CN218304812U - 基站 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种基站，基站包括基站本体、净水箱、污水箱以及水位检测组件，基站本体设置有清洗仓，清洗仓可容纳有用于对清洁设备的拖擦件浸泡以及清洗的水；净水箱和污水箱均与清洗仓可启闭式连通；水位检测组件包括第一水位检测件以及控制器，第一水位检测件位于清洗仓，净水箱、污水箱以及第一水位检测件均与控制器信号连接；其中，第一水位检测件检测清洗仓内水位超过清洗仓的溢出水位，第一水位检测件将溢出水位信号传递至控制器，控制器控制净水箱停止出水以及污水箱吸水。本申请基站能够防止清洗仓内的水等溢出清洗仓，影响使用者使用体验；同时，提升拖擦件清洗的清洁度以及节约水量。

Description

基站

技术领域

本申请涉及清洁设备技术领域，特别是涉及一种基站。

背景技术

基站设置有清洗仓，清洗仓用于清洗清洁设备中的拖擦件。当拖擦件在清洗仓内清洗过程中，清洗仓内水存在溢出清洗仓的风险，而影响使用者使用。

实用新型内容

本申请提供一种基站，当清洁设备中的拖擦件在清洗仓内清洗过程中，清洗仓内水存在溢出清洗仓的风险，而影响使用者使用。

为解决上述技术问题，本申请提出一种基站，基站包括：基站本体，基站本体设置有清洗仓，清洗仓可容纳有用于对清洁设备的拖擦件浸泡以及清洗的水；净水箱和污水箱，净水箱和污水箱设置于基站本体内，净水箱和污水箱均与清洗仓可启闭式连通；水位检测组件，水位检测组件包括第一水位检测件以及控制器，第一水位检测件位于清洗仓，净水箱、污水箱以及第一水位检测件均与控制器信号连接；其中，第一水位检测件检测清洗仓内水位超过清洗仓的溢出水位，第一水位检测件将溢出水位信号传递至控制器，控制器控制净水箱停止出水以及污水箱吸水。

其中，基站包括过滤件，过滤件可拆卸于清洗仓，过滤件将清洗仓分成工作腔以及污水腔，工作腔位于污水腔上方，工作腔可容纳有用于对清洁设备的拖擦件浸泡以及清洗的水，第一水位检测件设置于工作腔；水位检测组件包括第二水位检测件，第二水位检测件设置于污水腔，第二水位检测件与控制器连接，第二水位检测件用于检测污水腔污水是否排空。

其中，第一水位检测件检测溢出水位信号持续时间超过预设时间，控制器提醒清理过滤件。

其中，第一水位检测件设置于工作腔的侧壁，第一水位检测件的底部与溢出水位齐平；第二水位检测件设置于污水腔的侧壁，第二水位检测件的底部与污水腔底部齐平。

其中，第一水位检测件包括至少一个第一金属片，第二水位检测件包括至少一个第二金属片，第一金属片和第二金属片均通过地线与控制器信号连接。

其中，第一水位检测件底部倾斜设置有第一斜面，第一斜面远离清洗仓内侧壁的一端朝向工作腔底部；第二水位检测件底部倾斜设置有第二斜面，第二斜面远离清洗仓内侧壁的一侧朝向污水腔底部。

其中，清洗仓内侧壁凹陷设置第一卡槽和第二卡槽，第一水位检测件卡接于第一卡槽，第二水位检测件卡接于第二卡槽。

其中，基站包括清洁组件，清洁组件设置于基站本体，清洁组件用于清理工作腔、过滤件以及污水腔中至少一个。

其中，清洁组件包括清洁刷，清洁刷可拆卸于基站本体。

其中，基站本体外表面凹陷设置有放置槽，清洁刷可拆卸于放置槽内；清洁组件包括清洗刷盖，清洗刷盖可开合于放置槽。

本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请提供一种基站，基站本体设置有清洗仓，清洗仓可容纳有用于对清洁设备的拖擦件浸泡以及清洗的水。净水箱、污水箱以及第一水位检测件均与控制器信号连接。其中，第一水位检测件检测清洗仓内水位超过清洗仓的溢出水位，第一水位检测件将溢出水位信号传递至控制器，控制器控制净水箱停止出水以及污水箱吸水。通过上述方式，能够防止清洗仓内的水等溢出清洗仓，影响使用者使用体验；同时，提升拖擦件清洗的清洁度以及节约水量。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图，其中：

图1是本申请基站与扫地机器人配合的结构示意图；

图2是本申请基站的爆炸示意图；

图3是本申请基站的第一局部爆炸示意图；

图4是本申请基站的第二局部剖面图；

图5是本申请基站的第三局部剖面图。

附图标号：10、基站；1、基站本体；11、清洗仓；111、第一卡槽；112、第二卡槽；113、第三卡槽；12、工作腔；13、污水腔；14、放置槽；2、过滤件；3、水位检测组件；31、第一水位检测件；311、第一斜面；32、第二水位检测件；33、地线；4、清洁组件；41、清洁刷；42、清洗刷盖；5、净水箱；6、污水箱；20、清洁设备。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。

下面结合实施例对本实用新型提供的基站进行详细描述。

请参阅图1、图2以及图3，图1是本申请基站与扫地机器人配合的结构示意图；图2是本申请基站的爆炸示意图；图3是本申请基站的第一局部爆炸示意图。

本申请提供了一种基站10。基站10包括基站本体1、净水箱5、污水箱6以及水位检测组件3。净水箱5、污水箱6以及水位检测组件3均位于基站本体1。基站本体1设置有清洗仓11，清洗仓11用于给清洁设备20提供电能、清洗以及烘干等功能。净水箱5和污水箱6设置于基站本体1内。净水箱5用于存储清水，同时能够净化污水变成清水。污水箱6用于存储污水。净水箱5和污水箱6分别与清洗仓11可启闭式连通。即净水箱5能够向清洗仓11提供清水以及停止清水供应，如能向清洗仓11提供一定容积的水，以对清洁设备20的拖擦件进行浸泡以及清洗。污水箱6能够将清洗仓11中污水进行收集。

水位检测组件3设置于清洗仓11。水位检测组件3包括第一水位检测件31以及控制器(图上未示意)。第一水位检测件31设置于清洗仓11的侧壁上。净水箱5、污水箱6以及第一水位检测件31均与控制器信号连接。清洗仓11内溢出水位为清洗仓11储水最大容积处，如水容积可以为200ml、250ml、300ml、350ml、400ml等。在清洁设备20驱动拖擦件转动时，清洗仓11内的水能够对拖擦件进行浸泡以及清洗。倘若第一水位检测件31检测清洗仓11内的水超过清洗仓11的溢出水位，第一水位检测件31则向控制器传递溢出水位信号。控制器控制净水箱5停止出水，同时控制器控制污水箱6开始吸水。通过上述方式，能够防止清洗仓11内的水等溢出清洗仓11，影响使用者使用体验。

相比于现有技术清洗仓11中水喷向拖擦件，而后污水迅速排出而言，本实施例中控制器控制净水箱5向清洗仓11内存储一定容积的水，对拖擦件同时进行浸泡以及清洗。在清洁设备20在进行对拖擦件清洁时中，当清洗仓11内的水位到达溢出水位时，控制器控制净水箱5停止出水，同时污水箱6吸水。当拖擦件清洗完成后，控制器控制污水箱6将清洗仓11中的污水吸走。通过上述方式，不仅能够提升使用者体验，而且也提升拖擦件清洗的清洁度，同时也能节约水量。上述清洁设备20可以为拖地机、扫地机、拖扫一体机以及吸尘器等。上述控制器为本领域技术人员常规设置，在此不做限定。

在一实施例中，基站10还包括过滤件2。过滤件2设置于清洗仓11。过滤件2将清洗仓11分隔成工作腔12以及污水腔13。工作腔12位于污水腔13上方位置处。工作腔12凹陷设置，净水箱5能够向工作腔12提供一定容积的水，以对清洁设备20的拖擦件进行浸泡以及清洗。上述过滤件2可拆卸于清洗仓11，能够实现过滤件2的安装以及拆卸，进而便于使用者能够及时清理过滤件2以及污水腔13中污渍等。上述过滤件2可以为过滤网。过滤网上设置有若干个过滤孔，用于过滤污渍等。

具体地，水位检测组件3包括第二水位检测件32。第二水位检测件32与控制器信号连接。第二水位检测件32设置于污水腔13。第二水位检测件32用于检测污水腔13污水是否排空。具体而言，清洁设备20在清洗仓11内清洗拖擦件结束后，第二水位检测件32持续检测污水腔13中是否存在污水的信号。倘若第二水位检测件32检测到存在污水的信号，则控制器控制污水箱6吸水。倘若第二水位检测件32先检测到污水信后，而后污水信号消失，则控制器控制污水箱6停止吸水，保证污水腔13内的污水被吸干净，防止清洗仓11内残留污水，产生异味，影响用户体验。

在一实施例中，在第一水位检测件31检测溢出水位信号不消失，或者溢出水位信号持续时间超过预设时间时，控制器及时发出提醒清理过滤件的信号，提醒使用者清理过滤件2，提高使用者使用体验。上述预设时间为使用者预定时间，其具体时间可以根据实际需求而定，在此不做限定。

在一实施例中，第一水位检测件31设置于工作腔12的侧壁上。第二水位检测件32部分设置于污水腔13的侧壁上。其中，第一水位检测件31的底部与溢出水位齐平，使得第一水位检测件31检测更加准确，进而能够及时控制清洗仓11内水位，从而减小水溢出清洗仓11内的风险。第二水位检测件32的底部与污水腔13底部齐平，使得第二水位检测件32更加准确，进而能够及时将污水腔13内污水排出，减小污水腔13内污水等残留，产生异味，影响用户体验。

在一实施例中，第一水位检测件31包括至少一个第一金属片(图上未示意)，第一金属片具有导电性质。第一金属片通过地线33与控制器信号连接。当清洗仓11内的水位覆盖至第一金属片的底部时，第一金属片向控制器提供防溢水位信号，其中防溢水信号用于形成低电平信号，即第一金属片向控制器提供低电平信号，控制器控制净水箱停止储水，同时污水箱6开始吸水，防止清洗仓内的水流出清洗仓外。通过上述方式，实现水位检测组件3结构更加简单且易实施，节约成本。

第二水位检测件32包括至少一个第二金属片(图上未示意)，第二金属片具有导电性质。第二金属片通过地线33与控制器信号连接。其中第一金属片以及第二金属片共用一个地线33。当污水腔13内的水被污水箱6吸干后，第二金属片断开与污水接触，控制器上低电平信号消失，而后控制器会得到高电平信号，则控制器控制污水箱6停止吸水，保证污水腔13内的污水被吸干净，防止清洗仓11内残留污水。通过上述方式，实现水位检测组件3结构更加简单且易实施。如本实施例中，第一金属片和第二金属片数量均为三个。上述第一水位检测件31以及第二水位检测件32具体检测原理如下：清洗仓11内无水时，控制器处于高电平信号。清洁设备20进入基站10浸泡以及清洗拖擦件时，净水箱5向清洗仓11内放水，会覆盖第二金属片以及地线33，使水位检测形成回路，使得控制器会得到一个低电平信号。当第一金属片的底部被水淹没时，水、第一金属片以及地线33形成水位检测回路，控制器会产生一个低电平信号。此时控制器得到两个低电平信号，控制器停止净水箱5出水，使污水箱6吸水，减少清洗仓11内的水，防止清洗仓11内的水流出基站10。在污水箱6吸水时，第二金属片会向控制器提供信号，两个低电平信号都消失时，控制器会恢复高电平信号，来检测清洗仓11内有没有残留污水，以保证清洗仓11内的水被吸干净。

在实际过程中，第一水位检测件31以及第二水位检测件32共用地线33，而后通过电线与控制器连接。通过水位的覆盖形成回路直接产生对应的高电平信号以及低电平信号，结构简单、成本低以及可靠性高。

上述第一水位检测件31以及第二水位检测件32分别可拆卸式安装于清洗仓11内侧壁，以便于第一水位检测件31以及第二水位检测件32安装以及更换。上述可拆卸安装可以通过卡接、插接、定位、固定等方式实现第一水位检测件31以及第二水位检测件32安装至清洗仓11内侧壁上。

如一具体实施例中，清洗仓11内侧壁凹陷设置第一卡槽111，第一水位检测件31卡接于第一卡槽111，便于第一水位检测件31的安装以及更换。清洗仓11内侧壁凹陷设置第二卡槽112，第二水位检测件32卡接于第二卡槽112，便于第二水位检测件32的安装以及更换。另外，清洗仓11内侧壁凹陷设置第三卡槽113。地线33卡接于第三卡槽113内，便于地线33的安装以及更换。上述第一卡槽111、第二卡槽112以及第三卡槽113位置可以根据实际情况而定。如本实施例中，第二卡槽112和第三卡槽113相邻设置。

请参阅图4，图4是本申请基站的第二局部剖面图。结合图1至图3，在一实施例中，第一水位检测件31底部倾斜设置有第一斜面311。第一斜面311远离清洗仓11内侧壁的一端朝向工作腔12底部。当工作腔12内污水到达第一水位检测件31高度时，污水能够顺着第一斜面311流下去，避免污水中的污渍等堆积至第一水位检测件31的底部，而影响第一水位检测件31检测防溢水位的准确度。

请参阅图5，图5是本申请基站的第三局部剖面图。结合图1至图3，当然，在第一水位检测件31底部设置第一斜面311的情况下，也可以考虑在第二水位检测件32底部设置对应的第二斜面(图上未示意)。如第二水位检测件32底部倾斜设置有第二斜面，第二斜面远离清洗仓11内侧壁的一侧朝向污水腔13底部。当污渍等通过过滤件2进入污水腔13内时，污渍等可能会堆积至第二水位检测件32底部位置处。通过设置第二斜面，能够避免污渍等堆积至第二水位检测件32的底部，而影响第二水位检测件32检测污水是否残留的准确度。

请回阅图2，在一实施例中，基站10包括清洁组件4，清洁组件4设置于基站本体1。当工作腔12、过滤件2以及污水腔13中至少一个存在污渍时，清洁组件4可用于清理工作腔12、过滤件2以及污水腔13中至少一个。如清洁组件4清理工作腔12或者过滤件2或者污水腔13。清洁组件4同时清理清洗仓11、过滤件2以及污水腔13。通过上述方式，能够便于使用者随时获取清洁组件4工具，能够随时清理工作腔12、过滤件2以及污水腔13等。

上述清洁组件4可以为任意结构，能够实现清洗仓11、过滤件2以及污水腔13上污渍清理即可，其具体结构不做限定。如一具体实施例中，清洁组件4包括清洁刷41。清洁刷41可拆卸于基站10外部或者基站10内部。当工作腔12、过滤件2以及污水腔13中需要清理时，使用者能够随时获取清洁刷41及时清理，减小使用者从其他位置处翻找工具进行清理时间，提升了使用者体验。

上述清洁刷41具体结构不做限定，能够清理工作腔12、过滤件2以及污水腔13中至少一个均可。另外，清洁刷41数量可以为一个、两个或者多个，其数量不做限定。上述清洁刷41可拆卸于放置槽14内，如通过挂接或者卡接方式连接。举例而言，一具体实施例中，清洁刷41可挂设在基站本体1内部。另一具体实施例中，清洁刷41卡接于基站本体1外部。当然，清洁刷41还可以通过其他方式安装在基站本体1内部，在此不做限定。

在一实施例中，基站本体1外表面凹陷设置放置槽14。放置槽14用于放置清洁刷41等。清洁刷41可拆卸安装于放置槽14内，便于清洁刷41存取。清洁组件4包括清洗刷盖42，清洗刷盖42可开启或者关闭放置槽14。通过设置清洗刷盖42，能够避免清洁刷41作为他用而被取走，同时提升基站10整体美观度。

上述清洗刷盖42可通过多种方式可开合于基站本体1外表面。如清洗刷盖42通过卡接方式、铰接方式、插接方式等安装至基站本体1外表面。如一具体实施例中，清洗刷盖42和基站本体1之间通过卡扣(图上未示意)和卡槽(图上未示意)相互配合来实现清洗刷盖42的安装，实现清洗刷盖42开合于放置槽14。在另一具体实施例中，清洗刷盖42通过铰链安装在基站本体1上，实现清洗刷盖42开合于放置槽14。

相比于现有技术，本实施例中基站本体设置有清洗仓，清洗仓可容纳有用于对清洁设备的拖擦件浸泡以及清洗的水。净水箱、污水箱以及第一水位检测件均与控制器信号连接。其中，第一水位检测件检测清洗仓内水位超过清洗仓的溢出水位，第一水位检测件将溢出水位信号传递至控制器，控制器控制净水箱停止出水以及污水箱吸水。通过上述方式，能够防止清洗仓内的清水以及污水等溢出清洗仓，影响使用者使用体验；同时，提升拖擦件清洗的清洁度以及节约水量。

以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种基站，其特征在于，所述基站(10)包括：

基站本体(1)，所述基站本体(1)设置有清洗仓(11)，所述清洗仓(11)可容纳有用于对清洁设备(20)的拖擦件浸泡以及清洗的水；

净水箱(5)和污水箱(6)，所述净水箱(5)和所述污水箱(6)设置于所述基站本体(1)内，所述净水箱(5)和所述污水箱(6)均与所述清洗仓(11)可启闭式连通；

水位检测组件(3)，所述水位检测组件(3)包括第一水位检测件(31)以及控制器，所述第一水位检测件(31)位于所述清洗仓(11)，所述净水箱(5)、所述污水箱(6)以及所述第一水位检测件(31)均与所述控制器信号连接；

其中，所述第一水位检测件(31)检测所述清洗仓(11)内水位超过所述清洗仓(11)的溢出水位，所述第一水位检测件(31)将溢出水位信号传递至所述控制器，所述控制器控制所述净水箱(5)停止出水以及所述污水箱(6)吸水。

2.根据权利要求1所述的基站，其特征在于，所述基站(10)包括过滤件(2)，所述过滤件(2)可拆卸于所述清洗仓(11)，所述过滤件(2)将所述清洗仓(11)分成工作腔(12)以及污水腔(13)，所述工作腔(12)位于所述污水腔(13)上方，所述工作腔(12)可容纳有用于对清洁设备(20)的拖擦件浸泡以及清洗的水，所述第一水位检测件(31)设置于所述工作腔(12)；

所述水位检测组件(3)包括第二水位检测件(32)，所述第二水位检测件(32)设置于所述污水腔(13)，所述第二水位检测件(32)与所述控制器连接，所述第二水位检测件(32)用于检测所述污水腔(13)污水是否排空。

3.根据权利要求2所述的基站，其特征在于，所述第一水位检测件(31)检测溢出水位信号持续时间超过预设时间，所述控制器提醒清理所述过滤件(2)。

4.根据权利要求2所述的基站，其特征在于，所述第一水位检测件(31)设置于所述工作腔(12)的侧壁，所述第一水位检测件(31)的底部与所述溢出水位齐平；所述第二水位检测件(32)设置于所述污水腔(13)的侧壁，所述第二水位检测件(32)的底部与所述污水腔(13)底部齐平。

5.根据权利要求4所述的基站，其特征在于，所述第一水位检测件(31)包括至少一个第一金属片，所述第二水位检测件(32)包括至少一个第二金属片，所述第一金属片和所述第二金属片均通过地线(33)与所述控制器信号连接。

6.根据权利要求2所述的基站，其特征在于，所述第一水位检测件(31)底部倾斜设置有第一斜面(311)，所述第一斜面(311)远离所述清洗仓(11)内侧壁的一端朝向所述工作腔(12)底部；

所述第二水位检测件(32)底部倾斜设置有第二斜面，所述第二斜面远离所述清洗仓(11)内侧壁的一侧朝向所述污水腔(13)底部。

7.根据权利要求2所述的基站，其特征在于，所述清洗仓(11)内侧壁凹陷设置第一卡槽(111)和第二卡槽(112)，所述第一水位检测件(31)卡接于所述第一卡槽(111)，所述第二水位检测件(32)卡接于所述第二卡槽(112)。

8.根据权利要求2-7任一所述的基站，其特征在于，所述基站(10)包括清洁组件(4)，所述清洁组件(4)设置于所述基站本体(1)，所述清洁组件(4)用于清理所述工作腔(12)、所述过滤件(2)以及所述污水腔(13)中至少一个。

9.根据权利要求8所述的基站，其特征在于，所述清洁组件(4)包括清洁刷(41)，所述清洁刷(41)可拆卸于所述基站本体(1)。

10.根据权利要求9所述的基站，其特征在于，所述基站本体(1)外表面凹陷设置有放置槽(14)，所述清洁刷(41)可拆卸于所述放置槽(14)内；所述清洁组件(4)包括清洗刷盖(42)，所述清洗刷盖(42)可开合于所述放置槽(14)。

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