CN219122550U - 显示面板和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本公开实施例提供一种显示面板和显示装置。显示面板,包括:第一基板,包括第一基底以及设置在第一基底一侧的多个第一隔垫物;第二基板,与第一基板相对设置,第一隔垫物朝向第二基板,第二基板包括第二基底以及设置在第二基底的朝向第一基板一侧的薄膜晶体管,第二基板还包括平坦层和多个凸台,平坦层设置在薄膜晶体管上,多个凸台设置在平坦层上,第二基板还包括设置在平坦层和凸台的表面的第一配向膜,各凸台与各第一隔垫物一一对应,第一隔垫物的靠近第二基板一侧的端面在第二基底上的正投影与凸台的远离第二基底一侧的端面在第二基底上的正投影至少部分交叠。本公开的技术方案,降低了PS Mura风险。
Description
技术领域
本公开涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板和显示装置。
背景技术
液晶显示面板(Liquid Crystal Display,LCD)包括相对设置的阵列基板和彩膜基板,以及填充在阵列基板和彩膜基板之间的液晶。在LCD制备过程中,通过控制阵列基板和彩膜基板之间的液晶量,调节两个基板之间的盒厚(Cell Gap),来控制LCD加电状态下的明暗和透过率。
相关技术中,为了保持盒厚的均一性,在阵列基板和彩膜基板之间设置柱形隔垫物(Post Spacer,PS)。在阵列基板或者彩膜基板受外力按压后,显示面板容易发生液晶配向异常,出现像素漏光等不良。
实用新型内容
本公开实施例提供一种显示面板和显示装置,以解决或缓解现有技术中的一项或更多项技术问题。
作为本公开实施例的第一个方面,本公开实施例提供一种显示面板,包括:
第一基板,包括第一基底以及设置在第一基底一侧的多个第一隔垫物;
第二基板,与第一基板相对设置,第一隔垫物朝向第二基板,第二基板包括第二基底以及设置在第二基底的朝向第一基板一侧的薄膜晶体管,第二基板还包括平坦层和多个凸台,平坦层设置在薄膜晶体管的朝向第一基板的一侧,多个凸台设置在平坦层的朝向第一基板的一侧,第二基板还包括设置在平坦层和凸台的表面的第一配向膜,各凸台与各第一隔垫物一一对应,第一隔垫物的靠近第二基板一侧的端面在第二基底上的正投影与凸台的远离第二基底一侧的端面在第二基底上的正投影至少部分交叠。
在一个实施例中,第一隔垫物的靠近第二基板一侧的端面在第二基底上的正投影位于凸台的远离第二基底一侧的端面在第二基底上的正投影范围内,第一隔垫物的靠近第二基板一侧的端面在第二基底上的正投影边界与凸台的远离第二基底一侧的端面在第二基底上的正投影边界之间具有预设距离。
在一个实施例中,预设距离等于大于3um。
在一个实施例中,凸台与平坦层的高度差的范围为0.5μm~2.0μm。
在一个实施例中,凸台在第二基底上的正投影与薄膜晶体管在第二基底上的正投影至少部分交叠。
在一个实施例中,第一基板还包括黑矩阵,黑矩阵设置在第一基底的朝向第二基板的一侧,第一隔垫物设置在黑矩阵的朝向第二基板的一侧,第一隔垫物在第一基底上的正投影位于黑矩阵在第一基底上的正投影范围内,凸台在第二基底上的正投影位于黑矩阵在第二基底上的正投影范围内。
在一个实施例中,第一隔垫物的靠近第二基板一侧的端面在第二基底上的正投影为第一条状,凸台的远离第二基底一侧的端面在第二基底上的正投影为第二条状,第一条状与第二条状交叉相交。
在一个实施例中,凸台与平坦层为一体结构,并通过同一次图案化工艺形成。
在一个实施例中,凸台的材质包括有机材料。
在一个实施例中,第二基板还包括:
第一电极层,位于平坦层和凸台的背离第二基底的一侧;
第一绝缘层,位于第一电极层的背离第二基底的一侧;
第二电极层,位于第一绝缘层的背离第二基底的一侧,第一配向膜位于第二电极层的背离第二基底的一侧;
其中,第一电极层和第二电极层中的一种为面状电极,另一个为条状电极。
作为本公开实施例的第二方面,本公开实施例提供一种显示装置,包括本公开任一实施例中的显示面板。
本公开实施例的技术方案,通过设置凸台,增大了薄膜晶体管区域与像素开口区之间的段差,从而,在显示面板受到外力按压使得第一隔垫物的站位区域由凸台所在区域移动至像素开口区时,大大减小了第一隔垫物对像素开口区的第一配向膜的摩擦力,减小了对像素开口区的第一配向膜的损伤,不足以引起液晶配向异常,降低了PS Mura风险;甚至第一隔垫物的站位区域移动到像素开口区时,第一隔垫物不会接触到第二基板,不会对像素开口区的第一配向膜产生损伤,提升了显示面板抗PS Mura的能力。
上述概述仅仅是为了说明书的目的,并不意图以任何方式进行限制。除上述描述的示意性的方面、实施方式和特征之外,通过参考附图和以下的详细描述,本公开进一步的方面、实施方式和特征将会是容易明白的。
附图说明
在附图中,除非另外规定,否则贯穿多个附图相同的附图标记表示相同或相似的部件或元素。这些附图不一定是按照比例绘制的。应该理解,这些附图仅描绘了根据本公开的一些实施方式,而不应将其视为是对本公开范围的限制。
图1A为一种显示面板的截面示意图;
图1B为图1A所示显示面板在受到外力按压时的截面示意图;
图2为相关技术中阵列基板的截面示意图;
图3为本公开一实施例显示面板的平面示意图;
图4为本公开一实施例中显示面板的A-A截面示意图;
图5为本公开另一实施例中显示面板的平面示意图;
图6为本公开另一实施例中显示面板的平面示意图;
图7A为本公开一实施例第二基板中形成第三绝缘层后的截面示意图;
图7B为本公开一实施例第二基板中形成平坦层和凸台后的截面示意图;
图8A为采用本公开实施例的方法形成的一种第二基板的平坦层和凸台的显微镜放大示意图;
图8B为采用本公开实施例的方法形成的另一种第二基板的平坦层和凸台的显微镜放大示意图;
图8C为采用本公开实施例的方法形成的另一种第二基板的平坦层和凸台的显微镜放大示意图。
附图标记说明:
20、第一基板;21、第一基底;22、彩膜;23、黑矩阵;24、第一隔垫物;25、外敷层;26、第二配向膜;30、第二基板;31、第二基底;32、薄膜晶体管;331、平坦层;332、凸台;34、第一配向膜。
具体实施方式
在下文中,仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样,在不脱离本公开的精神或范围的情况下,可通过各种不同方式修改所描述的实施例,不同的实施例在不冲突的情况下可以任意结合。因此,附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。
在本文中,第一隔垫物的站位为第一隔垫物的朝向对侧基板的端面在对侧基板上的接触位置,第一隔垫物的站位区域为第一隔垫物的朝向对侧基板的端面在对侧基板上的正投影。
图1A为一种显示面板的截面示意图,图1B为图1A所示显示面板在受到外力按压时的截面示意图,图2为相关技术中阵列基板的截面示意图,需要说明的是,为了方便说明,图1B相对于图2省略了一些膜层。如图1A所示,显示面板包括相对设置的彩膜基板11和阵列基板12。彩膜基板11包括第一基底111、设置在第一基底111的朝向阵列基板12一侧的彩膜112和黑矩阵113,还包括设置在黑矩阵113的朝向第二基板12一侧的第一隔垫物114。阵列基板12包括第二基底121、设置在第二基底121的朝向彩膜基板11一侧的薄膜晶体管122、设置在薄膜晶体管122上的第一配向膜124。阵列基板12还可以包括像素电极125,像素电极125位于第二基底121与第一配向膜124之间,像素电极125所在的区域为像素区,像素区中的透光区为像素开口区。
示例性地,第一隔垫物114的材料为弹性树脂材料,在显示面板中,第一隔垫物114处于一定压缩状态,第一隔垫物114的下端面抵接在第一配向膜124上,也就是说,第一隔垫物114的站位位于第一配向膜124的表面。正常情况下,如图1A所示,第一隔垫物114在第二基板12上的站位区域位于薄膜晶体管122所在的区域内。从而,第一隔垫物114的站位位于薄膜晶体管122上方的第一配向膜124的表面。需要说明的是,本文中的“正常情况下”为显示面板没有受到外力按压的情况下。
由于第一隔垫物114处于一定压缩状态,因此,第一隔垫物114的下端面对第一配向膜124存在作用力。在彩膜基板11或阵列基板12受到外力按压产生变形时,会导致第一隔垫物114的下端面发生位移。如果第一隔垫物114的下端面的实际位移量大于第一隔垫物114的下端面与黑矩阵113边缘的水平距离,那么,第一隔垫物114在阵列基板12上的站位区域会由薄膜晶体管122所在区域移动至像素开口区,如图1B所示,可能导致像素开口区的第一配向膜124被第一隔垫物114划伤。尤其对于采用有机材料的平坦层123的产品,阵列基板12的表面较为平坦,如图2所示,使得第一隔垫物114更容易滑动,增大像素开口区的第一配向膜124被划伤的风险。像素开口区的第一配向膜124被划伤后,会导致相应位置液晶配向异常,使得相应位置发生像素漏光,造成PS Mura(PS缺陷)。
通过分析得知,第一隔垫物114的朝向彩膜基板12一侧的端面与黑矩阵113边缘的水平距离越小,第一隔垫物114的下端面越容易移动到像素开口区,PS Mura风险越大,也就是说,第一隔垫物114的朝向阵列基板12一侧的端面在黑矩阵113上的正投影与黑矩阵113边缘的距离越小,PS Mura风险越大。如果增大第一隔垫物114的朝向阵列基板一侧的端面与黑矩阵113边缘的水平距离,会使得黑矩阵113面积增大,就会影响像素开口率和透过率。
图3为本公开一实施例显示面板的平面示意图,图3中未示出第一基底,示出了第一隔垫物的站位区域和黑矩阵在第二基板上的投影边界;图4为本公开一实施例中显示面板的A-A截面示意图。本公开实施例提供一种显示面板,如图3和图4所示,显示面板包括第一基板20和第二基板30,第一基板20和第二基板30相对设置。
如图4所示,第一基板20包括第一基底21以及设置在第一基底21一侧的多个第一隔垫物24,第一隔垫物24朝向第二基板30。
如图4所示,第二基板30包括第二基底31、薄膜晶体管32、平坦层331、凸台332和第一配向膜34。薄膜晶体管32设置在第二基底31的朝向第一基板20的一侧。平坦层331设置在薄膜晶体管32的朝向第一基板20的一侧,亦即,平坦层331位于薄膜晶体管32的背离第二基底31的一侧。凸台332设置在平坦层331的朝向第一基板20的一侧,亦即,凸台332设置在平坦层31的背离第二基底31的一侧。第一配向膜34位于平坦层331和凸台332的表面。
如图4所示,凸台332的数量为多个,第一隔垫物24的数量为多个,各凸台332与各第一隔垫物24一一对应,第一隔垫物24的靠近第二基板30一侧的端面在第二基底31上的正投影与凸台332的远离第二基底31一侧的端面在第二基底31上的正投影至少部分交叠。从而,第一隔垫物24的下端面与凸台332上方的第一配向膜34接触,第一隔垫物24的站位位于凸台332上方的第一配向膜34表面。
需要说明的是,在显示面板中,如图1A和图4所示,第一隔垫物24处于一定的压缩状态,第一隔垫物24具有预设的压缩量,可以将正常显示面板中第一隔垫物24的预设压缩量设置为x1。那么,图1A中第一隔垫物114的压缩量为x1,图4中第一隔垫物24的压缩量为x1。
在图1A中,当第一隔垫物114沿第一配向膜124移动时,第一隔垫物114对第一配向膜124的摩擦力F1=μ1*N1=μ1*k1*x1,其中,μ1为第一隔垫物114与第一配向膜124之间的摩擦系数,k1为第一隔垫物的弹性系数。由于图1A中薄膜晶体管区域与像素开口区无段差,当第一隔垫物114的下端面从薄膜晶体管区域移动至像素开口区时,第一隔垫物114对像素开口区的摩擦力为F1。
在图4中,凸台332与像素开口区存在段差d1。正常状态下,第一隔垫物24的站位位于凸台332上方的第一配向膜34表面,第一隔垫物24的压缩量为x1。当显示面板受到外力,使得第一隔垫物24的站位移动到像素开口区时,第一隔垫物24对像素开口区的第一配向膜34的摩擦力F2=μ2*N2=μ2*k2*(x1-d1),其中,μ2为第一隔垫物24与第一配向膜34之间的摩擦系数,k2为第一隔垫物24的弹性系数。μ1=μ2,k1=k2,所以,F2<F1,第一隔垫物24对像素开口区的第一配向膜的摩擦力小于第一隔垫物24对凸台332上方的第一配向膜的摩擦力。另外,当段差d1足够大时,例如段差d1大于x1,那么,当第一隔垫物24的站位区域移动到像素开口区时,第一隔垫物24甚至无法接触到像素开口区的配向膜,更加不会对像素开口区的配向膜产生损伤。
因此,本公开实施例的显示面板,通过设置凸台332,增大了薄膜晶体管区域与像素开口区之间的段差,从而,在显示面板受到外力按压使得第一隔垫物24的站位区域由凸台332所在区域移动至像素开口区时,使得第一隔垫物24对第一配向膜34的摩擦力由F1改变为F2,F2<F1,相对于图1A所示的显示面板,大大减小了第一隔垫物24对像素开口区的第一配向膜的摩擦力,减小了对像素开口区的第一配向膜34的损伤,不足以引起液晶配向异常,降低了PS Mura风险;甚至第一隔垫物24的站位区域移动到像素开口区时,第一隔垫物24不会接触到第二基板,不会对像素开口区的第一配向膜34产生损伤,提升了显示面板抗PS Mura的能力。
示例性地,显示面板还可以包括第二隔垫物,第一隔垫物24可以叫做主隔垫物(Main PS),第二隔垫物可以叫做副隔垫物(Sub PS)。第一隔垫物24与凸台332的高度和大于第二隔垫物的高度,在正常情况下,显示面板的盒厚依靠第一隔垫物支撑。当显示面板受垂直外力压迫或者处于低温条件下,显示面板的盒厚降低,第一基板向第二基板靠近,导致第一隔垫物受压过度而无法提供足够支撑,或者,第一隔垫物24的站位区域划出凸台332,第一隔垫物24没有与第二基板接触而无法提供足够支撑。此时,第二隔垫物会与第二基板逐步靠近并接触,提供足够的支撑而保持盒厚的均一性。
示例性地,第一基底21的材质可以包括玻璃或者有机材料等。例如,第一基底21的材料可以为玻璃。第二基底31的材质可以包括玻璃或者有机材料等。例如,第二基底31的材料可以为玻璃。
可以理解的是,平坦层331虽然叫做平坦层,并不代表平坦层331的背离第二基底31一侧的表面绝对平坦,平坦层331的设置是为了得到相对平坦的表面。
在一个实施例中,凸台332与平坦层331之间的高度差d1的范围为0.5μm~2.0μm(包括端点值)。也就是说,凸台332的上表面与平坦层331的表面之间的段差的范围为0.5μm~2.0μm(包括端点值)。示例性地,d1可以为0.5μm~2.0μm之间的任一值,例如d1可以为0.5μm、1.0μm、1.5μm或2.0μm。
如果d1小于0.5μm,当第一隔垫物24的站位区域由凸台332所在区域移动到像素开口区时,虽然可以降低第一隔垫物24对像素开口区第一配向膜的摩擦力,但是该摩擦力仍旧会将第一配向膜划伤引起液晶配向异常。将d1设置为大于或等于0.5μm,可以使得第一隔垫物24对像素开口区配向膜的摩擦力不足以将配向膜划伤引起液晶配向异常,降低了PSMura的风险。
将d1设置为小于或等于2.0μm,可以满足工艺需求,可以制备出符合要求的凸台332。
因此,将d1设置为0.5μm~2.0μm,既可以使得第一隔垫物24对像素开口区第一配向膜的摩擦力不足以引起液晶配向异常,降低PS Mura风险,又可以满足工艺需求,保证显示面板的盒厚均一性。
通过试验验证,将d1设置为0.5μm~2.0μm,使得显示面板在不出现PS Mura的情况下承受按压的能力至少提升3Kgf。因此,本公开实施例的显示面板,将凸台332与平坦层331之间的高度差d1设置为0.5μm~2.0μm,在保证不出现PS Mura的情况下使得显示面板承受按压的能力至少提升3Kgf,亦即,将显示面板的抗PS Mura能力提升至少3Kgf。
需要说明的是,显示面板的抗PS Mura能力可以通过显示面板的承受按压能力来表征。例如,在不出现PS Mura的情况下,显示面板的承受按压能力提升3Kgf,也就是说,作用在显示面板上的垂直作用力提升3Kgf后,显示面板不会出现PS Mura,可以表述为,显示面板的抗PS Mura能力提升3Kgf。
在一种实施方式中,凸台332在第二基底31上的正投影与薄膜晶体管32在第二基底上31的正投影至少部分交叠。可以理解的是,薄膜晶体管32所在区域位于黑矩阵所在区域,将凸台332在第二基底31上的正投影设置为与薄膜晶体管32在第二基底上31的正投影至少部分交叠,使得凸台332的至少部分位于黑矩阵所在区域,减小了凸台332对开口率的影响。另外,第二基板中,由于薄膜晶体管32各膜层的存在,薄膜晶体管32所在区域的高度会高于周边区域,将凸台332设置在薄膜晶体管32所在区域,可以提高凸台332的高度,降低工艺难度。
在一种实施方式中,如图3和图4所示,第一基板20还包括黑矩阵23,黑矩阵23设置在第一基底21的朝向第二基板30的一侧,第一隔垫物24设置在黑矩阵23的朝向第二基板30的一侧。第一隔垫物24在第一基底21上的正投影位于黑矩阵23在第一基底21上的正投影范围内。凸台332在第二基底31上的正投影位于黑矩阵23在第二基底31上的正投影范围内。这样的设置方式,凸台332的设置不会降低显示面板的开口率。
在图4所示实施例中,黑矩阵23位于第一基板20,在其它实施例中,黑矩阵可以设置在第二基板30上,例如,可以在薄膜晶体管32与平坦层331之间设置黑矩阵。
图3中示出了第一隔垫物24的站位区域和黑矩阵23在第二基板上的投影边界。可以理解的是,正常情况下,第一隔垫物24的站位区域与黑矩阵23在第二基板上的投影边界d3越大,在不发生PS Mura的情况下,第一隔垫物24的站位的可允许位移量越大。也就是说,d3与显示面板的抗PS Mura能力呈线性增加趋势,黑矩阵23的遮挡宽度越大,显示面板抗PSMura能力越强。通过试验得出,黑矩阵的遮挡增加2μm,对应地,显示面板的抗PS Mura能力提升2Kgf。
本公开实施例的显示面板,通过设置凸台332,提升了显示面板的抗PS Mura能力。在相同的抗PS Mura能力的情况下,本公开实施例的显示面板中黑矩阵的遮挡宽度可以更小,提升显示面板的开口率。例如,将凸台332的厚度设置0.5μm,相比于无凸台的产品,黑矩阵的遮挡宽度可以减少3μm,大大增加了显示面板的开口率,对于10.95寸PPI为276的产品,产品开口率提升约6.0%,对于12.1寸PPI为249的产品,开口率提升约3.7%。
在一个实施例中,第一基板20还可以包括彩膜22,彩膜22设置在第一基底10的朝向第二基板30的一侧,彩膜22位于每一个像素区域。黑矩阵23位于相邻的彩膜22之间,亦即,黑矩阵23位于相邻的像素区域之间。
在一种实施方式中,如图4所示,第一隔垫物24的靠近第二基板30一侧的端面在第二基底31上的正投影位于凸台332的远离第二基底31一侧的端面在第二基底31上的正投影范围内。也就是说,在图4中,第一隔垫物24的下端面在第二基底31上的正投影位于凸台332的上端面在第二基底31上的正投影范围内。从而,第一隔垫物24的站位区域均位于凸台332的上端面,凸台332可以对第一隔垫物24提供足够的支撑,保证显示面板的盒厚均一性。
示例性地,第一隔垫物24的靠近第二基板30一侧的端面(下端面)在第二基底31上的正投影与凸台332的远离第二基底31一侧的端面(上端面)在第二基底31上的正投影重合。
在一个实施例中,第一隔垫物24的靠近第二基板30一侧的端面在第二基底31上的正投影边界与凸台332的远离第二基底31一侧的端面在第二基底31上的正投影边界之间具有预设距离d2。也就是说,第一隔垫物24的下端面在第二基底31上的正投影边界与凸台332的上端面在第二基底31上的正投影边界之间具有预设距离d2。
这样的设置方式,即使显示面板受到外力按压使得第一隔垫物24的下端面发生移动,预设距离d2的存在减小了第一隔垫物24的站位区域移出凸台332上端面所在区域的风险,减小了第一隔垫物24的站位区域移动到像素开口区的风险,减小了第一隔垫物24的下端面滑动到像素开口区的风险,降低像素开口区的第一配向膜被划伤的风险,进一步降低PS Mura风险。
在一个实施例中,如图3所示,预设距离d2等于或大于3μm。将d2设置为等于或大于3μm,可以满足工艺需求,并且将预设距离d2设置得越大,可以保证显示面板在可承受按压力范围内第一隔垫物24的下端面不会划出凸台332上端面,避免第一隔垫物24的站位区域移动到像素开口区,避免了PS Mura。
在一种实施方式中,如图3和图4所示,第一隔垫物24为柱状隔垫物。在一个实施例中,第一隔垫物24的横截面为圆形。
在一个实施例中,凸台332的朝向第一隔垫物24的一侧端面上可以设置凹槽,第一隔垫物24的朝向凸台332的一端(即第一隔垫物24的下端)可以嵌入凹槽内。从而,在显示面板受到外力按压时,凹槽可以限制第一隔垫物24下端的移动,将第一隔垫物24的站位限定在凹槽内,避免第一隔垫物24的下端移动到像素开口区划伤第一配向膜,避免了PS Mura。示例性地,第一隔垫物24的下端面在第二基底31上的正投影可以位于凹槽在第二基底31上的正投影范围内,从而,凹槽可以为第一隔垫物24的下端面提供一定的移动空间,对第一隔垫物24的变形起到缓冲作用,防止第一隔垫物24损伤。凹槽的深度和具体尺寸可以根据需要设置,在此不作具体限定。
图5为本公开另一实施例中显示面板的平面示意图。在一个实施例中,如图5所示,第一隔垫物24的靠近第二基板30一侧的端面在第二基底31上的正投影为第一条状。凸台332的远离第二基底31一侧的端面在第二基底31上的正投影为第二条状,第一条状与第二条状交叉相交。这样的结构,第一隔垫物24的下端面在凸台332上端面的可允许移动量更大,而不会移动到像素开口区,更好地防止了PS Mura。
在一个实施例中,第一条状与第二条状交叉相交的位置位于凸台332上端面的中心,从而,凸台332可以从两侧对第一隔垫物24提供较大区域的支撑。
示例性地,第一条状的延伸方向可以与第二条状的延伸方向相垂直。
第二基板30还可以包括多条栅线412和多条数据线443,栅线412沿第一方向X延伸,数据线443沿第二方向Y延伸。第二条状可以沿第一方向X延伸,第一条状沿第二方向Y延伸。或者,第二条状可以沿第二方向Y延伸,第一条状沿第一方向X延伸。
图6为本公开另一实施例中显示面板的平面示意图。在一个实施例中,如图6所示,第一隔垫物24的靠近第二基板30一侧的端面在第二基底31上的正投影的形状为多边形,例如三角形、四边形或者五边形等。对应地,凸台332的远离第二基底31一侧的端面在第二基底31上的正投影的形状也可以为多边形,例如三角形、四边形或者五边形等。示例性地,凸台332的远离第二基底31一侧的端面在第二基底31上的正投影的形状与第一隔垫物24的靠近第二基板30一侧的端面在第二基底31上的正投影的形状相同。
在一种实施方式中,凸台332的材质可以包括有机材料,例如有机树脂等。平坦层331的材质可以包括有机材料,例如有机树脂等。示例性地,凸台332的材质可以与平坦层331的材质相同。
在一个实施例中,凸台332与平坦层331可以为一体结构,并通过同一次图案化工艺形成,也就是说,凸台332和平坦层331在同样的工艺中同时形成。
在另一个实施例中,凸台32与平坦层331的材质可以不相同。凸台32与平坦层331可以采用两部工艺制程分别形成。
在一种实施方式中,如图4所示,第二基板30还包括第一电极层46、第一绝缘层47和第二电极层48。第一电极层46位于平坦层331和凸台332的背离第二基底31的一侧,也就是说,第一电极层46覆盖在平坦层331和凸台332的表面。第一绝缘层47也可以叫做第二钝化层(PVX2),第一绝缘层47位于第一电极层46的背离第二基底31的一侧。第二电极层48位于第一绝缘层47的背离第二基底31的一侧,第一配向膜34位于第二电极层48的背离第二基底31的一侧。
示例性地,第一电极层46和第二电极层48中的一种为面状电极,另一个为条状电极。例如,第一电极层46为面状电极,第二电极层48包括多个条状电极,如图3所示。示例性地,第一电极层46和第二电极层48中的一种为像素电极,另一个为公共电极。
在一种实施方式中,如图4所示,第一基板20还可以包括外敷层25(OC层)。示例性地,外敷层25可以位于彩膜22和黑矩阵23的朝向第二基板30的一侧,第一隔垫物24位于外敷层25的朝向第二基板30的一侧。第一基板20还可以包括第二配向膜26,第二配向膜26位于外敷层25和第一隔垫物24的朝向第二基板30的一侧。也就是说,第二配向膜26覆盖外敷层25和第一隔垫物24的表面。
在一个实施例中,显示面板可以为液晶显示面板,显示面板还包括设置在第一基板20和第二极板30之间的液晶。
本公开实施例还提供一种显示面板的制备方法,包括:提供第一基板20;提供第二基板30;将第二基板30和第一基板20相对设置。
第一基板20包括第一基底21以及设置在第一基底21一侧的多个第一隔垫物24。
第二基板30的制备方法包括:在第二基底31的一侧制备薄膜晶体管32;在第二基底31的形成有薄膜晶体管32的一侧形成平坦层331和多个凸台332,多个凸台332设置在平坦层331的背离第二基底31的一侧;在平坦层331和凸台332的背离第二基底31的一侧形成第一配向膜34。
将第二基板30和第一基板20相对设置时,凸台332朝向第一基板20,第一隔垫物24朝向第二基板30,各凸台332与各第一隔垫物24一一对应。第一隔垫物24的靠近第二基板30一侧的端面在第二基底31上的正投影与凸台332的远离第二基底31一侧的端面在第二基底31上的正投影至少部分交叠。
在第二基底31的形成有薄膜晶体管32的一侧形成平坦层331和多个凸台332,包括:在第二基底31的形成有薄膜晶体管32的一侧涂覆有机材料层;采用半透掩膜板对有机材料层进行曝光、显影,形成平坦层331和多个凸台332。
下面通过图4所示第二基板30的制备过程进一步说明本公开实施例的技术方案。可以理解的是,本文中所说的“图案化”,当图案化的材质为无机材质或金属时,“图案化”包括涂覆光刻胶、掩膜曝光、显影、刻蚀、剥离光刻胶等工艺,当图案化的材质为有机材质时,“图案化”包括掩模曝光、显影等工艺,本文中所说的蒸镀、沉积、涂覆、涂布等均是相关技术中成熟的制备工艺。
在第二基底31的一侧制备薄膜晶体管32。示例性地,该步骤可以包括:在第二基底31的一侧依次形成第一金属层、第二绝缘层42、有源层43、第二金属层和第三绝缘层45,如图7A所示,图7A为本公开一实施例第二基板中形成第三绝缘层后的截面示意图。其中,第一金属层包括栅电极411和栅线412。第二绝缘层42也可以叫做栅绝缘层(GI)。第二金属层包括源电极441、漏电极442、连接线(未示出)和数据线443,连接线与漏电极连接。第三绝缘层45开设有用于暴露连接线部分表面的第一过孔(图中未示出),第三绝缘层45可以叫做第一钝化层(PVX1)。
在第二基底31的形成有薄膜晶体管32的一侧形成平坦层331和多个凸台332。示例性地,该步骤可以包括:在第二基底31的形成有薄膜晶体管32的一侧涂布有机材料层;采用半透掩膜版(half tone mask)对有机材料层进行曝光并显影。凸台332位置的有机材料层被全部保留而形成凸台332;去除第一过孔位置的全部有机材料层形成第二过孔,第二过孔暴露连接线的部分表面;去除其它位置的部分厚度的有机材料层形成平坦层331,如图7B所示,图7B为本公开一实施例第二基板中形成平坦层和凸台后的截面示意图。凸台332与平坦层331之间的高度差d1的范围为0.5μm~2.0μm(包括端点值)。
示例性地,有机材料层的厚度可以为2μm~3μm,这个厚度的有机材料层具有平坦作用,因此,有机材料层下方的金属层对凸台332的形成基本无影响。
图8A为采用本公开实施例的方法形成的一种第二基板的平坦层和凸台的显微镜放大示意图,图8B为采用本公开实施例的方法形成的另一种第二基板的平坦层和凸台的显微镜放大示意图;图8C为采用本公开实施例的方法形成的另一种第二基板的平坦层和凸台的显微镜放大示意图。如图8A所示,凸台332相对于平坦层331的高度约为1.13μm,凸台332的坡度角T约为10.3°,坡度角的斜率约为0.18;如图8B所示,凸台332相对于平坦层331的高度约为1.31μm,凸台332的坡度角T约为12.3°,坡度角的斜率约为0.22;如图8C所示,凸台332相对于平坦层331的高度约为1.65μm,凸台332的坡度角T约为15.8°,坡度角的斜率约为0.28。通过图8A、图8B和图8C,凸台332的坡度角比较小,凸台332不会对后续形成的配向膜产生影响。
在平坦层331和凸台332的背离第二基底31的一侧形成第一电极层46。
在第一电极层46的背离第二基底31的一侧形成第一绝缘层47;在第一绝缘层47的背离第二基底31的一侧形成第二电极层48;在第二电极层48的背离第二基底31的一侧涂布第一配向膜34。
在示例性实施例中,第一绝缘层、第二绝缘层、第三绝缘层可以采用硅氧化物(SiOx)、硅氮化物(SiNx)和氮氧化硅(SiON)中的任意一种或更多种,可以是单层、多层或复合层。栅电极、源电极、漏电极可以采用金属材料,如银(Ag)、铜(Cu)、铝(Al)、钛(Ti)和钼(Mo)中的任意一种或更多种,或上述金属的合金材料,如铝钕合金(AlNd)或钼铌合金(MoNb),可以是单层结构,或者多层复合结构,如Ti/Al/Ti等。有源层可以采用非晶态氧化铟镓锌材料(a-IGZO)、氮氧化锌(ZnON)、氧化铟锌锡(IZTO)、非晶硅(a-Si)、多晶硅(p-Si)、六噻吩、聚噻吩等各种材料,即本公开适用于基于氧化物Oxide技术、硅技术以及有机物技术制造的晶体管。第一电极层、第二电极层可以采用透明导电材料,例如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)中的一种或多种。
基于前述实施例的发明构思,本公开实施例还提供了一种显示装置。该显示装置包括前述实施例的显示面板,还可以包括位于第一基板和第二基板之间的液晶。
显示装置可以为:手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
在本说明书的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本公开和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本公开的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者多个该特征。在本公开的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本公开中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接,还可以是通信;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。
在本公开中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
上文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本公开的不同结构。为了简化本公开,上文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然,它们仅仅为示例,并且目的不在于限制本公开。此外,本公开可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母,这种重复是为了简化和清楚的目的,其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。
以上,仅为本公开的具体实施方式,但本公开的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内,可轻易想到其各种变化或替换,这些都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此,本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (11)
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
第一基板,包括第一基底以及设置在所述第一基底一侧的多个第一隔垫物;
第二基板,与所述第一基板相对设置,所述第一隔垫物朝向所述第二基板,所述第二基板包括第二基底以及设置在所述第二基底的朝向所述第一基板一侧的薄膜晶体管,所述第二基板还包括平坦层和多个凸台,所述平坦层设置在所述薄膜晶体管的朝向所述第一基板的一侧,多个所述凸台设置在所述平坦层的朝向所述第一基板的一侧,所述第二基板还包括设置在所述平坦层和所述凸台的表面的第一配向膜,各所述凸台与各所述第一隔垫物一一对应,所述第一隔垫物的靠近所述第二基板一侧的端面在所述第二基底上的正投影与所述凸台的远离所述第二基底一侧的端面在所述第二基底上的正投影至少部分交叠。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一隔垫物的靠近所述第二基板一侧的端面在所述第二基底上的正投影位于所述凸台的远离所述第二基底一侧的端面在所述第二基底上的正投影范围内,所述第一隔垫物的靠近所述第二基板一侧的端面在所述第二基底上的正投影边界与所述凸台的远离所述第二基底一侧的端面在所述第二基底上的正投影边界之间具有预设距离。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述预设距离等于或大于3μm。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述凸台与所述平坦层的高度差的范围为0.5μm~2.0μm。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述凸台在所述第二基底上的正投影与所述薄膜晶体管在所述第二基底上的正投影至少部分交叠。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一基板还包括黑矩阵,所述黑矩阵设置在所述第一基底的朝向所述第二基板的一侧,所述第一隔垫物设置在所述黑矩阵的朝向所述第二基板的一侧,所述第一隔垫物在所述第一基底上的正投影位于所述黑矩阵在所述第一基底上的正投影范围内,所述凸台在所述第二基底上的正投影位于所述黑矩阵在所述第二基底上的正投影范围内。
7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一隔垫物的靠近所述第二基板一侧的端面在所述第二基底上的正投影为第一条状,所述凸台的远离所述第二基底一侧的端面在所述第二基底上的正投影为第二条状,所述第一条状与所述第二条状交叉相交。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的显示面板,其特征在于,所述凸台与所述平坦层为一体结构,并通过同一次图案化工艺形成。
9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,所述凸台的材质包括有机材料。
10.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二基板还包括:
第一电极层,位于所述平坦层和所述凸台的背离所述第二基底的一侧;
第一绝缘层,位于所述第一电极层的背离所述第二基底的一侧;
第二电极层,位于所述第一绝缘层的背离所述第二基底的一侧,所述第一配向膜位于所述第二电极层的背离所述第二基底的一侧;
其中,所述第一电极层和所述第二电极层中的一种为面状电极,另一个为条状电极。
11.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-10中任一项所述的显示面板。
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