作台2,所述工作台2顶部设置有活动组件,所述活动组件固接在工作台2的顶部;
所述活动组件包括固定座31,所述固定座31底部固接在工作台2的顶部,所述固定座31的顶部设置有风机33和伸缩杆32,所述伸缩杆32和风机33的底部均固接在固定座31的顶部,所述伸缩杆32的一端固接有斜板36,所述固定座31的内部设置有两个加热板37,且两个所述加热板37的侧壁固接在固定座31的内部,所述工作台2的顶部滑动连接有连接板34,所述连接板34的顶部设置有晶圆片35,所述晶圆片35的底部嵌入在连接板34的内部;
工作时,现有的晶圆去胶设备在使用时,通过加热板对晶圆的加热不够全面,导致斜板无法对晶圆表面进行整体去除工作,造成晶圆表面出现损坏的情况,通过风机33的转动,使风机33将空气吹入到固定座31的内部,同时风机33的外设设置有过滤设备,避免灰尘通过风机33进入到固定座31的内部,通过固定座31内部的加热板37,使加热板37散出的热量传递到空气中,通过空气内携带的热量实现对晶圆片35的烘吹工作,通过烘吹实现对晶圆片35全面加热工作,利用把手7的转动,控制晶圆片35的烘吹工作,通过伸缩杆32使斜板36向下进行移动,通过斜板36的移动工作,实现对晶圆片35的去胶工作。
所述工作台2的侧壁设置有丝杆5和连杆10,所述丝杆5的两端转动连接在工作台2的侧壁,所述连杆10两端固接在工作台2的侧壁,所述连接板34的内部滑动连接在丝杆5和连杆10的外部,所述连接板34的顶部固接有支撑板9,所述晶圆片35通过支撑板9嵌入在连接板34的内部;
工作时,利用丝杆5的转动,使丝杆5转动时带动连接板34进行移动,同时连接板34的移动,使连接板34带动挡板6进行转动,通过将晶圆片35放置在支撑板9的顶部,通过推动支撑板9,使支撑板9的底部卡接在连接板34的顶部。
所述工作台2的侧壁设置有把手7,所述把手7的一端贯穿工作台2转动连接丝杆5的一端;
工作时,通过转动把手7,使把手7带动丝杆5进行转动,利用丝杆5的转动使连接板4进行移动。
所述固定座31顶部固接有水箱4,所述固定座31的内部设置有水管13,所述水管13的一端嵌入在水箱4的内部;
工作时,利用固定座31的顶部的水箱4,使水箱4内部水流经过水管13进入固定座31的内部,便于后续进行工作。
所述固定座31的底部固接有喷头12,所述水管13的另一端嵌入在喷头12的顶部,所述固定座31底部嵌入有密封条11;
工作时,通过固定座31顶部的水箱4使水流经过水管13流入到喷头12的内部,实现对晶圆片35的清洗工作,利用密封条11,使固定座31底部处于半密封状态,使烘吹产生的蒸汽凝结在密封条11的底部。
所述连接板34的顶部设置有毛刷8和销钉14,所述销钉14设置有两组,且两个所述销钉14一端贯穿毛刷8转动连接在连接板34的顶部;
工作时,利用销钉14对毛刷8进行限制工作,通过转动销钉14和连接板34之间的转动连接,实现对毛刷8的更换工作。
所述固定座31的侧壁设置有两个挡板6,且两个所述挡板6的侧壁转动连接在固定座31的侧壁;
工作时,利用两个挡板6,使固定座31内部进行烘吹时效果更好,避免热气经过固定座31的侧壁流出,造成晶圆片35预加热不完全的情况。
所述支撑柱1的底部设置有垫板15,所述垫板15设置有若干组,且所述垫板15的顶部对称固接在支撑柱1的底部;
工作时,利用垫板15对支撑柱1形成防护的效果,避免支撑柱1长时间使用时出现损坏的情况。
工作原理,现有的晶圆去胶设备在使用时,通过加热板对晶圆的加热不够全面,导致斜板无法对晶圆表面进行整体去除工作,造成晶圆表面出现损坏的情况,通过转动把手7,使把手7带动丝杆5进行转动,利用丝杆5的转动,使丝杆5转动时带动连接板34进行移动,同时连接板34的移动,使连接板34带动挡板6进行转动,通过将晶圆片35放置在支撑板9的顶部,通过推动支撑板9,使支撑板9的底部卡接在连接板34的顶部,通过反向转动把手7,使把手7转动时带动丝杆5进行转动,利用丝杆5和连杆10的配合使用,使连接板34和晶圆片35进入到固定座31的内部,通过风机33的转动,使风机33将空气吹入到固定座31的内部,同时风机33的外设设置有过滤设备,避免灰尘通过风机33进入到固定座31的内部,通过固定座31内部的加热板37,使加热板37散出的热量传递到空气中,通过空气内携带的热量实现对晶圆片35的烘吹工作,通过烘吹实现对晶圆片35全面加热工作,利用把手7的转动,控制晶圆片35的烘吹工作,通过继续转动把手7,使工作台2内部的连接板34移动到斜板36的底部,通过伸缩杆32使斜板36向下进行移动,通过斜板36的移动工作,实现对晶圆片35的去胶工作,当晶圆片35去胶完成后,通过转动把手7,使连接板34反向移动,通过连接板34的移动使晶圆片35移动到喷头12的底部,通过固定座31顶部的水箱4使水流经过水管13流入到喷头12的内部,实现对晶圆片35的清洗工作,清洗完成的晶圆片35,通过连接板34的移动,再次进行到固定座31的内部,通过风机33和加热板37的配合使用,使连接板34顶部的晶圆片35进行加热工作,避免清洗后的晶圆表面携带水渍,造成晶圆无法使用的情况,同时连接板34移动时,带动毛刷8对斜板36的底部进行清洁工作,避免斜板36底部堆积晶圆生产时的胶水,造成斜板36效果下降的情况,这种装置使晶圆的去胶更简便,避免晶圆去胶时出现损坏的情况。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。

Claims (8)

1.一种晶圆加工去胶装置,包括支撑柱(1);所述支撑柱(1)的顶部固接有工作台(2),所述工作台(2)顶部设置有活动组件,所述活动组件固接在工作台(2)的顶部,其特征在于;
所述活动组件包括固定座(31),所述固定座(31)底部固接在工作台(2)的顶部,所述固定座(31)的顶部设置有风机(33)和伸缩杆(32),所述伸缩杆(32)和风机(33)的底部均固接在固定座(31)的顶部,所述伸缩杆(32)的一端固接有斜板(36),所述固定座(31)的内部设置有两个加热板(37),且两个所述加热板(37)的侧壁固接在固定座(31)的内部,所述工作台(2)的顶部滑动连接有连接板(34),所述连接板(34)的顶部设置有晶圆片(35),所述晶圆片(35)的底部嵌入在连接板(34)的内部。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆加工去胶装置,其特征在于:所述工作台(2)的侧壁设置有丝杆(5)和连杆(10),所述丝杆(5)的两端转动连接在工作台(2)的侧壁,所述连杆(10)两端固接在工作台(2)的侧壁,所述连接板(34)的内部滑动连接在丝杆(5)和连杆(10)的外部,所述连接板(34)的顶部固接有支撑板(9),所述晶圆片(35)通过支撑板(9)嵌入在连接板(34)的内部。
3.根据权利要求2所述的一种晶圆加工去胶装置,其特征在于:所述工作台(2)的侧壁设置有把手(7),所述把手(7)的一端贯穿工作台(2)转动连接丝杆(5)的一端。
4.根据权利要求3所述的一种晶圆加工去胶装置,其特征在于:所述固定座(31)顶部固接有水箱(4),所述固定座(31)的内部设置有水管(13),所述水管(13)的一端嵌入在水箱(4)的内部。
5.根据权利要求4所述的一种晶圆加工去胶装置,其特征在于:所述固定座(31)的底部固接有喷头(12),所述水管(13)的另一端嵌入在喷头(12)的顶部,所述固定座(31)底部嵌入有密封条(11)。
6.根据权利要求5所述的一种晶圆加工去胶装置,其特征在于:所述连接板(34)的顶部设置有毛刷(8)和销钉(14),所述销钉(14)设置有两组,且两个所述销钉(14)一端贯穿毛刷(8)转动连接在连接板(34)的顶部。
7.根据权利要求6所述的一种晶圆加工去胶装置,其特征在于:所述固定座(31)的侧壁设置有两个挡板(6),且两个所述挡板(6)的侧壁转动连接在固定座(31)的侧壁。
8.根据权利要求7所述的一种晶圆加工去胶装置,其特征在于:所述支撑柱(1)的底部设置有垫板(15),所述垫板(15)设置有若干组,且所述垫板(15)的顶部对称固接在支撑柱(1)的底部。
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