CN218737247U

CN218737247U - 发热组件、雾化器及电子雾化装置

Info

Publication number: CN218737247U
Application number: CN202221816781.8U
Authority: CN
Inventors: 宇佳莉; 周宇
Original assignee: Jiangmen Simore New Material Technology Co ltd
Current assignee: Jiangmen Simore New Material Technology Co ltd
Priority date: 2022-07-13
Filing date: 2022-07-13
Publication date: 2023-03-28
Anticipated expiration: 2032-07-13

Abstract

本申请公开了一种发热组件、雾化器及电子雾化装置，发热组件包括导液体和发热体；发热体为金属网状结构，发热体包括相对设置的第一表面和第二表面，发热体的第一表面与导液体贴合设置；第一表面和/或第二表面具有凹凸结构，凹凸结构包括多个凹槽，凹槽的深度为10μm‑80μm，以增大气溶胶生成基质与发热体的接触面积和/或发热体的雾化面积，提升雾化效率，进而提高发热体雾化的充分性。

Description

发热组件、雾化器及电子雾化装置

技术领域

本申请涉及雾化技术领域，尤其涉及一种发热组件、雾化器及电子雾化装置。

背景技术

电子雾化装置主要由雾化器和主机构成。雾化器包括储液腔和发热组件，储液腔用于储存气溶胶生成基质，发热组件雾化气溶胶生成基质生成供用户吸食的气溶胶。主机包括电池，用于向发热组件供电，以使发热组件雾化生成气溶胶。发热组件作为电子雾化装置的核心元件，其特性决定了电子雾化装置的雾化效果和使用体验。而电子雾化装置的雾化口感和使用寿命与发热组件雾化的充分性有着强相关的联系。

实用新型内容

本申请提供的发热组件、雾化器和电子雾化装置，以提高发热组件雾化的充分性。

为了解决上述技术问题，本申请提供的第一个技术方案为：提供一种发热组件，包括导液体和发热体；所述发热体为金属网状结构；所述发热体包括相对设置的第一表面和第二表面，所述发热体的第一表面与所述导液体贴合设置；所述第一表面和/或所述第二表面具有凹凸结构，所述凹凸结构包括多个凹槽，所述凹槽的深度为 10μm-80μm。

在一实施方式中，多个所述凹槽呈长条形，且多个所述凹槽以直线和/或曲线和/或折线延伸。

在一实施方式中，所述凹槽底部的宽度为15μm-80μm；多个所述凹槽底部的宽度相同或不同。

在一实施方式中，相邻的凹槽之间的间距为15μm-60μm，相邻的凹槽之间的间距相同或不同；

和/或，多个所述凹槽的截面形状为三角形、矩形、梯形、半圆形或椭圆形；多个所述凹槽的截面形状相同或不同。

在一实施方式中，所述多个凹槽包括多个沿第一方向延伸的第一子槽和多个沿第二方向延伸的第二子槽，所述第一子槽与所述第二子槽交叉，相邻的所述第一子槽与相邻的所述第二子槽之间形成一个凸起，所述凹凸结构包括多个所述凸起；所述凸起的底部的当量直径为 15μm-60μm。

在一实施方式中，所述第一子槽底部的宽度和所述第二子槽底部的宽度为15μm-80μm；多个所述第一子槽底部的宽度相同或不同，多个所述第二子槽底部的宽度相同或不同。

在一实施方式中，多个所述凸起为锥体、圆柱、圆台或正方体；多个所述凸起的形状相同或不同；

和/或，多个所述凸起呈阵列排布或多个所述凸起无规则排列。

在一实施方式中，所述凹槽底部的当量直径为15μm-60μm；

和/或，多个所述凹槽呈阵列排布或多个所述凹槽无规则排列。

为了解决上述技术问题，本申请提供的第二个技术方案为：提供一种雾化器，包括储液腔和发热组件；所述储液腔用于存储气溶胶生成基质；所述发热组件与所述储液腔流体连通且用于雾化所述气溶胶生成基质；所述发热组件为上述任一项所述的发热组件。

为了解决上述技术问题，本申请提供的第三个技术方案为：提供一种电子雾化装置，包括雾化器和主机；所述雾化器用于存储和雾化气溶胶生成基质；所述雾化器为上述所述的雾化器；所述主机与所述雾化器电连接，用于给所述雾化器的所述发热组件供电。

本申请的有益效果：区别于现有技术，本申请公开了一种发热组件、雾化器及电子雾化装置，发热组件包括导液体和发热体；发热体为金属网状结构，发热体包括相对设置的第一表面和第二表面，发热体的第一表面与导液体贴合设置；第一表面和/或第二表面具有凹凸结构，凹凸结构包括多个凹槽，凹槽的深度为10μm-80μm，以增大气溶胶生成基质与发热体的接触面积和/或发热体的雾化面积，提升雾化效率，进而提高发热体雾化的充分性。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1是本申请提供的电子雾化装置的一实施例的结构示意图；

图2是本申请一实施例提供的雾化器的结构示意图；

图3是图2中所示的发热组件的结构示意图；

图4是图3中所示的发热体展平状态的结构示意图；

图5是图4中所示发热体的A区域的放大结构示意图；

图6是图4中所示发热体的凹凸结构另一实施方式的局部结构示意图；

图7是图4中所示发热体的凹凸结构又一实施方式的局部结构示意图；

图8是本申请实施例提供的发热体制备的流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

以下描述中，为了说明而不是为了限定，提出了诸如特定系统结构、接口、技术之类的具体细节，以便透彻理解本申请。

本申请中的术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个所述特征。本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。本申请实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果所述特定姿态发生改变时，则所述方向性指示也相应地随之改变。本申请实施例中的术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或组件。

在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现所述短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

下面结合附图和实施例对本申请进行详细的说明。

请参阅图1，图1是本申请提供的电子雾化装置的一实施例的结构示意图。

在本实施例中，提供一种电子雾化装置100。该电子雾化装置100 可用于气溶胶生成基质的雾化。电子雾化装置100包括相互电连接的雾化器1和主机2。

其中，雾化器1用于存储气溶胶生成基质并雾化气溶胶生成基质以形成可供用户吸食的气溶胶。该雾化器1具体可用于不同的领域，比如，医疗、美容、休闲吸食等；以下实施例均以休闲吸食为例。

雾化器1的具体结构与功能可参见以下任一实施例所涉及的雾化器1的具体结构与功能，且可实现相同或相似的技术效果，在此不再赘述。

主机2包括电池(图未示)和控制器(图未示)。电池用于为雾化器1的工作提供电能，以使得雾化器1能够雾化气溶胶生成基质形成气溶胶；控制器用于控制雾化器1工作。主机2还包括电池支架、气流传感器等其他元件。

雾化器1与主机2可以是一体设置，也可以是可拆卸连接，可以根据具体需要进行设计。

请参阅图2，图2是本申请一实施例提供的雾化器的结构示意图。

雾化器1包括壳体11、发热组件12和安装座13，发热组件12 和安装座13设置于壳体11内部。壳体11具有敞口端，安装座13位于壳体11的敞口端，并封堵该敞口端。发热组件12设于安装座13 远离该敞口端的一侧。发热组件12位于壳体11的中轴线上。壳体 11、安装座13、发热组件12配合形成储液腔10，储液腔10用于存储气溶胶生成基质。储液腔10环绕发热组件12的周向设置，发热组件12与储液腔10流体连通，发热组件12在通电(主机2给发热组件12供电)后加热雾化气溶胶生成基质以生成气溶胶。

发热组件12的内部具有雾化腔120，发热组件12雾化生成的气溶胶释放于雾化腔120。安装座13具有进气孔(图未示)，进气孔连通大气；可选地，进气孔的数量可以设置为一个或多个。壳体11 具有抽吸通道110。雾化腔120的两端分别与进气孔、抽吸通道110 连通。外界气体通过进气孔进入雾化腔120，携带雾化腔120内的气溶胶生成基质流至抽吸通道110，用户通过抽吸通道110的端口吸食气溶胶。

请参阅图3和图4，图3是图2中所示的发热组件的结构示意图，图4是图3中所示的发热体展平状态的结构示意图。

发热组件12包括导液体121和发热体122。导液体121利于其自身的毛细作用力将气溶胶生成基质导引至发热体122，发热体122 将气溶胶生成基质雾化生成气溶胶。导液体121为非闭合环状，发热体122设于导液体121的内表面。发热体122为金属网状结构；在本实施例中，发热体122为mesh发热体，其网状的具体设置方式与现有技术相同，不再赘述。可以理解，本申请是对现有mesh发热体进行改进。

具体地，发热体122包括主体部1223和连接部1224，主体部1223 呈金属网状结构，主体部1223的两端分别连接着一个连接部1224，连接部1224用于与主机2电连接。

可选的，导液体121的材料为天然纤维素或化学合成纤维或再生纤维素。天然纤维素可以是亚麻、棉等。化学合成纤维可以是聚酰亚胺(PI)、对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等。再生纤维素可以是黏胶等。例如，导液体121为导液棉。

可选的，发热体122的材料可以为铜、铁、镍、铬、钛、铝中的一种或多种结合形成的合金。

请参阅图5，图5是图4中所示发热体的A区域的放大结构示意图。

图4结合图5，发热体122包括相对设置的第一表面1221和第二表面1222，第一表面1221与导液体121贴合设置。第一表面1221 和/或第二表面1222具有凹凸结构1220，凹凸结构1220包括多个凹槽1120a，凹槽1120a的深度为10μm-80μm。

可以理解，凹槽1120a的尺寸为微纳级别的，同样体积的物体在微纳层面上表面积会比宏观上扩大1000倍甚至10000倍以上。通过在第一表面1221设有多个凹槽1120a，且凹槽1120a的深度为 10μm-80μm，显著增大了第一表面1221的表面积；而发热体122的第一表面1221与导液体121接触，也就增大了第一表面1221与气溶胶生成基质的接触面积。通过在第二表面1222设有多个凹槽1120a，且凹槽1120a的深度为10μm-80μm，显著增大了第二表面1222的表面积，也就增大了发热体122的雾化面积。增大第一表面1221与气溶胶生成基质的接触面积及发热体122的雾化面积，利于提高发热组件12的雾化效率。在发热组件12的雾化效率提高后，附着在发热体 122上未充分雾化的气溶胶生成基质就会减少，提高发热体122雾化的充分性，利于保证较好的口感和延长发热体122的使用寿命。

在一实施方式中，多个凹槽1120a呈长条形，相邻的凹槽1120a 之间形成有长条形凸起1120b。

可选的，多个凹槽1120a以直线和/或曲线和/或折线延伸。可以理解，多个凹槽1120a可以均以曲线延伸；多个凹槽1120a可以均以折线延伸；多个凹槽1120a中可以部分以直线延伸、部分以曲线延伸、部分以折线延伸，具体根据需要进行设计，使得发热体122的第一表面1221和/或第二表面1222形成多个具有微纳层次尺寸的凹槽1120a 即可。

可选的，凹槽1120a的底部的宽度为15μm-80μm，保证凹槽1120a 的尺寸为微纳层次的。

可选的，多个凹槽1120a的底部的宽度可以相同或不同。

可选的，相邻的凹槽1120a之间的间距为15μm-60μm，即，凸起 1120b的底部的宽度为15μm-60μm，保证凹凸结构1220的尺寸为微纳层次的。

可选的，相邻的凹槽1120a之间的间距可以相同或不同。可以理解，相邻的凹槽1120a之间的间距相同，多个凹槽1120a为周期性结构，即按规律排列；相邻的凹槽1120a之间的间距不同，多个凹槽 1120a为非周期性结构，即不按规律排列。

可选的，多个凹槽1120a的截面形状为三角形、矩形、梯形、半圆形或椭圆形，以使凸起1120b的截面形状为三角形、矩形、梯形、半圆形或椭圆形。

可选的，多个凹槽1120a的截面形状相同或不同，即，多个凸起 1120b的截面形状相同或不同。

示例性的，如图5中示出的多个凹槽1120a均沿直线延伸，且相互平行。

请参阅图6，图6是图4中所示发热体的凹凸结构另一实施方式的局部结构示意图。

在一实施方式中，多个凹槽1120a包括多个沿第一方向延伸的第一子槽1120c和多个沿第二方向延伸的第二子槽1120d，第一子槽 1120c与第二子槽1120d交叉，相邻的第一子槽1120c与相邻的第二子槽1120d之间形成一个凸起1120b，凹凸结构1120包括多个凸起1120b。其中，第一子槽1120c和第二子槽1120d均为长条状。

可选的，多个凸起1120b为锥体、圆柱、圆台或正方体。其中，锥体可以为圆锥或三角锥。

可选的，多个凸起1120b的形状相同或不同。

可选的，多个凸起1120b呈阵列排布或多个凸起1120b无规则排列。可以理解，多个凸起1120b呈阵列排布时，多个凸起1120b为周期性结构；多个凸起1120b无规则排列时，多个凸起1120b为非周期性结构。

可选的，凸起1120b的底部的当量直径为15μm-60μm，保证凹凸结构1220的尺寸为微纳层次的。

可选的，第一子槽1120c底部的宽度为15μm-80μm，保证凹凸结构1220的尺寸为微纳层次的。

可选的，多个第一子槽1120c底部的宽度相同或不同。

可选的，第二子槽1120d底部的宽度为15μm-80μm，保证凹凸结构1220的尺寸为微纳层次的。

可选的，多个第二子槽1120d底部的宽度相同或不同。

示例性的，图6中示出的多个第一子槽1120c均呈直线延伸，且相互平行；多个第二子槽1120d均呈直线延伸，且相互平行；多个凸起1120b呈阵列排布。

请参阅图7，图7是图4中所示发热体的凹凸结构又一实施方式的局部结构示意图。

在一实施方式中，凹槽1120a底部的当量直径为15μm-60μm，保证凹凸结构1220的尺寸为微纳层次的。凹槽1120a的横截面形状为圆形、方形、三角形等，具体根据需要进行设计。凹槽1120a的横截面指的是垂直于凹槽1120a深度方向的截面。

可选的，沿着凹槽1120a的深度方向，凹槽1120a的当量直径逐渐增大或逐渐减小或相同。

可选的，多个凹槽1120a呈阵列排布或多个凹槽1120a无规则排列。可以理解，多个凹槽1120a呈阵列排布时，多个凹槽1120a为周期性结构；多个凹槽1120a无规则排列时，多个凹槽1120a为非周期性结构。

示例性的，图7中示出的多个凹槽1120a的横截面为圆形，且多个凹槽1120a呈阵列排布。

需要说明的是，本申请提供的发热体122第一表面1221和/或第二表面1222的凹凸结构1220通过飞秒激光工艺形成。可以理解，凹凸结构1220也可以通过化学刻蚀、等离子刻蚀等工艺形成。

请参阅图8，图8是本申请实施例提供的发热体制备的流程示意图。

具体地，包括：

步骤S11：对发热体进行预处理。

将发热体122放置乙醇或蒸馏水中进行超声冲洗第一预设时间，去除表面的污渍，然后放入烘箱中设置第一预设温度下干燥第二预设时间。

可选的，第一预设时间为2min。

可选的，第一预设温度为50℃。

可选的，第二预设时间为5min～10min。

步骤S12：对发热体表面通过飞秒激光进行结构处理。

用飞秒激光加工发热体122，在发热体122的第一表面1221和/ 或第二表面1222形成凹凸结构1220。

步骤S13：对发热体进行清洗。

将激光处理后的发热体122放置在乙醇或蒸馏水中进行超声冲洗第三预设时间，去除结构处理后烧蚀的粉末，然后放入烘箱中设置第二预设温度干燥第四预设时间。

可选的，第三预设时间为4min。

可选的，第二预设温度为50℃。

可选的，第四预设时间为2min～4min。

需要说明的是，本申请还对结构处理后的发热体122进行了口感和寿命测试。

实验例1：

(1)对发热体122进行预处理。将发热体122(发热体122的材料为NiCr合金)放置乙醇或蒸馏水中进行超声冲洗2min，去除表面的污渍，然后放入烘箱中设置50℃干燥5min～10min。

(2)对发热体122表面进行结构处理。用飞秒激光加工阻值为 0.2Ω的发热体122，在发热体122单表面获得凹凸结构1220，凹凸结构1220为周期性结构，单表面为第一表面1221或第二表面1222。凹凸结构1220为图6所示的结构，凸起1120b的形状为锥体，凸起1120b的底部直径25μm-30μm，第一子槽1120c和第二子槽1120d的深度为50μm-60μm。

(3)对发热体122进行清洗。将激光处理后的发热体122放置在乙醇或蒸馏水中进行超声冲洗4min，去除表面处理后烧蚀的粉末，然后放入烘箱中设置50℃干燥2min～4min。

(4)进行口感及寿命测试。将处理后发热体安装在电子雾化装置中，经专业团队评测，整体口感较未处理前提升了11％，寿命提升了20％。

实验例2：

(2)对发热体122表面进行结构处理。用飞秒激光加工阻值为 0.2Ω的发热体122，在发热体122第一表面1221和第二表面1222获得凹凸结构1220，凹凸结构1220为周期性结构。凹凸结构1220为图6所示的结构，第一表面1221和第二表面1222的凸起1120b的形状均为锥体，凸起1120b的底部直径25μm-30μm；两个表面的第一子槽1120c和第二子槽1120d的深度为14μm-16μm。

(4)进行口感及寿命测试。将处理后发热体安装在电子雾化装置中，经专业团队评测，整体口感较未处理前提升了13％。

实验例3：

(2)对发热体122表面进行结构处理。用飞秒激光加工阻值为0.2Ω的发热体122，在发热体122第一表面1221和第二表面1222获得凹凸结构1220，凹凸结构1220为周期性结构。凹凸结构1220为图6所示的结构，第一表面1221和第二表面1222的凸起1120b的形状均为锥体，凸起1120b的底部直径25μm-30μm；两个表面的第一子槽1120c和第二子槽1120d的深度为25μm-32μm。

(4)进行口感及寿命测试。将处理后发热体安装在电子雾化装置中，经专业团队评测，整体口感较未处理前提升了18％。

实验例4：

(1)对发热体122进行预处理。将发热体122(发热体122的材料为FeCrAl合金)放置乙醇或蒸馏水中进行超声冲洗2min，去除表面的污渍，然后放入烘箱中设置50℃干燥5min～10min。

(2)对发热体122表面进行结构处理。用飞秒激光加工阻值为 0.6Ω的发热体122，在发热体122第一表面1221和第二表面1222获得凹凸结构1220，凹凸结构1220为周期性结构。凹凸结构1220为图6所示的结构，第一表面1221和第二表面1222的凸起1120b的形状均为锥体，凸起1120b的底部直径25μm-30μm；两个表面的第一子槽1120c和第二子槽1120d的深度为14μm-16μm。

(4)进行口感及寿命测试。将处理后发热体安装在电子雾化装置中，经专业团队评测，整体口感较未处理前提升了10％。

实验例5：

(2)对发热体122表面进行结构处理。用飞秒激光加工阻值为1.2Ω的发热体122，在发热体122第一表面1221和第二表面1222获得凹凸结构1220，凹凸结构1220为周期性结构。凹凸结构1220为图6所示的结构，第一表面1221和第二表面1222的凸起1120b的形状均为锥体，凸起1120b的底部直径25μm-30μm；两个表面的第一子槽1120c和第二子槽1120d的深度为14μm-16μm。

实验例6：

(2)对发热体122表面进行结构处理。用飞秒激光加工阻值为 0.6Ω的发热体122，在发热体122第一表面1221和第二表面1222获得凹凸结构1220，凹凸结构1220为周期性结构。凹凸结构1220为图6所示的结构，第一表面1221和第二表面1222的凸起1120b的形状均为锥体；两个表面的第一子槽1120c和第二子槽1120d的深度为 10μm-16μm，宽度为25μm-30μm。

(4)进行口感及寿命测试。将处理后发热体安装在电子雾化装置中，经专业团队评测，整体口感较未处理前提升了7％，寿命提升了104％。

以上仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims

1.一种发热组件，其特征在于，包括：

导液体；

发热体，为金属网状结构；所述发热体包括相对设置的第一表面和第二表面，所述发热体的第一表面与所述导液体贴合设置；所述第一表面和/或所述第二表面具有凹凸结构，所述凹凸结构包括多个凹槽，所述凹槽的深度为10μm-80μm。

2.根据权利要求1所述的发热组件，其特征在于，多个所述凹槽呈长条形，且多个所述凹槽以直线和/或曲线和/或折线延伸。

3.根据权利要求2所述的发热组件，其特征在于，所述凹槽底部的宽度为15μm-80μm；多个所述凹槽底部的宽度相同或不同。

4.根据权利要求2所述的发热组件，其特征在于，相邻的凹槽之间的间距为15μm-60μm，相邻的凹槽之间的间距相同或不同；

5.根据权利要求1所述的发热组件，其特征在于，所述多个凹槽包括多个沿第一方向延伸的第一子槽和多个沿第二方向延伸的第二子槽，所述第一子槽与所述第二子槽交叉，相邻的所述第一子槽与相邻的所述第二子槽之间形成一个凸起，所述凹凸结构包括多个所述凸起；所述凸起的底部的当量直径为15μm-60μm。

6.根据权利要求5所述的发热组件，其特征在于，所述第一子槽底部的宽度和所述第二子槽底部的宽度为15μm-80μm；多个所述第一子槽底部的宽度相同或不同，多个所述第二子槽底部的宽度相同或不同。

7.根据权利要求5所述的发热组件，其特征在于，多个所述凸起为锥体、圆柱、圆台或正方体；多个所述凸起的形状相同或不同；

8.根据权利要求1所述的发热组件，其特征在于，所述凹槽底部的当量直径为15μm-60μm；

9.一种雾化器，其特征在于，包括：

储液腔，用于存储气溶胶生成基质；

发热组件，与所述储液腔流体连通且用于雾化所述气溶胶生成基质；所述发热组件为权利要求1-8任一项所述的发热组件。

10.一种电子雾化装置，其特征在于，包括：

雾化器，用于存储和雾化气溶胶生成基质；所述雾化器为权利要求9所述的雾化器；

主机，与所述雾化器电连接，用于给所述雾化器的所述发热组件供电。