CN218826977U - 基板处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种基板处理装置，包括：旋转卡盘，设置于腔室中，用于支撑和旋转基板；喷嘴，设置在所述基板的表面上，用于将化学液体分配到所述基板的所述表面上；回收杯，围绕所述旋转卡盘，用于接收从所述基板的所述表面排出的所述化学液体；以及处理喷嘴，用于清洁所述回收杯。

Description

基板处理装置

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，尤其是涉及一种改良的基板处理装置。

背景技术

在半导体制造过程中，为了节省成本，会将昂贵的化学药剂通过机台的回收杯回收过滤后再进行利用。回收杯是设置在靠近晶片旋转卡盘(spin chuck)周围的环型装置，化学药剂喷洒于旋转的晶片表面后，排放液会被收集于回收杯中。一般设定是将前10秒的排放液排掉废弃不用，仅收集后续约190秒的排放液。

然而，现有技术的缺点是上述收集到的排放液仍可能有残留物，例如，光刻胶(photoresist)或底部抗反射镀膜(BARC)的残留物，若储存在回收桶中无充分时间溶解或过滤处理，这些残留物就会回到晶片的表面导致缺陷发生。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种改良的基板处理装置，以解决上述现有技术的不足或缺点。

本实用新型一方面提供一种基板处理装置，包括：旋转卡盘，设置于腔室中，用于支撑和旋转基板；喷嘴，设置在所述基板的表面上，用于将化学液体分配到所述基板的所述表面上；回收杯，围绕所述旋转卡盘，用于接收从所述基板的所述表面排出的所述化学液体；以及处理喷嘴，用于清洁所述回收杯。

根据本实用新型实施例，所述回收杯具有圆环形状。

根据本实用新型实施例，至少一部分的所述排出的化学液体被收集并储存在回收桶中以进行再循环。

根据本实用新型实施例，所述化学液体包括光刻胶剥离剂组合物。

根据本实用新型实施例，所述旋转卡盘包括真空卡盘。

根据本实用新型实施例，所述处理喷嘴供应去离子水以清洁所述回收杯。

本实用新型另一方面提供一种基板处理设备，包括：旋转卡盘，设置于腔室中，用于支撑和旋转基板；喷嘴，设置在所述基板的表面上，用于将化学液体分配到所述基板的所述表面上；第一回收杯，围绕所述旋转卡盘，用于接收来自所述基板的所述表面的所述化学液体的第一排放液；以及第二回收杯，围绕所述旋转卡盘，用于接收从所述基板的所述表面排出的所述化学液体的第二次排放液。

根据本实用新型实施例，所述第一回收杯和所述第二回收杯具有圆环形状。

根据本实用新型实施例，所述第一回收杯具有第一导向壁，所述第二回收杯具有第二导向壁，所述第二导向壁高于所述第一导向壁。

根据本实用新型实施例，仅将所述化学液体的所述第二次排放液收集并储存在回收桶中以进行再利用。

根据本实用新型实施例，所述化学液体的所述第一排放液被废弃。

根据本实用新型实施例，所述化学液体包括光刻胶剥离剂组合物。

根据本实用新型实施例，所述旋转卡盘包括真空卡盘。

本实用新型的优点在于，第一回收杯具有第一导向壁，第二回收杯具有第二导向壁，第二导向壁高于第一导向壁。基板被升高至预定位置后，后续的约190秒从基板的表面排出的第二排放液是被第二回收杯收集并储存在回收桶中以进行再循环利用，可以解决现有技术中排放液存有残留物的缺陷。

附图说明

图1例示本实用新型化学药剂回收系统的示意图；

图2为本实用新型基板处理装置的示意图；

图3和图4为本实用新型另一基板处理装置的示意图。

主要元件符号说明

1、2基板处理装置

10、20箭头

S化学药剂回收系统

SC清洗腔室

SP管线

SV阀件

SPP泵

ST回收桶

SE运送及处理单元

WC旋转卡盘

W基板

WS表面

NZ喷嘴

NZC处理喷嘴

SOL化学液体

RC回收杯

RC1第一回收杯

RC2第二回收杯

D1第一排放液

D2第二排放液

GW1第一导向壁

GW2第二导向壁

具体实施方式

在下文中，将参照附图说明细节，该些附图中的内容也构成说明书细节描述的一部分，并且以可实行该实施例的特例描述方式来绘示。下文实施例已描述足够的细节使该领域的一般技术人员得以具以实施。

当然，也可采行其他的实施例，或是在不悖离文中所述实施例的前提下作出任何结构性、逻辑性、及电性上的改变。因此，下文的细节描述不应被视为是限制，反之，其中所包含的实施例将由随附的权利要求来加以界定。

请参阅图1，其例示本实用新型化学药剂回收系统。如图1所示，本实用新型化学药剂回收系统S包含清洗腔室SC，其排放出的化学药剂，例如，溶剂、光刻胶剥离剂组合物等，经由管线SP、阀件SV和泵SPP的运送和控制，可以被收集到回收桶ST中，再经由运送及处理单元SE将回收的化学药剂送回清洗腔室SC重新利用。跟据本实用新型实施例，运送及处理单元SE可以包括泵(pump)、过滤器(filter)、加热器(heater)或冷却器(cooler)等等装置，但不限于此。

请参阅图2，其为本实用新型基板处理装置1的示意图。如图2所示，基板处理装置1包括：旋转卡盘WC，设置于腔室SC中，用于支撑和旋转基板W，例如，半导体晶片。在基板W的表面上设置有喷嘴NZ，用于将化学液体SOL分配到基板W的表面WS上。

此外，在腔室SC中另设置有回收杯RC，围绕旋转卡盘WC，用于接收从基板W的表面WS排出的化学液体SOL。本领域技术人员应能理解图中的回收杯仅为简化的侧面图。根据本实用新型实施例，回收杯RC是具有连续的圆环形状，环绕着旋转卡盘WC。

根据本实用新型实施例，在靠近回收杯RC的上方处，设置有处理喷嘴NZC，用于现场即时地清洁回收杯RC。如图中的箭头10所示，前10秒从基板W的表面WS排出的化学液体SOL是被排掉弃置不回收的。随后，通过处理喷嘴NZC，以去离子水(DI water)充分地清洗回收杯RC。在完成清洗后，如箭头20所示，再将后续约190秒内从基板W的表面WS排出的化学液体SOL收集并储存在回收桶ST中以进行再循环利用。

根据本实用新型实施例，化学液体SOL可以包括光刻胶剥离剂组合物。根据本实用新型实施例，旋转卡盘WC包括真空卡盘。根据本实用新型实施例，处理喷嘴NZC供应去离子水以清洁回收杯RC。

请参阅图3和图4，其为本实用新型基板处理装置2的示意图。如图3和图4所示，基板处理设备2包括：旋转卡盘WC，设置于腔室SC中，用于支撑和旋转基板W。在基板W的表面WS上同样设置有喷嘴NZ，用于将化学液体SOL分配到基板W的表面WS上。

根据本实用新型实施例，基板处理设备2另包括：第一回收杯RC1，围绕旋转卡盘WC，用于接收来自基板W的表面WS的化学液体SOL的第一排放液D1。如图3中的箭头10所示，前10秒从基板W的表面WS排出的第一排放液D1是被排掉弃置不回收的。

根据本实用新型实施例，基板处理设备2另包括：第二回收杯RC2，围绕旋转卡盘WC，用于接收从基板W的表面WS排出的化学液体SOL的第二次排放液D2。根据本实用新型实施例，第一回收杯RC1和第二回收杯RC2均具有圆环形状。

根据本实用新型实施例，第一回收杯RC1具有第一导向壁GW1，第二回收杯RC2具有第二导向壁GW2，第二导向壁GW2高于第一导向壁GW1。如图4中的箭头20所示，基板W被升高至预定位置后，后续的约190秒从基板W的表面WS排出的第二排放液D2是被第二回收杯RC2收集并储存在回收桶ST中以进行再循环利用。

根据本实用新型实施例，化学液体SOL包括光刻胶剥离剂组合物。根据本实用新型实施例，旋转卡盘WC包括真空卡盘。

同样的，本领域技术人员应能理解图中的第一回收杯RC1和第二回收杯RC2仅为简化的侧面图。根据本实用新型实施例，第一回收杯RC1和第二回收杯RC2是具有连续的圆环形状，环绕着旋转卡盘WC。当然，本领域技术人员应能理解，在本实用新型其他实施例中，图2和图3、4中的技术特征是可以互相结合的。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例，凡依本实用新型权利要求所做的均等变化与修饰，都应属本实用新型的涵盖范围。

Claims (13)

1.一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置包括：

旋转卡盘，设置于腔室中，用于支撑和旋转基板；

喷嘴，设置在所述基板的表面上，用于将化学液体分配到所述基板的所述表面上；

回收杯，围绕所述旋转卡盘，用于接收从所述基板的所述表面排出的所述化学液体；以及

处理喷嘴，用于清洁所述回收杯。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述回收杯具有圆环形状。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，至少一部分的所述排出的化学液体被收集并储存在回收桶中以进行再循环。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述化学液体为光刻胶剥离剂组合物。

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述旋转卡盘包括真空卡盘。

6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述处理喷嘴供应去离子水以清洁所述回收杯。

7.一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置包括：

旋转卡盘，设置于腔室中，用于支撑和旋转基板；

喷嘴，设置在所述基板的表面上，用于将化学液体分配到所述基板的所述表面上；

第一回收杯，围绕所述旋转卡盘，用于接收来自所述基板的所述表面的所述化学液体的第一排放液；以及

第二回收杯，围绕所述旋转卡盘，用于接收从所述基板的所述表面排出的所述化学液体的第二次排放液。

8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，所述第一回收杯和所述第二回收杯具有圆环形状。

9.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，所述第一回收杯具有第一导向壁，所述第二回收杯具有第二导向壁，所述第二导向壁高于所述第一导向壁。

10.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，仅将所述化学液体的所述第二次排放液收集并储存在回收桶中以进行再利用。

11.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，所述化学液体的所述第一排放液被废弃。

12.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，所述化学液体为光刻胶剥离剂组合物。

13.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，所述旋转卡盘包括真空卡盘。

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