CN218595689U - 料带纠偏装置及质子膜涂布设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种料带纠偏装置，包括底座、支撑件及调节机构。沿第一方向行进的料带能够承载并吸附于支撑件的吸附面上，当料带沿第二方向，即宽度方向朝第一侧发生偏移时，调节机构能够沿第二方向调节吸附区域的位置，并使吸附面与料带第一侧相吸附的面积相对于第二侧变大。因此，料带的第一侧与吸附面之间的摩擦阻力也相对于第二侧变大，支撑件上的料带将产生偏转扭矩，以使料带向摩擦阻力较小的第二侧偏转，从而实现纠偏。可见，上述料带纠偏装置用于对料带进行纠偏时，只要料带能够吸附于吸附面即可，故适用范围更广。此外，本实用新型还提供了一种质子膜涂布设备。

Description

料带纠偏装置及质子膜涂布设备

技术领域

本实用新型涉及机械自动化技术领域，特别涉及一种料带纠偏装置及质子膜涂布设备。

背景技术

在工业生产中，经常涉及到对行进间的料带进行纠偏。现有的纠偏装置一般包括驱动器、导辊及导向机构，导向机构能够在驱动器的驱动下以特定的几何轨迹运动，从而使经过导向机构的料带因横向摩擦力及横截面张力分布变化而改变其横向位置，进而实现纠偏。

但是，现有的纠偏装置只有当料带的长度以及料带在导辊上所形成的包角满足要求时，才能顺利完成纠偏。在一些走带受限的情况下(譬如，料带一面为非接触面，故无法在导辊上形成有效的包角)，便无法顺利纠偏。可见，现有的纠偏装置的适用范围有限。

实用新型内容

基于此，有必要针对上述问题，提供一种适用范围更广的料带纠偏装置及质子膜涂布设备。

一种料带纠偏装置，包括：

底座，具有能够提供负压的负压腔体；

支撑件，安装于所述底座，所述支撑件具有吸附面，所述吸附面开设有与所述负压腔体连通的吸附孔，以在所述吸附面形成负压，沿第一方向行进的料带能够承载并吸附于所述吸附面；及

调节机构，能够沿第二方向调节所述吸附面与所述料带相吸附的吸附区域的位置，所述第二方向垂直于所述第一方向且平行于所述吸附面。

在其中一个实施例中，所述支撑件为真空皮带，所述底座设置有输送辊及驱动辊，所述支撑件套设于所述输送辊及所述驱动辊，并能够在所述驱动辊的驱使下沿所述第一方向进行输送。

在其中一个实施例中，所述底座上设置有支撑板，所述支撑板设置于所述底座朝向所述真空皮带的一侧。

在其中一个实施例中，所述支撑件为固定安装于所述底座的真空吸板，吸附于所述吸附面的所述料带能够相对于所述真空吸板沿所述第一方向滑动。

在其中一个实施例中，所述调节机构能够从所述支撑件背向所述吸附面的一侧遮挡所述吸附孔，并通过调节所遮挡的所述吸附孔的位置，对所述吸附区域的位置进行调节。

在其中一个实施例中，所述调节机构包括调节驱动组件、第一调节板及第二调节板，所述第一调节板及所述第二调节板分别位于所述底座所述第二方向的两侧，所述第一调节板及所述第二调节板能够遮挡所述吸附孔，所述调节驱动组件能够驱动所述第一调节板和/或所述第二调节板沿所述第二方向移动，以沿所述第二方向调节所述吸附区域的位置。

在其中一个实施例中，所述调节驱动组件包括第一驱动件及第二驱动件，所述第一驱动件及所述第二驱动件分别驱动所述第一调节板及所述第二调节板沿所述第二方向移动。

在其中一个实施例中，所述调节驱动组件包括驱动件及连杆，所述第一调节板及所述第二调节板通过所述连杆连接，所述驱动件能够带动所述第一调节板及所述第二调节板同步沿所述第二方向移动。

上述料带纠偏装置，沿第一方向行进的料带能够承载并吸附于支撑件的吸附面上，当料带沿第二方向，即宽度方向朝第一侧发生偏移时，调节机构能够沿第二方向调节吸附区域的位置，并使吸附面与料带第一侧相吸附的面积相对于第二侧变大。因此，料带的第一侧与吸附面之间的摩擦阻力也相对于第二侧变大，支撑件上的料带将产生偏转扭矩，以使料带向摩擦阻力较小的第二侧偏转，从而实现纠偏。可见，上述料带纠偏装置用于对料带进行纠偏时，只要料带能够吸附于吸附面即可，故适用范围更广。

一种质子膜涂布设备，包括涂布装置、纠偏传感器及如上述优选实施例中任一项所述的料带纠偏装置，待涂布的质子膜在进入所述涂布装置之前能够途径所述料带纠偏装置及所述纠偏传感器，并使所述质子膜的非涂布面吸附于所述料带纠偏装置的所述吸附面，所述涂布装置能够在所述质子膜的涂布面进行催化剂涂布。

在其中一个实施例中，所述料带纠偏装置与所述涂布装置之间的所述质子膜在重力作用下垂落，以使所述料带纠偏装置与所述涂布装置之间的所述质子膜呈V形。

在其中一个实施例中，所述质子膜涂布设备还包括导向限位板及辅助纠偏装置，所述导向限位板沿呈V形的所述质子膜的下降段延伸，并与位于所述下降段的所述质子膜的非涂布面抵接，所述辅助纠偏装置具有沿呈V形的所述质子膜的上升段延伸的支撑面，所述支撑面能够与位于所述上升段的所述质子膜的非涂布面相吸附，并能够带动所吸附的质子膜沿宽度方向移动。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型一个实施例中质子膜涂布设备的结构示意图；

图2为本实用新型一个实施例中料带纠偏装置的轴测图；

图3为图2所示料带纠偏装置的爆炸图；

图4为图3所示料带纠偏装置中底座的俯视图；

图5为图4所示底座的仰视图；

图6为本实用新型另一个实施例中底座的仰视图；

图7为图2所示料带纠偏装置对料带进行纠偏的场景示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

请参阅图1，本实用新型提供了一种质子膜涂布设备10及料带纠偏装置100。其中，质子膜涂布设备10包括上述料带纠偏装置100、涂布装置200及纠偏传感器300。

待涂布的质子膜在进入涂布装置200之前能够途径料带纠偏装置100及纠偏传感器300。纠偏传感器300能够实时检测质子膜的位置，以判断进入涂布装置200的质子膜是否存在偏移。当质子膜存在偏移时，纠偏传感器30能够将偏移信息反馈至控制系统，再由控制系统启动料带纠偏装置100执行纠偏动作，以对质子膜进行纠偏。

待涂布的质子膜包括非涂布面(图1所示下表面)及涂布面(图1所示上表面)，非涂布面用于与料带纠偏装置100接触，而涂布面为非接触面，在质子膜的走带过程中不允许有接触。涂布装置200能够在质子膜的涂布面进行催化剂涂布。具体在本实施例中，涂布装置200包括涂布背辊210及涂布头220。进入涂布装置200的质子膜能够绕经涂布背辊210，且由非涂布面与涂布背辊210接触，涂布头220则能够向绕经涂布背辊210的质子膜的涂布面涂布催化剂。

为保证涂布过程中质子膜的张力稳定可控，从而保证生产过程的稳定性，需要使质子膜与涂布背辊210之间形成一定的包角。但是，由于质子膜的涂布面不允许有接触，故难以通过设置过辊的方式使质子膜换向，进而与布背辊210之间形成有效的包角。

为了解决这一问题，具体在本实施例中，质子膜在重力作用下垂落于料带纠偏装置100与涂布装置200之间，以使料带纠偏装置100与涂布装置200之间的质子膜呈V形。呈V形的质子膜包括下降段、底部及上升段，质子膜在底部实现换向。因此，质子膜在重力作用下实现走带方向的变化，从而与涂布背辊210之间形成有效的包角。

为了确保呈V形的质子膜保持位置稳定，质子膜涂布设备10还包括导向限位板400，导向限位板400为长条形。具体的，导向限位板400位于质子膜的下降段的一侧并沿下降段延伸，导向限位板400的表面光滑并与下降段的质子膜的非涂布面抵接。导向限位板400能够对质子膜自由下降时提供导向及限位作用，从而保证呈V形的质子膜的位置不发生较大的偏移。

另外，呈V形的质子膜的上升段的一侧设置有辅助纠偏装置500。辅助纠偏装置500具有支撑面，支撑面沿质子膜的上升段延伸。而且，在质子膜进入涂布装置200之前支撑面能够对质子膜的非涂布面进行吸附，以为后段的质子膜走带提供的所需的张力。而且，辅助纠偏装置500还能够通过带动所吸附的质子膜沿宽度方向移动，从而控制质子膜在进入涂布装置200的位置，以进一步纠偏。

请一并参阅图2及图3，本实用新型一个实施例中的料带纠偏装置100包括底座110、支撑件120及调节机构130。

底座110具有能够提供负压的负压腔体(图未标)，负压腔体内设计有实现吸附所需的流道及腔体，能够通过管道与真空泵或者负压风机连接。

支撑件120安装于底座110，支撑件120具有吸附面，吸附面开设有与负压腔体连通的吸附孔(图未标)，以在吸附面形成负压。沿第一方向行进的料带20能够承载并吸附于吸附面。具体在本实施例中，料带20指的是质子膜，质子膜在途径料带纠偏装置100时，其非涂布面吸附于支撑件120的吸附面上。

显然，上述料带纠偏装置100也可应用于其他场景，譬如薄膜生产设备，则料带20对应为所制备的薄膜。

在本实施例中，支撑件120为真空皮带，底座110设置有输送辊111及驱动辊112，支撑件120套设于输送辊111及驱动辊112，并能够在驱动辊112的驱使下沿第一方向进行输送。

真空皮带的表面均匀开设有吸附孔，故能够形成负压。输送辊111一般设置有两个，分别位于底座110第一方向上的两端，驱动辊112则设置于两个输送辊111之间。驱动辊112可由电机驱动，能够为真空皮带提供运转所需的驱动力。料带20在途径料带纠偏装置100时，料带20能够被真空皮带吸附并随真空皮带同步移动。也就是说，料带纠偏装置100还能够为料带20提供走带的牵引力。

进一步的，在本实施例中，底座110上设置有支撑板140，支撑板140设置于底座110朝向真空皮带的一侧。支撑板140可以是多孔板，真空皮带上的吸附孔能够通过支撑板140与底座110的负压腔体连通。支撑板140可由金属、塑料等硬度较大的材料成型。支撑板140可以与真空皮带抵接，也可与真空皮带的间隔较小距离，能够在需要时对真空皮带提供支撑，以防止真空皮带在运行过程中出现凹陷。

在另一个实施例中，支撑件120为固定安装于底座110的真空吸板，吸附于吸附面的料带20能够相对于真空吸板沿第一方向滑动。真空吸板的表面光滑，当真空吸板的表面与料带20相吸附时，并不影响料带20沿第一方向行进。真空吸板的刚性更好，不易变形，经过真空吸板的料带20能够更好地被展平。此时，料带纠偏装置100不能提供料带20走带所需的牵引力，料带20可由另外设置的主驱装置牵引实现走带。

此外，支撑件120采用真空吸板的料带纠偏装置100还能够作为上述质子膜涂布设备20中的辅助纠偏装置500。

调节机构130能够沿第二方向调节吸附面的吸附区域的位置，第二方向垂直于第一方向且平行于吸附面，也即料带20的宽度方向。吸附区域，指的是支撑件120的吸附面与料带20相吸附的区域。调节机构130可以改变吸附区域在第二方向上的尺寸，也可在吸附区域尺寸不变的前提下沿第二方向上整体移动吸附区域，从而对吸附区域在第二方向上的位置进行调节。

请一并参阅图7，当料带20沿第二方向，即宽度方向朝上侧发生偏移并需要向下侧调整料带20时，调节机构130能够向上调节吸附区域的位置，并使吸附面与料带20上侧相吸附的面积相对于下侧变大。此时，料带20的上侧与吸附面之间的摩擦阻力也相对于下侧变大，支撑件120上的料带20将产生偏转扭矩，以使料带20向摩擦阻力较小的下侧偏转，从而实现纠偏。

同理，当料带20朝下侧发生偏移并需要向上侧调整料带20时，调节机构130能够向下调节吸附区域的位置，并使吸附面与料带20下侧相吸附的面积相对于上侧变大。此时，料带20的下侧与吸附面之间的摩擦阻力也相对于上侧变大，支撑件120上的料带20将产生偏转扭矩，以使料带20向摩擦阻力较小的上侧偏转，从而实现纠偏。

由此可见，上述料带纠偏装置100用于对料带10进行纠偏时，只要料带10能够吸附于吸附面即可，对于料带10的长度以及料带10是否能够形成包角并无要求，故上述料带纠偏装置100能够应用于一些走带受限的情况，其适用范围更广。

在本实施例中，调节机构130能够从支撑件120背向吸附面的一侧遮挡吸附孔，并通过调节所遮挡的吸附孔的位置，对吸附区域的位置进行调节。具体的，支撑件120上吸附孔被遮挡的区域将无法形成吸附区域。因此，调节机构130只需要遮挡不同位置的吸附孔，便可调节吸附区域的位置，调节方便。

需要指出的是，在其他实施例中，也可通过控制负压腔体内相应位置的流道开启或关闭，来达到对吸附区域的位置进行调节的目的。

请一并参阅图4及图5，在本实施例中，调节机构130包括调节驱动组件133、第一调节板131及第二调节板132，第一调节板131及第二调节板132分别位于底座110第二方向的两侧，第一调节板131及第二调节板132能够遮挡吸附孔，调节驱动组件133能够驱动第一调节板131和/或第二调节板132沿第二方向移动，以沿第二方向调节吸附区域的位置。

第一调节板131及第二调节板132的结构相同，均为长条形的板状结构并沿第一方向延伸。第一调节板131及第二调节板132可通过导杆、滑块等结构沿第二方可滑动地安装于底座110，并伸入支撑件120的下方。第一调节板131及第二调节板132能够遮挡支撑件120的吸附孔，支撑件120上吸附孔被第一调节板131及第二调节板132遮挡的区域则无法形成吸附区域。第一调节板131及第二调节板132沿第二方向移动时，其所遮挡的吸附孔的位置也发生变化，从而使得吸附区域的位置也沿第二方向变化。

依然以图7所示为例，当料带20向上侧偏移时，调节驱动组件133驱动第一调节板131及第二调节板132均向上移动，故吸附区域整体上移，料带20上侧与吸附面相吸附的面积比料带20下侧与吸附面相吸附的面积大。此时，料带20的上侧与吸附面之间的摩擦阻力也相对于下侧变大，料带20在行进过程中将向摩擦阻力较小的下侧偏转，从而实现纠偏。

此外，纠偏过程中第二调节板132可保持不动，而仅驱动第一调节板131上移，也可使料带20上侧与吸附面相吸附的面积比料带20下侧与吸附面相吸附的面积大，从而实现纠偏。

同样的，当料带20向下侧偏移时，调节驱动组件133驱动第一调节板131及第二调节板132均向下移动，故吸附区域整体下移，料带20下侧与吸附面相吸附的面积比料带20上侧与吸附面相吸附的面积大。此时，料带20的下侧与吸附面之间的摩擦阻力也相对于上侧变大，料带20在行进过程中将向摩擦阻力较小的上侧偏转，从而实现纠偏。

进一步的，在本实施例中，调节驱动组件133包括第一驱动件1331及第二驱动件1332，第一驱动件1331及第二驱动件1332分别驱动第一调节板131及第二调节板132沿第二方向移动。

第一驱动件1331及第二驱动件1332可以是电缸、气缸或电机螺纹丝杠副结构。由于第一驱动件1331及第二驱动件1332能够单独控制第一调节板131及第二调节板132的移动过程，故在纠偏过程中针对吸附区域的位置调节更精准，纠偏效果更好。

请一并参阅图6，在另一个实施例中，调节驱动组件130包括驱动件1333及连杆1334，第一调节板131及第二调节板132通过连杆1334连接，驱动件1334能够带动第一调节板131及第二调节板132同步沿第二方向移动。

由此可见，第一调节板131及第二调节板132能够由同一个驱动件1333进行驱动，故调节驱动组件130的结构更简单。而且，在纠偏过程中可使吸附区域的总面积保持不变，故吸附面对料带20提供的吸附力的波动较小，从而使料带20能够维持稳定的走带张力。

上述料带纠偏装置100，沿第一方向行进的料带20能够承载并吸附于支撑件120的吸附面上，当料带20沿第二方向，即宽度方向朝第一侧发生偏移时，调节机构130能够沿第二方向调节吸附区域的位置，并使吸附面与料带第一侧相吸附的面积相对于第二侧变大。因此，料带20的第一侧与吸附面之间的摩擦阻力也相对于第二侧变大，支撑件120上的料带20将产生偏转扭矩，以使料带向摩擦阻力较小的第二侧偏转，从而实现纠偏。可见，上述料带纠偏装置100用于对料带20进行纠偏时，只要料带20能够吸附于吸附面即可，适用范围更广。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (11)

1.一种料带纠偏装置，其特征在于，包括：

底座，具有能够提供负压的负压腔体；

支撑件，安装于所述底座，所述支撑件具有吸附面，所述吸附面开设有与所述负压腔体连通的吸附孔，以在所述吸附面形成负压，沿第一方向行进的料带能够承载并吸附于所述吸附面；及

调节机构，能够沿第二方向调节所述吸附面与所述料带相吸附的吸附区域的位置，所述第二方向垂直于所述第一方向且平行于所述吸附面。

2.根据权利要求1所述的料带纠偏装置，其特征在于，所述支撑件为真空皮带，所述底座设置有输送辊及驱动辊，所述支撑件套设于所述输送辊及所述驱动辊，并能够在所述驱动辊的驱使下沿所述第一方向进行输送。

3.根据权利要求2所述的料带纠偏装置，其特征在于，所述底座上设置有支撑板，所述支撑板设置于所述底座朝向所述真空皮带的一侧。

4.根据权利要求1所述的料带纠偏装置，其特征在于，所述支撑件为固定安装于所述底座的真空吸板，吸附于所述吸附面的所述料带能够相对于所述真空吸板沿所述第一方向滑动。

5.根据权利要求1所述的料带纠偏装置，其特征在于，所述调节机构能够从所述支撑件背向所述吸附面的一侧遮挡所述吸附孔，并通过调节所遮挡的所述吸附孔的位置，对所述吸附区域的位置进行调节。

6.根据权利要求5所述的料带纠偏装置，其特征在于，所述调节机构包括调节驱动组件、第一调节板及第二调节板，所述第一调节板及所述第二调节板分别位于所述底座所述第二方向的两侧，所述第一调节板及所述第二调节板能够遮挡所述吸附孔，所述调节驱动组件能够驱动所述第一调节板和/或所述第二调节板沿所述第二方向移动，以沿所述第二方向调节所述吸附区域的位置。

7.根据权利要求6所述的料带纠偏装置，其特征在于，所述调节驱动组件包括第一驱动件及第二驱动件，所述第一驱动件及所述第二驱动件分别驱动所述第一调节板及所述第二调节板沿所述第二方向移动。

8.根据权利要求6所述的料带纠偏装置，其特征在于，所述调节驱动组件包括驱动件及连杆，所述第一调节板及所述第二调节板通过所述连杆连接，所述驱动件能够带动所述第一调节板及所述第二调节板同步沿所述第二方向移动。

9.一种质子膜涂布设备，其特征在于，包括涂布装置、纠偏传感器及如上述权利要求1至8任一项所述的料带纠偏装置，待涂布的质子膜在进入所述涂布装置之前能够途径所述料带纠偏装置及所述纠偏传感器，并使所述质子膜的非涂布面吸附于所述料带纠偏装置的所述吸附面，所述涂布装置能够在所述质子膜的涂布面进行催化剂涂布。

10.根据权利要求9所述的质子膜涂布设备，其特征在于，所述料带纠偏装置与所述涂布装置之间的所述质子膜在重力作用下垂落，以使所述料带纠偏装置与所述涂布装置之间的所述质子膜呈V形。

11.根据权利要求10所述的质子膜涂布设备，其特征在于，所述质子膜涂布设备还包括导向限位板及辅助纠偏装置，所述导向限位板沿呈V形的所述质子膜的下降段延伸，并与位于所述下降段的所述质子膜的非涂布面抵接，所述辅助纠偏装置具有沿呈V形的所述质子膜的上升段延伸的支撑面，所述支撑面能够与位于所述上升段的所述质子膜的非涂布面相吸附，并能够带动所吸附的质子膜沿宽度方向移动。

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