CN218710096U - 一种镀膜保护层膜层结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供的一种镀膜保护层膜层结构，包括塑胶板和依次设置在塑胶板上的基底层、第一吸收层、第一介质层、第二吸收层、第二介质层、第三吸收层和保护层，其中，所述基底层为二氧化锆层，所述第一介质层和第二介质层均为硅铝层，第一吸收层、第二吸收层和第三吸收层均为五氧化三钛层，所述保护层为三氧化二铝层，本实用新型通过三氧化二铝层对五氧化三钛层进行保护，使其减少与空气接触，避免变色，同时具有防刮花耐磨的优点。
Description
技术领域
本实用新型属于光学薄片技术领域，尤其涉及一种镀膜保护层膜层结构。
背景技术
现有的薄片装饰工艺中，需要镀覆具有特定色彩的装饰膜层，色彩装饰膜层通常由Ti3O5、Nb2O5、TiO2、ZrO2、SiO2等材料镀覆而成；原有结构膜层处在大气环境下容易吸附大气环境水分子，导致表层易氧化变色。
基于上述情况，本实用新型提供一种镀膜保护层膜层结构以解决上述问题。
实用新型内容
为了达到上述目的，本实用新型采取了以下技术方案：
本实用新型提供一种镀膜保护层膜层结构，包括塑胶板和依次设置在塑胶板上的基底层、第一吸收层、第一介质层、第二吸收层、第二介质层、第三吸收层和保护层，其中，所述基底层为二氧化锆层，所述第一介质层和第二介质层均为硅铝层，第一吸收层、第二吸收层和第三吸收层均为五氧化三钛层，所述保护层为三氧化二铝层。
对于本实用新型的改进，所述二氧化锆层的厚度在10-90nm之间选择。
对于本实用新型的改进，所述五氧化三钛层的厚度在10-90nm之间选择。
对于本实用新型的改进，所述硅铝层的厚度在10-90nm之间选择。
对于本实用新型的改进，所述三氧化二铝层的厚度在10-90nm之间选择。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果：
本实用新型提供的一种镀膜保护层膜层结构，包括塑胶板和依次设置在塑胶板上的基底层、第一吸收层、第一介质层、第二吸收层、第二介质层、第三吸收层和保护层，其中，所述基底层为二氧化锆层，所述第一介质层和第二介质层均为硅铝层，第一吸收层、第二吸收层和第三吸收层均为五氧化三钛层，所述保护层为三氧化二铝层，本实用新型通过三氧化二铝层对五氧化三钛层进行保护，使其减少与空气接触，避免变色，同时具有防刮花耐磨的优点。
附图说明
图1为本实用新型镀膜保护层膜层结构一种方向的截面示意图。
本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语中“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或组件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“连接”、“相连”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以是通过中间媒介间接相连，可以是两个组件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型的具体含义。
如附图1所示，本实用新型提供一种镀膜保护层膜层结构，包括塑胶板1和依次设置在塑胶板1上的基底层2、第一吸收层3、第一介质层4、第二吸收层5、第二介质层6、第三吸收层7和保护层8，其中，所述基底层2为二氧化锆层，所述第一介质层4和第二介质层6均为硅铝层，第一吸收层3、第二吸收层5和第三吸收层7均为五氧化三钛层，所述保护层8为三氧化二铝层。
在一些实施例中，所述二氧化锆层的厚度在10-90nm之间选择。
所述五氧化三钛层的厚度在10-90nm之间选择。
所述硅铝层的厚度在10-90nm之间选择。
所述三氧化二铝层的厚度在10-90nm之间选择。
综上所述，本实用新型采用硅铝层代替二氧化硅起到中和膜层的作用，使其拉伸性能更好，不易膜裂，硅铝材料特性针对塑胶板1材结合性更佳，采用三氧化二铝作为外层保护，使得五氧化三钛不直接暴露在大气环境下，不易氧化变色，采用三氧化二铝作为最外层，在大气环境下不易变色氧化更具耐刮性，采用硅铝层及三氧化二铝层沉积到塑胶板1材使得膜层和板材更具拉伸性，解决了塑胶板1材成膜易膜裂、变色等问题。
可以理解的是，对本领域普通技术人员来说，可以根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，而所有这些改变或替换都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。
Claims (5)
1.一种镀膜保护层(8)膜层结构，其特征在于：包括塑胶板(1)和依次设置在塑胶板(1)上的基底层(2)、第一吸收层(3)、第一介质层(4)、第二吸收层(5)、第二介质层(6)、第三吸收层(7)和保护层(8)，其中，所述基底层(2)为二氧化锆层，所述第一介质层(4)和第二介质层(6)均为硅铝层，第一吸收层(3)、第二吸收层(5)和第三吸收层(7)均为五氧化三钛层，所述保护层(8)为三氧化二铝层。
2.根据权利要求1所述的镀膜保护层(8)膜层结构，其特征在于：所述二氧化锆层的厚度在10-90nm之间选择。
3.根据权利要求1所述的镀膜保护层(8)膜层结构，其特征在于：所述五氧化三钛层的厚度在10-90nm之间选择。
4.根据权利要求1所述的镀膜保护层(8)膜层结构，其特征在于：所述硅铝层的厚度在10-90nm之间选择。
5.根据权利要求1所述的镀膜保护层(8)膜层结构，其特征在于：所述三氧化二铝层的厚度在10-90nm之间选择。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202222048414.4U CN218710096U (zh) | 2022-08-03 | 2022-08-03 | 一种镀膜保护层膜层结构 |
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| CN202222048414.4U CN218710096U (zh) | 2022-08-03 | 2022-08-03 | 一种镀膜保护层膜层结构 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN218710096U true CN218710096U (zh) | 2023-03-24 |
Family
ID=85630070
Family Applications (1)
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| CN202222048414.4U Active CN218710096U (zh) | 2022-08-03 | 2022-08-03 | 一种镀膜保护层膜层结构 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN218710096U (zh) |
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2022
- 2022-08-03 CN CN202222048414.4U patent/CN218710096U/zh active Active
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