CN218133000U - 工作台和狭缝涂布设备 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种工作台和狭缝涂布设备,所述工作台包括基台、基板、支撑板和顶升件,所述基板可拆卸地安装在所述基台上,所述基板上开设有沿竖直方向延伸的通孔,所述支撑板可滑动地设在所述通孔内,所述顶升件安装在所述基台或所述基板上并与所述支撑板相连,顶升件用于带动所述支撑板在所述通孔内滑动。本实用新型的工作台在基台上预装一个基板,并在基板上设置符合现有需求的晶硅片形状和尺寸的通孔,使工作台可兼容多个种类和多个尺寸的样品,提高工作台的适用范围。

Description

工作台和狭缝涂布设备
技术领域
本实用新型涉及太阳电池技术领域,尤其涉及一种工作台和狭缝涂布设备。
背景技术
狭缝涂布作为一种精密的涂布技术,常用于大面积钙钛矿薄膜的制备,狭缝涂布设备的工作原理为涂布液在一定压力一定流量下沿着涂布模具的缝隙挤压喷出而转移到基板上。相关技术中,狭缝涂布设备只能使用硬质的基板,例如玻璃,不适用于晶硅这种易碎的基板,导致狭缝涂布设备的适用范围小,不利于狭缝涂布技术的推广应用。
实用新型内容
本实用新型旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本实用新型的实施例提出一种工作台,该工作台在基台上预装一个基板,并在基板上设置符合现有需求的晶硅片形状和尺寸的通孔,使工作台可兼容多个种类和多个尺寸的样品,提高工作台的适用范围。
本实用新型第二方面实施例还提出了一种狭缝涂布设备。
本实用新型实施例的工作台包括基台、基板、支撑板和顶升件,所述基板可拆卸地安装在所述基台上,所述基板上开设有沿竖直方向延伸的通孔,所述支撑板可滑动地设在所述通孔内,所述顶升件安装在所述基台或所述基板上并与所述支撑板相连,顶升件用于带动所述支撑板在所述通孔内滑动。
本实用新型实施例的工作台通过在基台上预装一个基板,并在基板上设置符合现有需求的晶硅片形状和尺寸的通孔,使工作台可兼容多个种类和多个尺寸的样品,提高工作台的适用范围,支撑板和顶升件抬升晶硅片使晶硅片上表面与基台表面平齐,提高涂布质量。
在一些实施例中,所述基板包括沿涂布方向相连的预涂区和涂布区,所述通孔设在所述涂布区上。
在一些实施例中,所述通孔为多个,多个所述通孔沿涂布方向间隔布置。
在一些实施例中,所述通孔的横截面形状为矩形;和/或,所述通孔的横截面形状为带有倒角的矩形。
在一些实施例中,所述顶升件为气缸,所述气缸的缸体安装在所述通孔的孔壁上,所述气缸的活塞杆与所述支撑板的下表面相连。
在一些实施例中,所述支撑板上设有沿竖直方向延伸的吸附孔,所述工作台还包括真空泵,所述真空泵通过管路与所述吸附孔的下端相连。
本实用新型第二方面实施例的狭缝涂布设备包括狭缝组件、脉冲组件和上述任一项实施例所述的工作台,所述狭缝组件安装在所述工作台上,且所述狭缝组件与所述工作台可相对移动,所述狭缝组件用于在所述工作台上涂布钙钛矿薄膜,所述脉冲组件安装在所述工作台上,且所述脉冲组件与所述工作台可相对移动,所述脉冲组件用于对所述钙钛矿薄膜进行加热。
本实施例的狭缝涂布设备通过采用上述实施例的工作台,使狭缝涂布设备可兼容多个种类和多个尺寸的样品,提高了狭缝涂布设备的适用范围,而且利用脉冲组件加热和退火,升温和降温时间短且可大面积加热,有利于提高钙钛矿薄膜质量及稳定性,由于脉冲光为辐射加热,无需导热介质,并可通过控制脉冲时间、波长等手段实现选择性加热,工艺耗时短,易于集成,有利于大面积钙钛矿薄膜的生产。
在一些实施例中,所述工作台的两侧设有导轨,所述狭缝组件和所述脉冲组件均可滑动地安装在所述导轨上。
在一些实施例中,所述狭缝组件包括:
第一支架,所述第一支架的下端可滑动地安装在所述导轨上,所述第一支架为两个并与两个所述导轨一一对应;
狭缝式喷嘴,所述狭缝式喷嘴的两端分别与两个所述第一支架的上端相连,所述狭缝式喷嘴朝向所述工作台;
储液仓,所述储液仓安装在所述第一支架上,所述储液仓通过管路与所述狭缝式喷嘴连通。
在一些实施例中,所述狭缝式喷嘴包括相连的主体部和喷嘴部,所述主体部与所述储液仓连通,所述喷嘴部上设有用于出液的狭缝,所述狭缝的延伸方向垂直于所述导轨的长度方向。
在一些实施例中,所述脉冲组件包括:
第二支架,所述第二支架的下端可滑动地安装在所述导轨上,所述第二支架为两个并与两个所述导轨一一对应;
灯罩,所述灯罩的两端分别与两个所述第二支架的上端相连,所述灯罩的下端敞开设置以形成开口,所述灯罩的内壁面上设有反光层;
脉冲灯,所述脉冲灯设在所述灯罩内,所述脉冲灯发出的脉冲光照可经所述开口射向所述工作台。
附图说明
图1是本实用新型实施例的工作台的轴测图。
图2是本实用新型实施例的狭缝涂布设备的立体示意图。
图3是本实用新型实施例的狭缝涂布设备的俯视图。
图4是本实用新型图3中A-A向剖视图。
附图标记:
工作台100;
基台1;
基板2;通孔21;预涂区22;涂布区23;
支撑板3;吸附孔31;
狭缝组件4;第一支架41;狭缝式喷嘴42;主体部421;喷嘴部422;储液仓43;
脉冲组件5;第二支架51;灯罩52;脉冲灯53;
导轨6。
具体实施方式
下面详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。
以下结合附图描述本实用新型第一方面实施例的工作台。
如图1所示,本实用新型实施例的工作台包括基台1、基板2、支撑板3和顶升件(未示出),基板2可拆卸地安装在基台1上,基板2上开设有沿竖直方向延伸的通孔21,通孔21的形状和尺寸与现有需求的晶硅片形状和尺寸相同,通过在基台1上设置不同的基板2即可实现不同形状和尺寸的晶硅片的涂布制作,支撑板3可滑动地设在通孔21内,顶升件安装在基台1或基板2上并与支撑板3相连,顶升件用于带动支撑板3在通孔21内沿竖直方向滑动,支撑板3在顶升件的作用下带动通孔21内的晶硅片沿竖直方向滑动。
本实用新型实施例的工作台通过在基台1上预装一个基板2,并在基板2上设置符合现有需求的晶硅片形状和尺寸的通孔21,使工作台可兼容多个种类和多个尺寸的样品,提高工作台的适用范围,支撑板3和顶升件抬升晶硅片使晶硅片上表面与基台1表面平齐,提高涂布质量。
如图1所示,在一些实施例中,基板2包括沿涂布方向相连的预涂区22和涂布区23,通孔21设在涂布区23上,涂布工作时,涂布设备在预涂区22开始运行,使得涂布设备涂布至涂布区23时能保证涂覆均匀。
如图1所示,在一些实施例中,通孔21为多个,多个通孔21沿涂布方向间隔布置,使一次涂布工序即可完成多个晶硅片的涂布,提高了涂布效率。
如图1所示,在一些实施例中,通孔21的横截面形状为矩形,和/或,通孔21的横截面形状为带有倒角的矩形;通孔21的尺寸为标准硅片尺寸,例如全方硅片G1、全方硅片G12、倒角硅片M2、倒角硅片M6。此外,通孔21的横截面形状还可以为长条状的矩形以匹配CIGS薄膜电池衬底。由此,在这些实施例中,本实用新型实施例的工作台通过设置不同规格的通孔21,从而可以生产不同规格的硅片以及不同规格的CIGS薄膜电池。
在一些实施例中,顶升件为气缸,气缸的缸体安装在通孔21的孔壁上,气缸的活塞杆与支撑板3的下表面相连。
如图1所示,在一些实施例中,支撑板3上设有沿竖直方向延伸的吸附孔31,工作台还包括真空泵,真空泵通过管路与吸附孔31的下端相连,将硅片放置在支撑板3上后启动真空泵,真空泵通过吸附孔31将硅片吸附在支撑板3上,防止硅片窜动而影响涂布质量。
以下结合附图描述本实用新型第二方面实施例狭缝涂布设备。
如图2至图4所示,本实用新型实施例的狭缝涂布设备包括狭缝组件4、脉冲组件5和上述任一项实施例的工作台100,狭缝组件4安装在工作台100上,且狭缝组件4与工作台100可相对移动,狭缝组件4用于在工作台100上涂布钙钛矿薄膜,脉冲组件5安装在工作台100上,且脉冲组件5与工作台100可相对移动,脉冲组件5用于对钙钛矿薄膜进行加热,狭缝组件4和脉冲组件5同步运动,即狭缝组件4和脉冲组件5在任意时间内,狭缝组件4和脉冲组件5的移动方向和移动速度均相同。
本实施例的狭缝涂布设备通过采用上述实施例的工作台100,使狭缝涂布设备可兼容多个种类和多个尺寸的样品,提高了狭缝涂布设备的适用范围,而且利用脉冲组件5加热和退火,升温和降温时间短且可大面积加热,有利于提高钙钛矿薄膜质量及稳定性,由于脉冲光为辐射加热,无需导热介质,并可通过控制脉冲时间、波长等手段实现选择性加热,工艺耗时短,易于集成,有利于大面积钙钛矿薄膜的生产。
如图2和图3所示,在一些实施例中,工作台100的两侧设有导轨6,狭缝组件4和脉冲组件5均可滑动地安装在导轨6上,导轨6保证了狭缝组件4和脉冲组件5的移动方向,避免狭缝组件4和脉冲组件5发生偏移而影响涂布的质量。。
如图2至图4所示,在一些实施中,狭缝组件4包括第一支架41、狭缝式喷嘴42和储液仓43,第一支架41的下端可滑动地安装在导轨6上,第一支架41为两个并与两个导轨6一一对应,狭缝式喷嘴42的两端分别与两个第一支架41的上端相连,狭缝式喷嘴42朝向工作台100,储液仓43安装在第一支架41上,储液仓43通过管路与狭缝式喷嘴42连通。储液仓43向狭缝式喷嘴42提供原料,原料从狭缝式喷嘴42处喷涂以形成钙钛矿薄膜。
如图4所示,进一步地,狭缝式喷嘴42包括相连的主体部421和喷嘴部422,主体部421与储液仓43连通,喷嘴部422上设有用于出液的狭缝,狭缝的延伸方向垂直于导轨6的长度方向。储液仓43内的原料通过管道进入狭缝式喷嘴42的主体部421并暂存于主体部421,喷嘴部422对原料进行整形后喷涂于工作台100,随着狭缝式喷嘴42的移动,原料在工作台100上形成连续的平面以形成钙钛矿薄膜。
如图2至图4所示,在一些实施例中,脉冲组件5包括第二支架51、灯罩52和脉冲灯53,第二支架51的下端可滑动地安装在导轨6上,第二支架51为两个并与两个导轨6一一对应,灯罩52的两端分别与两个第二支架51的上端相连,灯罩52的下端敞开设置以形成开口,灯罩52的内壁面上设有反光层,脉冲灯53设在灯罩52内,脉冲灯53发出的脉冲光照可经开口射向工作台100。脉冲灯53发出脉冲光线并达到反光层后,反光层将射向反光层的光线反射,脉冲光线直接或通过反光层反射后射向工作台100。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接或彼此可通讯;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本实用新型中,术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管已经示出和描述了上述实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本实用新型的限制,本领域普通技术人员对上述实施例进行的变化、修改、替换和变型均在本实用新型的保护范围内。

Claims (11)

1.一种工作台,其特征在于,包括:
基台;
基板,所述基板可拆卸地安装在所述基台上,所述基板上开设有沿竖直方向延伸的通孔;
支撑板,所述支撑板可滑动地设在所述通孔内;
顶升件,所述顶升件安装在所述基台或所述基板上并与所述支撑板相连,顶升件用于带动所述支撑板在所述通孔内滑动。
2.根据权利要求1所述的工作台,其特征在于,所述基板包括沿涂布方向相连的预涂区和涂布区,所述通孔设在所述涂布区上。
3.根据权利要求1所述的工作台,其特征在于,所述通孔为多个,多个所述通孔沿涂布方向间隔布置。
4.根据权利要求1所述的工作台,其特征在于,所述通孔的横截面形状为矩形;
和/或,所述通孔的横截面形状为带有倒角的矩形。
5.根据权利要求1所述的工作台,其特征在于,所述顶升件为气缸,所述气缸的缸体安装在所述通孔的孔壁上,所述气缸的活塞杆与所述支撑板的下表面相连。
6.根据权利要求1所述的工作台,其特征在于,所述支撑板上设有沿竖直方向延伸的吸附孔,所述工作台还包括真空泵,所述真空泵通过管路与所述吸附孔的下端相连。
7.一种狭缝涂布设备,其特征在于,包括:
根据权利要求1-6任一项所述的工作台;
狭缝组件,所述狭缝组件安装在所述工作台上,且所述狭缝组件与所述工作台可相对移动,所述狭缝组件用于在所述工作台上涂布钙钛矿薄膜;
脉冲组件,所述脉冲组件安装在所述工作台上,且所述脉冲组件与所述工作台可相对移动,所述脉冲组件用于对所述钙钛矿薄膜进行加热。
8.根据权利要求7所述的狭缝涂布设备,其特征在于,所述工作台的两侧设有导轨,所述狭缝组件和所述脉冲组件均可滑动地安装在所述导轨上。
9.根据权利要求8所述的狭缝涂布设备,其特征在于,所述狭缝组件包括:
第一支架,所述第一支架的下端可滑动地安装在所述导轨上,所述第一支架为两个并与两个所述导轨一一对应;
狭缝式喷嘴,所述狭缝式喷嘴的两端分别与两个所述第一支架的上端相连,所述狭缝式喷嘴朝向所述工作台;
储液仓,所述储液仓安装在所述第一支架上,所述储液仓通过管路与所述狭缝式喷嘴连通。
10.根据权利要求9所述的狭缝涂布设备,其特征在于,所述狭缝式喷嘴包括相连的主体部和喷嘴部,所述主体部与所述储液仓连通,所述喷嘴部上设有用于出液的狭缝,所述狭缝的延伸方向垂直于所述导轨的长度方向。
11.根据权利要求8所述的狭缝涂布设备,其特征在于,所述脉冲组件包括:
第二支架,所述第二支架的下端可滑动地安装在所述导轨上,所述第二支架为两个并与两个所述导轨一一对应;
灯罩,所述灯罩的两端分别与两个所述第二支架的上端相连,所述灯罩的下端敞开设置以形成开口,所述灯罩的内壁面上设有反光层;
脉冲灯,所述脉冲灯设在所述灯罩内,所述脉冲灯发出的脉冲光照可经所述开口射向所述工作台。
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