CN218232569U - 一种带有喷嘴的cvd反应器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种带有喷嘴的CVD反应器,包括炉体、CVD反应器、传动组件、公转喷嘴组件和自转喷嘴组件,炉体的顶部固定安装有传动箱;传动组件设置在传动箱的内部,公转喷嘴组件设置在CVD反应器外侧的底部,自转喷嘴组件设置在公转喷嘴组件的两端;传动组件用于带动CVD反应器进行旋转;公转喷嘴组件带动自转喷嘴组件进行旋转。本实用新型的有益效果在于,在CVD反应设备技术领域中,通过外界的设备将原料气输送到CVD反应器中,再驱动传动组件带动CVD反应器进行旋转进行充分的混合原料气,同时利用公转喷嘴组件和自转喷嘴组件,使得原料气更加均匀的喷入炉内,大大的增加设备的实用性,提高工作效率,有利于实际的应用与操作。
Description
技术领域
本实用新型涉及CVD反应设备技术领域,尤其涉及一种带有喷嘴的CVD反应器。
背景技术
经检索,中国专利公开了一种用于CVD反应器的喷嘴装置及CVD反应器(授权公告号CN215757598U),该专利技术虽然能够通过喷嘴将原料气喷入炉内,喷嘴数量比较单一,无法充分均匀的将原料气喷入炉内,减少设备的实用性,降低工作效率,不利于实际的应用与操作。
实用新型内容
鉴于现有技术中存在的上述问题,本实用新型的主要目的在于提供一种带有喷嘴的CVD反应器。
本实用新型的技术方案是这样的:一种带有喷嘴的CVD反应器,包括炉体、CVD反应器、传动组件、公转喷嘴组件和自转喷嘴组件,所述炉体的顶部固定安装有传动箱;
所述传动组件设置在传动箱的内部,所述公转喷嘴组件设置在CVD反应器外侧的底部,所述自转喷嘴组件设置在公转喷嘴组件的两端;
所述传动组件用于带动CVD反应器进行旋转;所述公转喷嘴组件带动自转喷嘴组件进行旋转。
作为一种优选的实施方式,所述传动组件包括电机、第一主齿轮和第一从齿轮,所述电机固定安装在传动箱的顶部,所述电机的输出轴延伸至传动箱的内部,所述第一主齿轮固定安装在电机的输出轴上,所述CVD反应器转动连接在传动箱的顶部,所述CVD反应器的贯穿传动箱且延伸至炉体的内部,所述第一从齿轮固定安装在CVD反应器的外侧且位于传动箱的内部,所述第一主齿轮与第一从齿轮啮合连接。
作为一种优选的实施方式,所述公转喷嘴组件包括四个连接管和四个第一喷嘴,所述连接管等距安装在CVD反应器外侧的底部,所述连接管均与CVD反应器的内部相通,所述第一喷嘴均固定连接在连接管远离CVD反应器的一端,所述第一喷嘴均与连接管相通。
作为一种优选的实施方式,所述自转喷嘴组件包括套筒、第二主齿轮、两个第二从齿轮、两个转管、通气孔、两个连通盒和八个第二喷嘴,所述套筒转动连接在炉体内壁的顶部且位于CVD反应器的外侧,所述第二主齿轮固定安装在套筒的外侧,所述转管均转动连接在连接管的内部,所述通气孔均等距开设在转管的外侧且位于连接管的内部,所述转管的两端均延伸至连接管的外侧,所述第二从齿轮均固定安装在转管的顶端,所述连通盒均固定安装在转管的底端,所述连通盒均与转管相通,所述第二喷嘴等距安装在连通盒的底部,所述第二喷嘴均与连通盒的内部相通,所述第一喷嘴与第二喷嘴均用于CVD反应器。
作为一种优选的实施方式,所述CVD反应器的顶部固定安装有旋转接头,所述炉体的底部固定安装有排气管,所述排气管与炉体的内部相通,所述排气管的外侧设置有阀门。
作为一种优选的实施方式,所述炉体底部的四角均固定安装有炉腿,所述CVD反应器、电机均与外界的控制面板电性连接。
与现有技术相比,本实用新型的优点和积极效果在于:
在CVD反应设备技术领域中,通过外界的设备将原料气输送到CVD反应器中,再驱动传动组件带动CVD反应器进行旋转进行充分的混合原料气,同时利用公转喷嘴组件和自转喷嘴组件,使得原料气更加均匀的喷入炉内,大大的增加设备的实用性,提高工作效率,有利于实际的应用与操作。
附图说明
图1为本实用新型提供一种带有喷嘴的CVD反应器的立体结构示意图;
图2为本实用新型提供一种带有喷嘴的CVD反应器的主视剖视图;
图3为本实用新型提供一种带有喷嘴的CVD反应器的图2中A处放大图;
图4为本实用新型提供一种带有喷嘴的CVD反应器的图2中B处放大图。
图例说明:1、炉体;2、传动箱;3、电机;4、第一主齿轮;5、第一从齿轮;6、CVD反应器;7、旋转接头;8、连接管;9、套筒;10、第二主齿轮;11、第二从齿轮;12、转管;13、第一喷嘴;14、通气孔;15、连通盒;16、第二喷嘴;17、炉腿;18、排气管;19、阀门。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此,以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围,而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本实用新型的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
下面将参照附图和具体实施例对本实用新型作进一步的说明
实施例1
如图1、图2、图3、图4所示,本实用新型提供一种技术方案:包括炉体1、CVD反应器6、传动组件、公转喷嘴组件和自转喷嘴组件,炉体1的顶部固定安装有传动箱2;
传动组件设置在传动箱2的内部,公转喷嘴组件设置在CVD反应器6外侧的底部,自转喷嘴组件设置在公转喷嘴组件的两端;
传动组件用于带动CVD反应器6进行旋转;公转喷嘴组件带动自转喷嘴组件进行旋转。
在本实施例中,通过外界的设备将原料气输送到CVD反应器6中,再驱动传动组件带动CVD反应器6进行旋转进行充分的混合原料气,同时利用公转喷嘴组件和自转喷嘴组件,使得原料气更加均匀的喷入炉内,大大的增加设备的实用性,提高工作效率,有利于实际的应用与操作。
实施例2
如图1、图2、图3、图4所示,传动组件包括电机3、第一主齿轮4和第一从齿轮5,电机3固定安装在传动箱2的顶部,电机3的输出轴延伸至传动箱2的内部,第一主齿轮4固定安装在电机3的输出轴上,CVD反应器6转动连接在传动箱2的顶部,CVD反应器6的贯穿传动箱2且延伸至炉体1的内部,第一从齿轮5固定安装在CVD反应器6的外侧且位于传动箱2的内部,第一主齿轮4与第一从齿轮5啮合连接。
在本实施例中,通过驱动电机3带动第一主齿轮4和第一从齿轮5进行转动,进而带动CVD反应器6进行转动,为后续的运作公转喷嘴组件和自转喷嘴组件作铺垫。
实施例3
如图1、图2、图3、图4所示,公转喷嘴组件包括四个连接管8和四个第一喷嘴13,连接管8等距安装在CVD反应器6外侧的底部,连接管8均与CVD反应器6的内部相通,第一喷嘴13均固定连接在连接管8远离CVD反应器6的一端,第一喷嘴13均与连接管8相通。
在本实施例中,通过CVD反应器6的旋转,带动连接管8上的第一喷嘴13进行旋转,使得原料气均匀的喷入炉内。
实施例4
如图1、图2、图3、图4所示,自转喷嘴组件包括套筒9、第二主齿轮10、两个第二从齿轮11、两个转管12、通气孔14、两个连通盒15和八个第二喷嘴16,套筒9转动连接在炉体1内壁的顶部且位于CVD反应器6的外侧,第二主齿轮10固定安装在套筒9的外侧,转管12均转动连接在连接管8的内部,通气孔14均等距开设在转管12的外侧且位于连接管8的内部,转管12的两端均延伸至连接管8的外侧,第二从齿轮11均固定安装在转管12的顶端,连通盒15均固定安装在转管12的底端,连通盒15均与转管12相通,第二喷嘴16等距安装在连通盒15的底部,第二喷嘴16均与连通盒15的内部相通,第一喷嘴13与第二喷嘴16均用于CVD反应器6。
在本实施例中,通过连接管8的旋转,带动转管12上的第二从齿轮11与第二主齿轮10进行转动,从而带动转管12进行自转,从而带动连通盒15底部的第二喷嘴16进行自转,进一步增强了原料气均匀的喷入炉内。
实施例5
如图1、图2、图3、图4所示,CVD反应器6的顶部固定安装有旋转接头7,炉体1的底部固定安装有排气管18,排气管18与炉体1的内部相通,排气管18的外侧设置有阀门19。
在本实施例中,通过设置旋转接头7,避免CVD反应器6转动的同时带动外界设备进行转动,通过设置排气管18和阀门19,更加方便的控制原料气的流向。
实施例6
如图1、图2、图3、图4所示,炉体1底部的四角均固定安装有炉腿17,CVD反应器6、电机3均与外界的控制面板电性连接。
在本实施例中,通过设置炉腿17,有效的对炉体1进行稳定的放置,通过设置电性连接,更加方便的驱动设备。
工作原理:
如图1、图2、图3、图4所示,本申请中的一种带有喷嘴的CVD反应器的方式与中国专利公告号为CN215757598U的一种用于CVD反应器的喷嘴装置及CVD反应器的原理相同,属于现有技术,不必作过多赘述;
在CVD反应设备技术领域中,通过外界的设备将原料气输送到CVD反应器6中,同时通过驱动电机3带动第一主齿轮4和第一从齿轮5进行转动,进而带动CVD反应器6进行转动,为后续的运作公转喷嘴组件和自转喷嘴组件作铺垫,通过CVD反应器6的旋转,带动连接管8上的第一喷嘴13进行旋转,使得原料气均匀的喷入炉内,通过连接管8的旋转,带动转管12上的第二从齿轮11与第二主齿轮10进行转动,从而带动转管12进行自转,从而带动连通盒15底部的第二喷嘴16进行自转,进一步增强了原料气均匀的喷入炉内,大大的增加设备的实用性,提高工作效率,有利于实际的应用与操作。
最后应说明的是:以上所述的各实施例仅用于说明本实用新型的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或全部技术特征进行等同替换;而这些修改或替换,并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。
Claims (6)
1.一种带有喷嘴的CVD反应器,包括炉体(1)、CVD反应器(6)、传动组件、公转喷嘴组件和自转喷嘴组件,其特征在于:所述炉体(1)的顶部固定安装有传动箱(2);
所述传动组件设置在传动箱(2)的内部,所述公转喷嘴组件设置在CVD反应器(6)外侧的底部,所述自转喷嘴组件设置在公转喷嘴组件的两端;
所述传动组件用于带动CVD反应器(6)进行旋转;所述公转喷嘴组件带动自转喷嘴组件进行旋转。
2.根据权利要求1所述的一种带有喷嘴的CVD反应器,其特征在于:所述传动组件包括电机(3)、第一主齿轮(4)和第一从齿轮(5),所述电机(3)固定安装在传动箱(2)的顶部,所述电机(3)的输出轴延伸至传动箱(2)的内部,所述第一主齿轮(4)固定安装在电机(3)的输出轴上,所述CVD反应器(6)转动连接在传动箱(2)的顶部,所述CVD反应器(6)的贯穿传动箱(2)且延伸至炉体(1)的内部,所述第一从齿轮(5)固定安装在CVD反应器(6)的外侧且位于传动箱(2)的内部,所述第一主齿轮(4)与第一从齿轮(5)啮合连接。
3.根据权利要求2所述的一种带有喷嘴的CVD反应器,其特征在于:所述公转喷嘴组件包括四个连接管(8)和四个第一喷嘴(13),所述连接管(8)等距安装在CVD反应器(6)外侧的底部,所述连接管(8)均与CVD反应器(6)的内部相通,所述第一喷嘴(13)均固定连接在连接管(8)远离CVD反应器(6)的一端,所述第一喷嘴(13)均与连接管(8)相通。
4.根据权利要求3所述的一种带有喷嘴的CVD反应器,其特征在于:所述自转喷嘴组件包括套筒(9)、第二主齿轮(10)、两个第二从齿轮(11)、两个转管(12)、通气孔(14)、两个连通盒(15)和八个第二喷嘴(16),所述套筒(9)转动连接在炉体(1)内壁的顶部且位于CVD反应器(6)的外侧,所述第二主齿轮(10)固定安装在套筒(9)的外侧,所述转管(12)均转动连接在连接管(8)的内部,所述通气孔(14)均等距开设在转管(12)的外侧且位于连接管(8)的内部,所述转管(12)的两端均延伸至连接管(8)的外侧,所述第二从齿轮(11)均固定安装在转管(12)的顶端,所述连通盒(15)均固定安装在转管(12)的底端,所述连通盒(15)均与转管(12)相通,所述第二喷嘴(16)等距安装在连通盒(15)的底部,所述第二喷嘴(16)均与连通盒(15)的内部相通,所述第一喷嘴(13)与第二喷嘴(16)均用于CVD反应器(6)。
5.根据权利要求2所述的一种带有喷嘴的CVD反应器,其特征在于:所述CVD反应器(6)的顶部固定安装有旋转接头(7),所述炉体(1)的底部固定安装有排气管(18),所述排气管(18)与炉体(1)的内部相通,所述排气管(18)的外侧设置有阀门(19)。
6.根据权利要求2所述的一种带有喷嘴的CVD反应器,其特征在于:所述炉体(1)底部的四角均固定安装有炉腿(17),所述CVD反应器(6)、电机(3)均与外界的控制面板电性连接。
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