CN219342371U - 一种用于链式水平电镀设备的清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种用于链式水平电镀设备的清洗装置，其中，清洗装置包括电镀槽、镀液配置系统以及水洗槽，在水洗槽内设置有多级清洗子槽，由于镀件会在多级清洗子槽内被清洗从而使得多级清洗子槽内的水中含有一定量的金属离子，通过镀液配置系统接受电镀槽内的液位以及溶液浓度信息，以控制阀门的开启与关闭，从而使得多级清洗子槽中的水能够进入到电镀槽中以补充由于镀件的移动而带走的部分溶液，从而大幅度降低链式水平电镀设备的用水量，也杜绝了电镀液的大量浪费，此外，由于对多级清洗子槽内含有一定量的金属离子的水的再次利用，从而降低了含有金属离子的废水排放量，减少了污水处理成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及电镀清洗技术领域，特别是涉及一种用于链式水平电镀设备的清洗装置。
背景技术
电镀铜工艺是指在化学沉铜层上通过电解方法沉积金属铜，以提供足够的导电性/厚度及防止导电电路出现热和机械缺陷。电镀原理就是在电镀槽内加入含镀层金属阳离子的溶液作为电镀液，以待镀的工件做阴极，镀层金属或其他不溶性材料做阳极，通电后给予一定的工艺调节，使得电镀液中的镀层金属阳离子在待镀工件表面被还原形成镀层，从而起到防止金属氧化(如锈蚀)，提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(硫酸铜等)及增进美观等作用。
在连续电镀生产过程中，待镀的工件从镀液中移出来后必须经过多次反复清洗，才能将附着在待镀的工件上的镀液清洗干净。目前链式水平电镀设备的清洗工序多采用直接靠溢流的方式冲洗待镀的工件，即将纯水直接注入到水洗槽中，但是利用这种方法进行清洗，水洗槽就必须源源不断地进水，一方面既造成了水资源的大量浪费也会造成电镀液的大量浪费，同时会降低水洗槽中的离子浓度，另一方面也会使得含有金属离子的废水排放量大，从而大大增加了污水处理的成本。
实用新型内容
鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种用于链式水平电镀设备的清洗装置，用于解决现有技术由于直接使用溢流冲洗而造成的水资源和电镀液的大量浪费以及由于含有金属离子的废水排放量大而导致的污水处理成本增加的问题。
为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种用于链式水平电镀设备的清洗装置，所述清洗装置至少包括：
电镀槽，所述电镀槽上设置有多个进液阀门，且所述电镀槽内设置有第一浓度检测装置；
镀液配置系统，所述镀液配置系统包括配液腔以及自动控制装置，所述配液腔与所述电镀槽上的进液阀门之间通过镀液回流管路连接，在所述配液腔内设置有第二浓度检测装置，所述第一浓度检测装置和所述第二浓度检测装置与所述自动控制装置通信连接；
水洗槽，所述水洗槽与所述电镀槽上的进液阀门连接且所述水洗槽内设置有多级清洗子槽，所述多级清洗子槽的侧壁上设置有通水孔。
可选地，所述多级清洗子槽包括依次连接的一级清洗子槽、二级清洗子槽和三级清洗子槽，所述一级清洗子槽与外部盛放纯水的装置连接，所述三级清洗子槽与所述电镀槽上的进液阀门通过管路连接，所述一级清洗子槽与所述二级清洗子槽之间设置有第一溢流通道，所述二级清洗子槽与所述三级清洗子槽之间设置有第二溢流通道。
可选地，所述一级清洗子槽、所述二级清洗子槽和所述三级清洗子槽内分别设置有溢流板，所述溢流板将所述一级清洗子槽分割成第一溢流区和第一清洗区，将所述二级清洗子槽分割成第二溢流区和第二清洗区以及将所述三级清洗子槽分割成第三溢流区和第三清洗区，其中，所述第一溢流区与所述第二清洗区之间通过所述第一溢流通道连接，所述第二溢流区与所述第三清洗区之间通过所述第二溢流通道连接。
可选地，所述第一溢流通道与所述第二溢流通道上分别设置有溢流泵和阀门。
可选地，所述一级清洗子槽、所述二级清洗子槽和所述三级清洗子槽的外侧壁设置有保温层。
可选地，所述保温层与外侧壁之间设置有夹套或电加热结构。
可选地，所述配液腔包括互相连通的第一腔体、第二腔体、第三腔体以及第四腔体，其中，所述第一腔体以及所述第四腔体分别与所述电镀槽上的的进液阀门通过管路固定连接，且所述第四腔体与所述电镀槽的连接管路上设置有第一电磁阀和流量计。
可选地，所述电镀槽内还设置有液位传感器，所述液位传感器与所述自动控制装置通信连接。
如上所述，本实用新型的用于链式水平电镀设备的清洗装置，具有以下有益效果：清洗装置包括电镀槽、镀液配置系统以及水洗槽，其中，水洗槽内设置有多级清洗子槽，由于镀件会在多级清洗子槽内被清洗从而使得多级清洗子槽内的水中含有一定量的金属离子，通过镀液配置系统接受电镀槽内的液位以及溶液浓度信息，以控制阀门的开启与关闭，从而使得多级清洗子槽中的水能够进入到电镀槽中以补充由于镀件的移动而带走的部分溶液，从而大幅度降低链式水平电镀设备的用水量，也杜绝了电镀液的大量浪费，此外，由于对多级清洗子槽内含有一定量的金属离子的水的再次利用，从而降低了含有金属离子的废水排放量，减少了污水处理成本。
附图说明
图1显示为本实用新型的用于链式水平电镀设备的清洗装置的结构示意图。
图2显示为本实用新型的水洗槽的内部结构示意图。
元件标号说明
101、电镀槽；1011、进液阀门；102、腔体；1021、第一腔体；1022、第二腔体；1023、第三腔体；1024、第四腔体；103、水洗槽；1031、一级清洗子槽；1031-1、第一清洗区；1031-2、第一溢流区；1032、二级清洗子槽；1032-1、第二清洗区；1032-2、第二溢流区；1033、三级清洗子槽；1033-1、第三清洗区；1033-2、第三溢流区；1034、溢流板；1035、第一溢流通道；1036、第二溢流通道；1037、保温层；104、第一电磁阀；105、流量计。
具体实施方式
以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。
请参阅图1至图2。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本实用新型可实施的范畴。
在本实用新型中，除另有明确规定外，如有术语“组装”、“相连”、“连接”等术语应作广义去理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；也可以是机械连接；可以是直接相连，也可以是通过中间媒介相连，可以是两个元件内部相连通。此外，使用“第一”、“第二”、“第三”等词语来限定零部件，仅仅是为了便于对上述零部件进行区别，如没有另行声明，上述词语并没有特殊含义，因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制。
如图1所示，本实用新型提供一种用于链式水平电镀设备的清洗装置，所述清洗装置包括：
电镀槽101，所述电镀槽101上设置有多个进液阀门1011，且所述电镀槽101内设置有第一浓度检测装置；
镀液配置系统，所述镀液配置系统包括多个腔体102以及自动控制装置，所述腔体102与所述电镀槽101上的进液阀门1011之间通过镀液回流管路连接，在所述腔体102内设置有第二浓度检测装置，所述第一浓度检测装置和所述第二浓度检测装置与所述自动控制装置通信连接；
水洗槽103，所述水洗槽103与所述电镀槽101上的进液阀门1011连接且所述水洗槽103内设置有多级清洗子槽，所述多级清洗子槽的侧壁上设置有通水孔。
作为示例，所述多级清洗子槽包括依次连接的一级清洗子槽1031、二级清洗子槽1032和三级清洗子槽1033，所述一级清洗子槽1031与外部盛放纯水的装置连接，所述三级清洗子槽1033与所述电镀槽101上的进液阀门1011通过管路连接，所述一级清洗子槽1031与所述二级清洗子槽1032之间设置有第一溢流通道1035，所述二级清洗子槽1032与所述三级清洗子槽1033之间设置有第二溢流通道1036。
具体的，如图2所示，在本实施例中，多级清洗子槽包括依次连接的一级清洗子槽1031、二级清洗子槽1032和三级清洗子槽1033，一级清洗子槽1031的外侧壁上设置有通水孔以与外部盛放有纯水的装置连接，从而使得外部的纯水能够源源不断的进入到一级清洗子槽1031从而完成对镀件的第一次清洗，在一级清洗子槽1031与二级清洗子槽1032之间设置有第一溢流通道1035，在二级清洗子槽1032与三级清洗子槽1033之间设置有第二溢流通道1036，从而使得进入到一级清洗子槽1031的纯水通过溢流循环分别进入到二级清洗子槽1032和三级清洗子槽1033，以完成对镀件的多次清洗，从而将原有的直接靠溢流的方式冲洗镀件的方式变成了可以对镀件进行多次清洗，一方面提高了镀件的清洗效果，另一方面还能够提高纯水的利用效率，此外，当镀件从电镀槽101移出置水洗槽103时，会带出少量的电镀液，从而使得电镀液中的金属离子浓度下降，从而影响后续镀件的电镀效果，因此，将三级清洗子槽1033与电镀槽101上的进液阀门1011通过管路连接，利用三级清洗子槽1033中的纯水直接对电镀槽101进行纯水的补充，从而在一定程度上节省了纯水的用量，此外，由于三级清洗子槽1033中的纯水中含有从镀件中冲洗下来的少量金属离子，在向电镀槽101补液的过程中，还可以在一定程度上节省金属离子的使用量，从而节省成本。
作为示例，所述一级清洗子槽1031、所述二级清洗子槽1032和所述三级清洗子槽1033内分别设置有溢流板1034，所述溢流板1034将所述一级清洗子槽1031分割成第一溢流区1031-2和第一清洗区1031-1，将所述二级清洗子槽1032分割成第二溢流区1032-2和第二清洗区1032-1以及将所述三级清洗子槽1033分割成第三溢流区1033-2和第三清洗区1033-1，其中，所述第一溢流区1031-2与所述第二清洗区1032-1之间通过所述第一溢流通道1035连接，所述第二溢流区1032-2与所述第三清洗区1033-1之间通过所述第二溢流通道1036连接。
具体的，如图2所示，在本实施例中，在一级清洗子槽1031、二级清洗子槽1032和三级清洗子槽1033内均设置有溢流板1034，其中，溢流板1034将一级清洗子槽1031分割成第一溢流区1031-2和第一清洗区1031-1，溢流板1034将二级清洗子槽1032分割成第二溢流区1032-2和第二清洗区1032-1，溢流板1034将三级清洗子槽1033分割成第三溢流区1033-2和第三清洗区1033-1，且第一溢流区1031-2与第二清洗区1032-1之间通过第一溢流通道1035连接，第二溢流区1032-2与第三清洗区1033-1之间通过第二溢流通道1036连接且在第一溢流通道1035与第二溢流通道1036上分别设置有溢流泵和阀门，从而使得外部的纯水先流经第一清洗区1031-1从而完成对镀件的第一次清洗过程，待第一溢流区1031-2的水量足够多时，在溢流泵的动力作用下，打开阀门经第一溢流通道1035进入到二级清洗子槽1032，先流经第二清洗区1032-1完成对镀件的第二次清洗过程，再流向第二溢流区1032-2，待第二溢流区1032-2的水量足够多时，在溢流泵的动力作用下，打开阀门经第二溢流通道1036进入到三级清洗子槽1033中的第三溢流区1033-2，在流经第三清洗区1033-1时，完成对镀件的第三次清洗过程。在上述过程中，利用连续流动的纯水对镀件进行多次清洗，既提高了镀件的清洗效果，又提高纯水的利用效率。
作为示例，所述一级清洗子槽1031、所述二级清洗子槽1032和所述三级清洗子槽1033的外侧壁设置有保温层1037。
具体的，如图2所示，在本实施例中，在一级清洗子槽1031、二级清洗子槽1032和三级清洗子槽1033的外侧壁还设置有保温层1037，且保温层1037与外侧壁之间设置有夹套或电加热结构，通过电加热结构可以对一级清洗子槽1031、二级清洗子槽1032和三级清洗子槽1033的纯水进行升温，从而增加清洗效果，提高清洗效率，可选地，保温层1037的材质可以为橡塑保温材料，其具有耐寒，耐热，阻燃，防水，导热系数低的优良性能，既提高了保温效果，而且使用寿命长，安全可靠。
作为示例，所述配液腔包括互相连通的第一腔体1021、第二腔体1022、第三腔体1023以及第四腔体1024，其中，所述第一腔体1021以及所述第四腔体1024分别与所述电镀槽101上的的进液阀门1011通过管路固定连接，且所述第四腔体1024与所述电镀槽101的连接管路上设置有第一电磁阀104和流量计105。
具体的，如图1和图2所示，在本实施例中，镀液配置系统包括配液腔以及自动控制装置，所述配液腔与所述电镀槽101上的进液阀门1011之间通过镀液回流管路连接，配液腔包括互相连通的第一腔体1021、第二腔体1022、第三腔体1023以及第四腔体1024，将金属离子粉末加入到第一腔体1021内，第一腔体1021与电镀槽101上的的进液阀门1011通过管路固定连接，由于在电镀槽101内还设置有第一浓度检测装置，当第一浓度检测装置检测到电镀槽101内的电镀液浓度下降而无法满足电镀需要时，自动控制装置在接收到第一浓度检测装置的检测信号后，可以控制电镀槽101上的的进液阀门1011开启以使得电镀槽101内的电镀液进入到第一腔体1021内与金属离子粉末混合，未溶解的剩余金属粉末继续在第二腔体1022和第三腔体1023内慢慢溶解，然后流入第四腔体1024，在第四腔体1024内还设置有第二浓度检测装置，第二浓度检测装置检测到第四腔体1024内的电镀液浓度可以满足电镀需要时，自动控制装置接收到第二浓度检测装置的检测信号后，可以控制第四腔体1024与电镀槽101的连接管路上设置的第一电磁阀104以及电镀槽101上的进液阀门1011，从而使得第四腔体1024内的电镀液能够进入到电镀槽101中，此外，在第四腔体1024与电镀槽101的连接管路上还设置有流量计105，从而将进入电镀槽101中的电镀液的流量进行数字化，以方便工作人员根据流量计105显示的流量数值大小来适当调节第一电磁阀104或进液阀门1011的开合大小。
作为示例，所述电镀槽101内还设置有液位传感器，所述液位传感器与所述自动控制装置通信连接。
具体的，在本实施例中，在电镀槽101内还设置有液位传感器，液位传感器与自动控制装置通信连接，液位传感器可以感知电镀槽101内的液位高度并将液位信息实时传输至自动控制装置，当电镀槽101内的电镀液添加到液位传感器所在的高度时，自动控制装置可以关闭电镀槽101上的进液阀门1011从而使得电镀槽101内的电镀液的数量不会由于量太大而溢出，从而避免了浪费。
综上所述，本实用新型提供一种用于链式水平电镀设备的清洗装置，其中，清洗装置包括电镀槽101、镀液配置系统以及水洗槽103，在水洗槽103内设置有多级清洗子槽，由于镀件会在多级清洗子槽内被清洗从而使得多级清洗子槽内的水中含有一定量的金属离子，通过镀液配置系统接受电镀槽101内的液位以及溶液浓度信息，以控制阀门的开启与关闭，从而使得多级清洗子槽中的水能够进入到电镀槽101中以补充由于镀件的移动而带走的部分溶液，从而大幅度降低链式水平电镀设备的用水量，也杜绝了电镀液的大量浪费，此外，由于对多级清洗子槽内含有一定量的金属离子的水的再次利用，从而降低了含有金属离子的废水排放量，减少了污水处理成本。
上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。
Claims (8)
1.一种用于链式水平电镀设备的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置至少包括：
电镀槽，所述电镀槽上设置有多个进液阀门，且所述电镀槽内设置有第一浓度检测装置；
镀液配置系统，所述镀液配置系统包括配液腔以及自动控制装置，所述配液腔与所述电镀槽上的进液阀门之间通过镀液回流管路连接，在所述配液腔内设置有第二浓度检测装置，所述第一浓度检测装置和所述第二浓度检测装置与所述自动控制装置通信连接；
水洗槽，所述水洗槽与所述电镀槽上的进液阀门连接且所述水洗槽内设置有多级清洗子槽，所述多级清洗子槽的侧壁上设置有通水孔。
2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于：所述多级清洗子槽包括依次连接的一级清洗子槽、二级清洗子槽和三级清洗子槽，所述一级清洗子槽与外部盛放纯水的装置连接，所述三级清洗子槽与所述电镀槽上的进液阀门通过管路连接，所述一级清洗子槽与所述二级清洗子槽之间设置有第一溢流通道，所述二级清洗子槽与所述三级清洗子槽之间设置有第二溢流通道。
3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于：所述一级清洗子槽、所述二级清洗子槽和所述三级清洗子槽内分别设置有溢流板，所述溢流板将所述一级清洗子槽分割成第一溢流区和第一清洗区，将所述二级清洗子槽分割成第二溢流区和第二清洗区以及将所述三级清洗子槽分割成第三溢流区和第三清洗区，其中，所述第一溢流区与所述第二清洗区之间通过所述第一溢流通道连接，所述第二溢流区与所述第三清洗区之间通过所述第二溢流通道连接。
4.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于：所述第一溢流通道与所述第二溢流通道上分别设置有溢流泵和阀门。
5.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于：所述一级清洗子槽、所述二级清洗子槽和所述三级清洗子槽的外侧壁设置有保温层。
6.根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于：所述保温层与外侧壁之间设置有夹套或电加热结构。
7.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于：所述配液腔包括互相连通的第一腔体、第二腔体、第三腔体以及第四腔体，其中，所述第一腔体以及所述第四腔体分别与所述电镀槽上的进液阀门通过管路固定连接，且所述第四腔体与所述电镀槽的连接管路上设置有第一电磁阀和流量计。
8.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于：所述电镀槽内还设置有液位传感器，所述液位传感器与所述自动控制装置通信连接。
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| CN (1) | CN219342371U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN118345488A (zh) * | 2024-05-11 | 2024-07-16 | 江苏苏讯新材料科技股份有限公司 | 一种电镀液循环多级回用控制系统 |
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2023
- 2023-04-18 CN CN202320876928.0U patent/CN219342371U/zh active Active
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN118345488A (zh) * | 2024-05-11 | 2024-07-16 | 江苏苏讯新材料科技股份有限公司 | 一种电镀液循环多级回用控制系统 |
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Legal Events
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| GR01 | Patent grant | ||
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Effective date of registration: 20240109 Address after: 200120 Room 101, building 33, No. 1387, Zhangdong Road, China (Shanghai) pilot Free Trade Zone, Pudong New Area, Shanghai Patentee after: Shanghai pudate Semiconductor Equipment Co.,Ltd. Patentee after: Shanghai Pudate Equipment Technology Co.,Ltd. Patentee after: Pudate Semiconductor Equipment (Xuzhou) Co.,Ltd. Address before: 200120 Room 101, building 33, No. 1387, Zhangdong Road, China (Shanghai) pilot Free Trade Zone, Pudong New Area, Shanghai Patentee before: Shanghai pudate Semiconductor Equipment Co.,Ltd. Patentee before: Shanghai Pudate Equipment Technology Co.,Ltd. |
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